The present invention relates to heteroleptic complexes comprising a phenylimidazole or phenyltriazole unit bonded via a carbene bond to a central metal atom, and phenylimidazole ligands attached via a nitrogen-metal bond to the central atom, to OLEDs which comprise such heteroleptic complexes, to light-emitting layers comprising at least one such heteroleptic complex, to a device selected from the group consisting of illuminating elements, stationary visual display units and mobile visual display units comprising such an OLED, to the use of such a heteroleptic complex in OLEDs, for example as emitter, matrix material, charge transport material and/or charge blocker.
In one embodiment the semiconductor laser comprises a carrier and an edge-emitting laser diode which is mounted on the carrier and which comprises an active zone for generating a laser radiation and a facet with a radiation exit region. The semiconductor laser further comprises a protective cover, preferably a lens for collimation of the laser radiation. The protective cover is fastened to the facet and to a side surface of the carrier by means of an adhesive. A mean distance between a light entrance side of the protective cover and the facet is at most 60 μm. The semiconductor laser is configured to be operated in a normal atmosphere without additional gas-tight encapsulation.
H01S 5/02253 - Découplage de lumière utilisant des lentilles
H01S 5/02326 - Dispositions pour le positionnement relatif des diodes laser et des composants optiques, p.ex. rainures dans le support pour fixer des fibres optiques ou des lentilles
H01S 5/0236 - Fixation des puces laser sur des supports en utilisant un adhésif
A lighting device includes a phosphor having the general molecular formula (MA)a(MB)b(MC)c(MD)d(TA)e(TB)f(TC)g(TD)h(TE)i(TF)j(XA)k(XB)l(XC)m(X D)n:E. MA is selected from a group of monovalent metals, MB is selected from a group of divalent metals, MC is selected from a group of trivalent metals, MD is selected from a group of tetravalent metals, TA is selected from a group of monovalent metals, TB is selected from a group of divalent metals, TC is selected from a group of trivalent metals, TD is selected from a group of tetravalent metals, TE is selected from a group of pentavalent elements, TF is selected from a group of hexavalent elements, XA is selected from a group of elements which comprises halogens, XB is selected from a group of elements which comprises O, S and combinations thereof, XC=N and XD=C and E=Eu, Ce, Yb and/or Mn.
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
4.
RADIATION-EMITTING SEMICONDUCTOR COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING RADIATION-EMITTING SEMICONDUCTOR COMPONENT
A radiation-emitting semiconductor device (1) is specified, comprising a semiconductor body (2) having an active region (20) provided for generating radiation, a carrier (3) on which the semiconductor body is arranged and an optical element (4), wherein the optical element is attached to the semiconductor body by a direct bonding connection.
A radiation-emitting semiconductor device (1) is specified, comprising a semiconductor body (2) having an active region (20) provided for generating radiation, a carrier (3) on which the semiconductor body is arranged and an optical element (4), wherein the optical element is attached to the semiconductor body by a direct bonding connection.
Furthermore, a method for producing of radiation-emitting semiconductor devices is specified.
H01L 33/58 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 33/46 - Revêtement réfléchissant, p.ex. réflecteur de Bragg en diélectriques
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
5.
RADIATION-EMITTING COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING A RADIATION-EMITTING COMPONENT
A radiation-emitting component is specified with
a carrier having a cavity,
a radiation-emitting semiconductor chip which is arranged on a bottom surface delimiting the cavity and which is configured to generate primary electromagnetic radiation, and
a first reflector layer arranged above a top surface of the semiconductor chip, wherein
the carrier is transparent in places to the primary electromagnetic radiation, and
the semiconductor chip is spaced apart from at least one side surface delimiting the cavity.
H01L 33/48 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs
H01L 33/60 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique Éléments réfléchissants
The invention relates to a semiconductor laser including a carrier, an edge-emitting laser diode which is arranged on the carrier and which has an active zone for generating laser radiation and a facet with a radiation exit area, an optical element which covers the facet, a connecting material which is arranged between the optical element and the facet, a molded body which covers the laser diode and the optical element at least in places, wherein the optical element is at least partially transparent to the laser radiation emitted by the laser diode during operation, and the optical element is designed to change the main propagation direction of the laser radiation entering the optical element during operation.
H01S 5/02234 - Boîtiers remplis de résine; Boîtiers en résine
H01S 5/02216 - Supports; Boîtiers caractérisés par la forme des boîtiers du type papillon, c.-à-d. avec les broches d’électrode s’étendant latéralement depuis le boîtier
H01S 5/40 - Agencement de plusieurs lasers à semi-conducteurs, non prévu dans les groupes
H01S 5/185 - Lasers à émission de surface [lasers SE], p.ex. comportant à la fois des cavités horizontales et verticales comportant uniquement des cavités horizontales, p.ex. lasers à émission de surface à cavité horizontale [HCSEL]
In one embodiment, the optoelectronic semiconductor chip comprises a semiconductor layer sequence with an active zone for generating radiation with a wavelength of maximum intensity L. A mirror comprises a cover layer. The cover layer is made of a material transparent to the radiation and has an optical thickness between 0.5 L and 3 L inclusive. The cover layer is followed in a direction away from the semiconductor layer sequence by between inclusive two and inclusive ten intermediate layers of the mirror. The intermediate layers alternately have high and low refractive indices. An optical thickness of at least one of the intermediate layers is not equal to L/4. The intermediate layers are followed in the direction away from the semiconductor layer sequence by at least one metal layer of the mirror as a reflection layer.
A semiconductor laser diode is specified, the semiconductor laser diode includes a semiconductor layer sequence having an active layer having a main extension plane and which, in operation, is configured to generate light in an active region and emit light via a light-outcoupling surface, the active region extending from a back surface opposite the light-outcoupling surface to the light-outcoupling surface along a longitudinal direction in the main extension plane, the semiconductor layer sequence having a surface region on which a first cladding layer is applied in direct contact, the first cladding layer having a transparent material from a material system different from the semiconductor layer sequence, and the first cladding layer being structured and having a first structure.
H01S 5/32 - Structure ou forme de la région active; Matériaux pour la région active comprenant des jonctions PN, p.ex. hétérostructures ou doubles hétérostructures
H01S 5/323 - Structure ou forme de la région active; Matériaux pour la région active comprenant des jonctions PN, p.ex. hétérostructures ou doubles hétérostructures dans des composés AIIIBV, p.ex. laser AlGaAs
In an embodiment a radiation-emitting semiconductor chip includes a semiconductor body having an active region configured to generate radiation, a first contact layer having a first contact area and a first contact finger structure connected to the first contact area, a second contact layer having a second contact area and a second contact finger structure connected to the second contact area, a current distribution layer electrically conductively connected to the first contact layer, a connection layer electrically conductively connected to the first contact layer via the current distribution layer and an insulation layer, wherein the insulation layer is arranged in places between the connection layer and the current distribution layer, wherein the insulation layer has at a plurality of openings, in which the connection layer and the current distribution layer adjoin one another, and wherein edge regions of the insulation layer includes more openings than a central region of the insulation layer.
In one embodiment, the optoelectronic semiconductor chip comprises a semiconductor layer sequence with an active zone for generating a radiation. The semiconductor layer sequence is based on AlInGaP and/or on AlInGaAs. A metal mirror for the radiation is located on a rear side of the semiconductor layer sequence opposite a light extraction side. A protective metallization is applied directly to a side of the metal mirror facing away from the semiconductor layer sequence. An adhesion promoting layer is located directly on a side of the metal mirror facing the semiconductor layer sequence. The adhesion promoting layer is an encapsulation layer for the metal mirror, so that the metal mirror is encapsulated at least at one outer edge by the adhesion promoting layer together with the protective metallization.
An optoelectronic semiconductor component includes a primary light source including a carrier and a semiconductor layer sequence mounted thereon and configured to generate primary light, and at least one conversion unit of at least one semiconductor material adapted to convert the primary light into at least one secondary light, wherein the semiconductor layer sequence and the converter unit are separate elements, the semiconductor layer sequence includes a plurality of pixels, the pixels are configured to be controlled electrically independently of each other, the carrier includes a plurality of control units configured to drive the pixels, all pixels of a first group are free of a conversion unit and are configured to emit the primary light, all pixels of a second group of pixels include exactly one conversion unit each and are configured to emit the at least one secondary light.
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
H01L 27/15 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants semi-conducteurs avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, spécialement adaptés pour l'émission de lumière
12.
Semiconductor laser and method of production for optoelectronic semiconductor parts
In one embodiment the semiconductor laser comprises a carrier and an edge-emitting laser diode which is mounted on the carrier and which comprises an active zone for generating a laser radiation and a facet with a radiation exit region. The semiconductor laser further comprises a protective cover, preferably a lens for collimation of the laser radiation. The protective cover is fastened to the facet and to a side surface of the carrier by means of an adhesive. A mean distance between a light entrance side of the protective cover and the facet is at most 60 μm. The semiconductor laser is configured to be operated in a normal atmosphere without additional gas-tight encapsulation.
H01S 5/0236 - Fixation des puces laser sur des supports en utilisant un adhésif
H01S 5/02253 - Découplage de lumière utilisant des lentilles
H01S 5/02326 - Dispositions pour le positionnement relatif des diodes laser et des composants optiques, p.ex. rainures dans le support pour fixer des fibres optiques ou des lentilles
An optoelectronic arrangement is specified, including a moulded body having a base surface, a first pixel group with a multiplicity of pixels assigned thereto, each having a first semiconductor region, a second semiconductor region and an active region, a multiplicity of separating structures arranged between the pixels, and at least one first contact structure having a first contact plane and a first contact location, which is freely accessible at the base surface, wherein the pixels of the first pixel group are arranged alongside one another at the top surface, the first semiconductor regions and/or the second semiconductor regions of adjacent pixels of the first pixel group are electrically insulated from one another by means of the separating structures, a first contact structure is assigned one-to-one to the first pixel group, and the first semiconductor regions of the pixels of the first pixel group are electrically conductively connected to one another by means of the first contact plane and are electrically contactable by means of the first contact location.
H01L 33/38 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les électrodes ayant une forme particulière
H01L 33/08 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une pluralité de régions électroluminescentes, p.ex. couche électroluminescente discontinue latéralement ou région photoluminescente intégrée au sein du corps semi-conducteur
H01L 33/36 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les électrodes
H01L 27/15 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants semi-conducteurs avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, spécialement adaptés pour l'émission de lumière
H01L 31/0232 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails - Détails Éléments ou dispositions optiques associés au dispositif
The invention relates to a method for producing a plurality of optoelectronic semiconductor components, including the following steps: preparing a plurality of semiconductor chips spaced in a lateral direction to one another; forming a housing body assembly, at least one region of which is arranged between the semiconductor chips; forming a plurality of fillets, each adjoining a semiconductor chip and being bordered in a lateral direction by a side surface of each semiconductor chip and the housing body assembly; and separating the housing body assembly into a plurality of optoelectronic components, each component having at least one semiconductor chip and a portion of the housing body assembly as a housing body, and each semiconductor chip not being covered by material of the housing body on a radiation emission surface of the semiconductor component, which surface is located opposite a mounting surface. The invention also relates to a semiconductor component.
H01L 31/0232 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails - Détails Éléments ou dispositions optiques associés au dispositif
H01L 31/18 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
H01L 33/48 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs
H01L 33/56 - Matériaux, p.ex. résine époxy ou silicone
H01L 21/56 - Capsulations, p.ex. couches de capsulation, revêtements
In one embodiment, the optoelectronic semiconductor chip comprises a semiconductor layer sequence with an active zone for generating radiation with a wavelength of maximum intensity L. A mirror comprises a cover layer. The cover layer is made of a material transparent to the radiation and has an optical thickness between 0.5 L and 3 L inclusive. The cover layer is followed in a direction away from the semiconductor layer sequence by between inclusive two and inclusive ten intermediate layers of the mirror. The intermediate layers alternately have high and low refractive indices. An optical thickness of at least one of the intermediate layers is not equal to L/4. The intermediate layers are followed in the direction away from the semiconductor layer sequence by at least one metal layer of the mirror as a reflection layer.
n:E. In this case, MA is selected from a group of monovalent metals, MB is selected from a group of divalent metals, MC is selected from a group of trivalent metals, MD is selected from a group of tetravalent metals, TA is selected from a group of monovalent metals, TB is selected from a group of divalent metals, TC is selected from a group of trivalent metals, TD is selected from a group of tetravalent metals, TE is selected from a group of pentavalent elements, TF is selected from a group of hexavalent elements, XA is selected from a group of elements which comprises halogens, XB is selected from a group of elements which comprises O, S and combinations thereof, XC=N and XD=C and E=Eu, Ce, Yb and/or Mn. The following furthermore hold true: a+b+c+d=t; e+f+g+h+i+j=u; k+l+m+n=v; a+2b+3c+4d+e+2f+3g+4h+5i+6j−k−2l−3m−4n=w; 0.8≤t≤1; −3.5≤u≤4; 3.5≤v≤4; (−0.2)≤w≤0.2 and 0≤m<0.875 v and/or v≥l>0.125 v.
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
C09K 11/77 - Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances inorganiques luminescentes contenant des métaux des terres rares
An edge emitting laser bar is disclosed. In an embodiment an edge-emitting laser bar includes an AlInGaN-based semiconductor layer sequence having a contact side and an active layer configured to generate laser radiation, a plurality of individual emitters arranged next to each other and spaced apart from one another in a lateral transverse direction, each emitter configured to emit laser radiation and a plurality of contact elements arranged next to each other and spaced apart from one another in the lateral transverse direction on the contact side for making electrical contact with the individual emitters, each contact element being assigned to an individual emitter, wherein each contact element is electrically conductively coupled to the semiconductor layer sequence via a contiguous contact region of the contact side so that a current flow between the semiconductor layer sequence and the contact element is possible via the contact region.
H01S 5/22 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique ayant une structure à nervures ou à bandes
H01S 5/323 - Structure ou forme de la région active; Matériaux pour la région active comprenant des jonctions PN, p.ex. hétérostructures ou doubles hétérostructures dans des composés AIIIBV, p.ex. laser AlGaAs
A semiconductor laser diode is specified, the semiconductor laser diode includes a semiconductor layer sequence having an active layer having a main extension plane and which, in operation, is configured to generate light in an active region and emit light via a light-outcoupling surface, the active region extending from a back surface opposite the light-outcoupling surface to the light-outcoupling surface along a longitudinal direction in the main extension plane, the semiconductor layer sequence having a surface region on which a first cladding layer is applied in direct contact, the first cladding layer having a transparent material from a material system different from the semiconductor layer sequence, and the first cladding layer being structured and having a first structure.
H01S 5/22 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique ayant une structure à nervures ou à bandes
H01S 5/32 - Structure ou forme de la région active; Matériaux pour la région active comprenant des jonctions PN, p.ex. hétérostructures ou doubles hétérostructures
H01S 5/323 - Structure ou forme de la région active; Matériaux pour la région active comprenant des jonctions PN, p.ex. hétérostructures ou doubles hétérostructures dans des composés AIIIBV, p.ex. laser AlGaAs
19.
Method for Fastening a Semiconductor Chip on a Substrate, and Electronic Component
In an embodiment a method includes providing a semiconductor chip, applying a solder metal layer sequence on the semiconductor chip, providing a substrate, applying a metallization layer sequence on the substrate, applying the semiconductor chip on the substrate via the solder metal layer sequence and the metallization layer sequence and heating the applied semiconductor chip on the substrate for fastening the semiconductor chip on the substrate, wherein the solder metal layer sequence includes a first metallic layer including an indium-tin alloy, a barrier layer arranged above the first metallic layer, and a second metallic layer having gold arranged between the barrier layer and the semiconductor chip, and wherein the indium-tin alloy has the following formula: InxSn1-x with 0.04≤x≤0.2.
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
20.
Optoelectronic semiconductor device and method for manufacturing an optoelectronic semiconductor device
In an embodiment a method for manufacturing an optoelectronic semiconductor device includes providing a semiconductor body having an active region configured to generate electromagnetic radiation and a coupling-out surface along a main radiation direction, forming a mask layer having a plurality of recesses on the coupling-out surface on the semiconductor body, depositing metallic separators in the recesses and applying a wavelength conversion element to the coupling-out surface of the semiconductor body such that the metallic separators are at least partially embedded therein.
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
H01L 33/60 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique Éléments réfléchissants
H01L 27/15 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants semi-conducteurs avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, spécialement adaptés pour l'émission de lumière
21.
Radiation-emitting semiconductor component and method for producing radiation-emitting semiconductor component
A radiation-emitting semiconductor device (1) is specified, comprising a semiconductor body (2) having an active region (20) provided for generating radiation, a carrier (3) on which the semiconductor body is arranged and an optical element (4), wherein the optical element is attached to the semiconductor body by a direct bonding connection.
Furthermore, a method for producing of radiation-emitting semiconductor devices is specified.
H01L 33/58 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 33/46 - Revêtement réfléchissant, p.ex. réflecteur de Bragg en diélectriques
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
A semiconductor laser diode includes a semiconductor body having an emitter region; and a first connection element that electrically contacts the semiconductor body in the emitter region, wherein the semiconductor body is in contact with the first connection element in the emitter region, at least in places in the emitter region, the semiconductor body has a structuring that enlarges a contact area between the semiconductor body and the first connection element, the semiconductor body includes a connection region that directly adjoins the first connection element at the contact area, and the connection region is a highly p-doped layer.
A light emitting device for optically reproducing a coded information includes a plurality of optical components. Each of the components is configured to emit light. The combination of the light emitted from the optical components provides coded information.
G06K 19/06 - Supports d'enregistrement pour utilisation avec des machines et avec au moins une partie prévue pour supporter des marques numériques caractérisés par le genre de marque numérique, p.ex. forme, nature, code
G06K 7/10 - Méthodes ou dispositions pour la lecture de supports d'enregistrement par radiation corpusculaire
24.
Optoelectronic semiconductor component comprising a first and second contact element, and method for producing the optoelectronic semiconductor component
An optoelectronic semiconductor element may include an optoelectronic semiconductor chip. The optoelectronic semiconductor chip may include a first semiconductor layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer of a second conductivity type, a first contact element connected to the first semiconductor layer in an electrically conductive manner, and a second contact element connected to the second semiconductor layer in an electrically conductive manner. The first semiconductor layer and the second semiconductor layer are arranged one above the other to form a layer stack. The first semiconductor layer to where the second semiconductor layer is exposed. The first contact element is arranged over the first semiconductor layer, and the second contact element is arranged over the first semiconductor layer.
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 33/38 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les électrodes ayant une forme particulière
25.
Method of manufacturing light emitting diodes and light emitting diode
H01L 33/10 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une structure réfléchissante, p.ex. réflecteur de Bragg en semi-conducteur
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 33/02 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs
H01L 33/06 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une structure à effet quantique ou un superréseau, p.ex. jonction tunnel au sein de la région électroluminescente, p.ex. structure de confinement quantique ou barrière tunnel
H01L 33/22 - Surfaces irrégulières ou rugueuses, p.ex. à l'interface entre les couches épitaxiales
H01L 33/32 - Matériaux de la région électroluminescente contenant uniquement des éléments du groupe III et du groupe V de la classification périodique contenant de l'azote
G01N 21/33 - Couleur; Propriétés spectrales, c. à d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes en recherchant l'effet relatif du matériau pour les longueurs d'ondes caractéristiques d'éléments ou de molécules spécifiques, p.ex. spectrométrie d'absorption atomique en utilisant la lumière ultraviolette
26.
Laser diode and method for manufacturing a laser diode
In an embodiment a laser diode includes a surface emitting semiconductor laser configured to emit electromagnetic radiation and an optical element arranged downstream of the semiconductor laser in a radiation direction, wherein the optical element includes a diffractive structure or a meta-optical structure or a lens structure, wherein the optical element and the semiconductor laser are cohesively connected to each other, and wherein the semiconductor laser and the optical element are integrated with the laser diode.
H01S 5/183 - Lasers à émission de surface [lasers SE], p.ex. comportant à la fois des cavités horizontales et verticales comportant uniquement des cavités verticales, p.ex. lasers à émission de surface à cavité verticale [VCSEL]
H01S 5/42 - Réseaux de lasers à émission de surface
An optoelectronic semiconductor component may include a first semiconductor layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer of a second conductivity type, and an active zone, wherein the first semiconductor layer and the second semiconductor layer are patterned to form a mesa so that parts of the second semiconductor layer are not covered by the first semiconductor layer and a portion of the active zone is exposed in the area of a mesa flank. The optoelectronic semiconductor component may include a passivation layer arranged over parts of the first semiconductor layer and over parts of the second semiconductor layer and over the exposed portion of the active zone. The optoelectronic semiconductor component furthermore contains a first metal layer and a second metal layer. The second metal layer covers the passivation layer in the area of the mesa flank.
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 33/60 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique Éléments réfléchissants
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 33/20 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une forme particulière, p.ex. substrat incurvé ou tronqué
28.
Beam conducting cavity structure, gas sensor and method for production thereof
In an embodiment a beam-guiding cavity structure includes at least one first curved surface, one second curved surface and one third curved surface spanning a cavity, the first-third curved surfaces respectively having at least one first focal point and one second focal point, wherein the cavity is configured such that substantially no distance is laterally formed between the first focal point of the first curved surface and the second focal point of the second curved surface, wherein the cavity is further configured such that substantially no distance is laterally formed between the first focal point of the second curved surface and the second focal point of the third curved surface, wherein the first focal point of the second curved surface is arranged next to a connecting line of the first and second focal points of the first curved surface, wherein the first focal point of the third curved surface is arranged next to a connecting line of the first and second focal points of the second curved surface, and wherein the first, second and third curved surfaces have different shapes or dimensions to one another.
G01N 21/3504 - Couleur; Propriétés spectrales, c. à d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes en recherchant l'effet relatif du matériau pour les longueurs d'ondes caractéristiques d'éléments ou de molécules spécifiques, p.ex. spectrométrie d'absorption atomique en utilisant la lumière infrarouge pour l'analyse des gaz, p.ex. analyse de mélanges de gaz
In an embodiment, the gain-guided semiconductor laser includes a semiconductor layer sequence and electrical contact pads. The semiconductor layer sequence includes an active zone for radiation generation, a waveguide layer, and a cladding layer. The semiconductor layer sequence further includes a current diaphragm layer which is electrically conductive along a resonator axis (R) in a central region and electrically insulating in adjoining edge regions. Transverse to the resonator axis (R), the central region includes a width of at least 10 μm and the edge regions includes at least a minimum width. The minimum width is 3 μm or more. Seen in plan view, the semiconductor layer sequence as well as at least one of the contact pads on the semiconductor layer sequence are continuous components extending in the central region as well as on both sides at least up to the minimum width in the direction transverse to the resonator axis adjoining the central region and beyond the central region.
A light-emitting component a first layer stack configured to generate light, at least one additional layer stack configured to generate light, where each of the first layer stack and the at least one additional layer stack are separately drivable from one another and where an auxiliary structure is arranged between the first layer stacks and the at least one additional layer stacks.
H10K 59/90 - Ensembles de plusieurs dispositifs comprenant au moins un élément organique émetteur de lumière
H01L 33/20 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une forme particulière, p.ex. substrat incurvé ou tronqué
In an embodiment a radiation-emitting semiconductor chip includes a semiconductor body having an active region configured to generate radiation, a first contact layer having a first contact area for external electrical contacting the radiation-emitting semiconductor chip and a first contact finger structure connected to the first contact area, a second contact layer having a second contact area for external electrical contacting the radiation-emitting semiconductor chip and a second contact finger structure connected to the second contact area, wherein the first contact finger structure and the second contact finger structure overlap in places in plan view of the radiation-emitting semiconductor chip, a current distribution layer electrically conductively connected to the first contact layer, a connection layer electrically conductively connected to the first contact layer via the current distribution layer and an insulation layer containing a dielectric material, wherein the insulation layer is arranged in places between the connection layer and the current distribution layer.
H01L 33/20 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une forme particulière, p.ex. substrat incurvé ou tronqué
H01L 33/14 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une structure contrôlant le transport des charges, p.ex. couche semi-conductrice fortement dopée ou structure bloquant le courant
H01L 33/32 - Matériaux de la région électroluminescente contenant uniquement des éléments du groupe III et du groupe V de la classification périodique contenant de l'azote
H01L 33/46 - Revêtement réfléchissant, p.ex. réflecteur de Bragg en diélectriques
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 33/38 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les électrodes ayant une forme particulière
H01L 33/08 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une pluralité de régions électroluminescentes, p.ex. couche électroluminescente discontinue latéralement ou région photoluminescente intégrée au sein du corps semi-conducteur
32.
Heating apparatus, method and system for producing semiconductor chips in the wafer assembly
A heating apparatus, a method and a system for producing semiconductor chips in a wafer assembly are disclosed. In an embodiment a method for producing semiconductor chips in a wafer composite includes providing a carrier having a wafer plane and a reference point, wherein the carrier is configured to accommodate at least one wafer composite in the wafer plane, providing a heating device comprising a heating plane and a first heating unit arranged laterally offset from the reference point in the heating plane, and arranging the heating device with its heating plane parallel to the wafer plane, arranging at least one wafer composite in the wafer plane of the carrier, rotating the carrier and the heating device relative to each other about an axis perpendicular to the heating plane and the wafer plane through the reference point, controlling the first heating unit such that a temperature of the carrier is influenced, providing a bending sensor for determining a bending characteristic value, the bending characteristic value being representative of a bending of the at least one wafer composite relative to the wafer plane and controlling the first heating unit based on the bending characteristic value.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
C23C 16/46 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour le chauffage du substrat
C30B 25/10 - Chauffage de l'enceinte de réaction ou du substrat
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
H01L 21/324 - Traitement thermique pour modifier les propriétés des corps semi-conducteurs, p.ex. recuit, frittage
H01L 21/66 - Test ou mesure durant la fabrication ou le traitement
H05B 6/40 - Etablissement d'une distribution désirée de la chaleur, p.ex. pour chauffer des parties déterminées des pièces à travailler
In an embodiment a component includes a carrier, at least one optoelectronic part arranged on the carrier, the optoelectronic part configured to emit electromagnetic radiation, a frame arranged on the carrier and enclosing a part space, wherein the optoelectronic part is arranged in the part space, and wherein the frame comprises a reflector, and a lens arranged on the frame and at least partially covering an opening of the part space, wherein the reflector is configured to direct the electromagnetic radiation onto the lens, wherein the lens is configured to direct the electromagnetic radiation of the optoelectronic part, and wherein the lens comprises at least a partial pyramidal-shaped section on a first side face facing toward the optoelectronic part.
H01L 33/58 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique
H01L 33/60 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique Éléments réfléchissants
In one embodiment, the semiconductor laser (1) comprises a semiconductor layer sequence (2) based on the material system AlInGaN with at least one active zone (22) for generating laser radiation. A heat sink (3) is thermally connected to the semiconductor layer sequence (2) and has a thermal resistance towards the semiconductor layer sequence (2). The semiconductor layer sequence (2) is divided into a plurality of emitter strips (4) and each emitter strip (4) has a width (b) of at most 0.3 mm in the direction perpendicular to a beam direction (R). The emitter strips (4) are arranged with a filling factor (FF) of less than or equal to 0.4. The filling factor (FF) is set such that laser radiation having a maximum optical output power (P) can be generated during operation.
H01S 5/40 - Agencement de plusieurs lasers à semi-conducteurs, non prévu dans les groupes
B23K 26/122 - Travail par rayon laser, p.ex. soudage, découpage ou perçage sous atmosphère particulière, p.ex. dans une enceinte dans un liquide, p.ex. sous l’eau
H01S 5/0237 - Fixation des puces laser sur des supports par soudage
H01S 5/024 - Dispositions pour la gestion thermique
H01S 5/22 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique ayant une structure à nervures ou à bandes
H01S 5/323 - Structure ou forme de la région active; Matériaux pour la région active comprenant des jonctions PN, p.ex. hétérostructures ou doubles hétérostructures dans des composés AIIIBV, p.ex. laser AlGaAs
A multilayer encapsulation, a method for encapsulating and an optoelectronic component are disclosed. In an embodiment an optoelectronic component includes a first electrode layer, an organic light-emitting layer stack abutting the first electrode layer, a second electrode layer abutting the light-emitting layer stack and a multilayer encapsulation abutting the second electrode layer, wherein the multilayer encapsulation comprises a barrier layer and a planarization layer, wherein the planarization layer abuts the second electrode layer, and wherein the planarization layer is arranged between the second electrode layer and the barrier layer.
H01L 51/52 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED) - Détails des dispositifs
H01L 51/50 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
A radiation-emitting component may include a first semiconductor chip to emit blue light, a second semiconductor chip to emit cyan-colored light, and a conversion element to emit secondary radiation. The conversion element may be arranged downstream of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip. The conversion element emits the secondary radiation under excitation with the blue light of the first semiconductor chip, and the secondary radiation mixes with the blue light to form warm white light.
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
37.
LIGHT-EMITTING DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING SAME
A light-emitting device includes a multiplicity of light-emitting modules arranged on a first substrate. Each light-emitting module of the multiplicity of light-emitting modules includes a multiplicity of light-emitting components arranged on a second substrate. The second substrate is electrically connected to the first substrate, and includes a common primary lens for the multiplicity of light-emitting components.
H01L 27/15 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants semi-conducteurs avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, spécialement adaptés pour l'émission de lumière
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 33/60 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique Éléments réfléchissants
H01L 25/11 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs ayant des conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
In an embodiment a measuring unit includes a light emitting LED component including a housing occupying a housing surface G and an LED chip located within the housing, the LED chip including a light emitting light surface L and being configured to emit light; a photodetector configured to detect reflected light reflected from a measured object originating from the LED component and output a measurement signal dependent on a detection of the reflected light; and an integrated circuit configured to evaluate the measurement signal, wherein the LED component, the photodetector, and the integrated circuit are combined into an integrated unit; and a conversion layer disposed in the housing and located above the LED chip, the conversion layer configured to convert the light into multiband light, wherein a ratio L/G of is greater than or equal to 0.8, and wherein the measuring unit is configured to optically measure at least one property of the measured object.
G01J 3/42 - Spectrométrie d'absorption; Spectrométrie à double faisceau; Spectrométrie par scintillement; Spectrométrie par réflexion
G01N 21/31 - Couleur; Propriétés spectrales, c. à d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes en recherchant l'effet relatif du matériau pour les longueurs d'ondes caractéristiques d'éléments ou de molécules spécifiques, p.ex. spectrométrie d'absorption atomique
A component having a carrier and at least one main body where the main body may include a semiconductor body and the carrier may have a mounting surface for arranging the mounting body thereon. A stopping structure may be arranged on the mounting surface and may project vertically beyond the mounting surface. The main body may be directly adjacent to the stopping structure such that the position of the main body is bounded along at least one lateral direction by the stopping structure.
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 33/48 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
40.
Light-emitting component and method of operating a light-emitting component
Light-emitting component includes a light source and a dimming element arranged downstream of the light source in a radiation direction. The dimming element includes a dimming layer. The light source includes at least one emitter which is configured to emit light. A brightness of a light emitted by the light-emitting component is adjustable. The brightness is partially adjustable by way of a pulse width modulated and/or amplitude modulated operating signal for the emitter, and the brightness is partially adjustable by way of partial absorption and/or reflection of the light emitted by the emitter in the dimming element. A dimming capability of the dimming layer increases along an extension direction transverse to the radiation direction. The dimming layer is displaceable along the extension direction relative to the light source. A degree of absorption and/or reflection of light emitted by the emitter is variably adjustable.
A display includes a plurality of pixels. The pixels include at least one emitter unit. The emitter units each include a primary emitter and a secondary emitter for generating light of the same color. The secondary emitter is associated with the primary emitter of the corresponding emitter unit. The primary emitters and the secondary emitters are based on at least one semiconductor material. The emitter units each include a correction circuit. The correction circuits are each configured to be able to switch the generation of light from the primary emitter to the associated secondary emitter in case of a defect of the associated primary emitter.
G09G 3/32 - Dispositions ou circuits de commande présentant un intérêt uniquement pour l'affichage utilisant des moyens de visualisation autres que les tubes à rayons cathodiques pour la présentation d'un ensemble de plusieurs caractères, p.ex. d'une page, en composant l'ensemble par combinaison d'éléments individuels disposés en matrice utilisant des sources lumineuses commandées utilisant des panneaux électroluminescents semi-conducteurs, p.ex. utilisant des diodes électroluminescentes [LED]
G09G 3/00 - Dispositions ou circuits de commande présentant un intérêt uniquement pour l'affichage utilisant des moyens de visualisation autres que les tubes à rayons cathodiques
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
42.
OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING A SUPPORT ELEMENT AND AN ELECTRIC CONTACT ELEMENT, AN OPTOELECTRONIC COMPONENT AND A METHOD OF PRODUCING THE OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR DEVICE
An optoelectronic semiconductor device includes a support element having a first main surface, an optoelectronic semiconductor chip which is arranged over the support element and adjacent to the first main surface, and an electrical contact element for contacting the optoelectronic semiconductor chip. The electric contact element is arranged in an opening formed in the first main surface of the support element.
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 31/02 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails - Détails
H01L 31/18 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
43.
Method for producing an optoelectronic component, and optoelectronic component
A method for producing an optoelectronic component and an optoelectronic component are disclosed. In an embodiment a method includes providing a semiconductor chip having an active region for radiation emission, applying a seed layer on the semiconductor chip, wherein the seed layer includes a first metal and a second metal being different from the first metal, and wherein the second metal is less noble than the first metal, applying a structured photoresist layer directly to the seed layer, applying a solder layer at least to regions of the seed layer which are not covered by the photoresist layer and wherein a proportion of the second metal in the seed layer is between 0.5 wt % and 10 wt %.
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 33/60 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique Éléments réfléchissants
An optoelectronic semiconductor component comprises a first semiconductor layer of a first conductivity type having a first main surface and a second semiconductor layer of a second conductivity type arranged on a side facing away from the first main surface of the first semiconductor layer. The optoelectronic semiconductor component further comprises, on the side of the first main surface, a first current spreading structure electrically connected to the first semiconductor layer and a second current spreading structure electrically connected to the second semiconductor layer. The optoelectronic semiconductor component furthermore includes a dielectric mirror layer arranged on the side of the first main surface of the first semiconductor layer and on a side of the first or second current spreading structure facing away from the first semiconductor layer. At least one of the first and second current spreading structures contains silver.
H01L 33/46 - Revêtement réfléchissant, p.ex. réflecteur de Bragg en diélectriques
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
45.
OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR COMPONENT AND METHOD OF MANUFACTURING AN OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR COMPONENT
An optoelectronic semiconductor component may include a semiconductor chip that emits radiation of a first wavelength range from a radiation exit area and a conversion layer that has a plurality of single conversion layers. Each conversion layer may have a phosphor that converts the radiation from a first wavelength range to a second wavelength range. Each conversion layer may also have a concentration of the phosphor in the individual conversion layers different from one another.
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
C09K 11/02 - Emploi de substances particulières comme liants, revêtements de particules ou milieux de suspension
46.
SEMICONDUCTOR COMPONENT WITH A STRESS COMPENSATION LAYER AND A METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR COMPONENT
A semiconductor device may include a conductive layer over a semiconductor body and a first stress compensation layer adjacent to the conductive layer. The stress compensation layer may include a defined first stress.
H01L 33/12 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une structure de relaxation des contraintes, p.ex. couche tampon
H01S 5/32 - Structure ou forme de la région active; Matériaux pour la région active comprenant des jonctions PN, p.ex. hétérostructures ou doubles hétérostructures
H01S 5/22 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique ayant une structure à nervures ou à bandes
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
47.
Method of fastening a semiconductor chip on a lead frame, and electronic component
An electronic component includes a lead frame; a semiconductor chip arranged above the lead frame; and a connection layer sequence arranged between the lead frame and the semiconductor chip, wherein the connection layer sequence includes a first intermetallic layer including gold and indium or gold, indium and tin, a second intermetallic layer including indium and a titanium compound, indium and nickel, indium and platinum or indium and titanium, and a third intermetallic layer including indium and gold.
H01L 21/48 - Fabrication ou traitement de parties, p.ex. de conteneurs, avant l'assemblage des dispositifs, en utilisant des procédés non couverts par l'un uniquement des groupes
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 21/60 - Fixation des fils de connexion ou d'autres pièces conductrices, devant servir à conduire le courant vers le ou hors du dispositif pendant son fonctionnement
48.
METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR COMPONENT, AND WORKPIECE
A method for producing a semiconductor component and workpiece are disclosed. In an embodiment a method includes forming a first semiconductor layer over a growth substrate, wherein a material of the first semiconductor layer is Inx1Aly1Ga(1-x1-y1)N, with 0≤xl≤1, 0≤yl≤1, applying a first modification substrate over the first semiconductor layer, wherein a material of the first modification substrate has a thermal expansion coefficient which is different from that of the first semiconductor layer, removing the growth substrate thereby obtaining a first layer stack, heating the first layer stack to a first growth temperature and growing a second semiconductor layer over a growth surface of the first semiconductor layer after heating the first layer stack, wherein due to heating a lattice constant of the first semiconductor layer is adapted to a lattice constant of the second semiconductor layer.
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
49.
OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR CHIP AND METHOD FOR PRODUCING AN OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR CHIP
In at least one embodiment, the optoelectronic semiconductor chip (100) comprises a semiconductor layer sequence (1) having an active layer (10), a doped current spreading layer (11) and an output coupling layer (12), which are arranged one above the other in this order. The active layer generates primary radiation during intended operation. The current spreading layer comprises a larger lateral electrical conductivity than the output coupling layer. The output coupling layer comprises output coupling structures (121) for coupling out radiation on an exit side (120) facing away from the active layer. The output coupling layer comprises a lower absorption coefficient for primary radiation than the current spreading layer.
In one embodiment, the optoelectronic component comprises a first emission zone, which emits electromagnetic radiation during operation. Furthermore, the component comprises an optical waveguide with an entrance side facing the first emission zone, a distribution element and with output coupling structures on a side of the distribution element facing away from the first emission zone. The optical waveguide is a simply connected solid body. In a top view of the side of the optical waveguide facing away from the first emission zone, the distribution element completely covers the first emission zone. The output coupling structures are individual, spaced-apart elevations, each of which extends away from the distribution element and comprises an output coupling surface at an end facing away from the distribution element. A structure that is nontransmissive to the radiation of the first emission zone is arranged on the optical waveguide in the region between the output coupling structures.
G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
H01L 33/58 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
In an embodiment a radiation-emitting component includes a first semiconductor chip configured to generate first primary electromagnetic radiation, a second semiconductor chip configured to generate second primary electromagnetic radiation, a first conversion element configured to partially convert the first and/or the second primary electromagnetic radiation into a first secondary radiation, wherein the first semiconductor chip is a first semiconductor laser diode, wherein the first primary electromagnetic radiation is blue primary radiation and wherein the first secondary radiation is green secondary radiation and a first optical element arranged between radiation emitting surfaces of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip, wherein the first optical element is reflective for the first primary radiation and the second primary radiation.
H01S 5/02255 - Découplage de lumière utilisant des éléments de déviation de faisceaux lumineux
H01S 5/02257 - Découplage de lumière utilisant des fenêtres optiques, p.ex. spécialement adaptées pour réfléchir de la lumière sur un détecteur à l’intérieur du boîtier
H01S 5/40 - Agencement de plusieurs lasers à semi-conducteurs, non prévu dans les groupes
In an embodiment, the display device comprises a light emitting semiconductor chip having a light exit side and a mask layer disposed downstream of the semiconductor chip and comprising a plurality of openings. In the openings, the semiconductor chip is free from the mask layer. A movable cover is made of an opaque material and is configured with a plurality of penetrations for adjusting a radiation characteristic of the semiconductor chip. The penetrations are at least temporarily associated with the openings. A drive unit is provided for moving the cover in the direction parallel to the light exit side.
G02B 26/08 - Dispositifs ou dispositions optiques pour la commande de la lumière utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander la direction de la lumière
G02B 26/00 - Dispositifs ou dispositions optiques pour la commande de la lumière utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables
G02B 30/30 - Systèmes ou appareils optiques pour produire des effets tridimensionnels [3D], p.ex. des effets stéréoscopiques en fournissant des première et seconde images de parallaxe à chacun des yeux gauche et droit d’un observateur du type autostéréoscopique comprenant des barrières de parallaxe
G02B 27/28 - Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes , pour polariser
G02B 30/25 - Systèmes ou appareils optiques pour produire des effets tridimensionnels [3D], p.ex. des effets stéréoscopiques en fournissant des première et seconde images de parallaxe à chacun des yeux gauche et droit d’un observateur du type stéréoscopique utilisant des techniques de polarisation
53.
Light emitting filament device and method of manufacturing a light emitting filament device
A light emitting filament device comprising a carrier extending in a longitudinal direction and having a first main surface, a second main surface opposite to the first main surface, and two side surfaces interconnecting the two main surfaces. Optoelectronic components are disposed on the first main surface of the carrier. A first converter layer is arranged on the first main surface of the carrier and covers the optoelectronic components. A second converter layer is arranged on the second main surface of the carrier. The carrier is designed at at least one location along the longitudinal direction such that at least one of the two side surfaces includes an angle with the first main surface of greater than 90°. The carrier is trapezoidal in cross-section at the at least one location.
F21K 9/64 - Agencements optiques intégrés dans la source lumineuse, p.ex. pour améliorer l’indice de rendu des couleurs ou l’extraction de lumière en utilisant des moyens de conversion de longueur d’onde distincts ou espacés de l’élément générateur de lumière, p.ex. une couche de phosphore éloignée
F21K 9/69 - Agencements optiques intégrés dans la source lumineuse, p.ex. pour améliorer l’indice de rendu des couleurs ou l’extraction de lumière - Détails des réfracteurs faisant partie de la source lumineuse
B60Q 1/56 - Agencement des dispositifs de signalisation optique ou d'éclairage, leur montage, leur support ou les circuits à cet effet les dispositifs ayant principalement pour objet d'indiquer le contour du véhicule ou de certaines de ses parties, ou pour engendrer des signaux au bénéfice d'autres véhicules pour illuminer les plaques minéralogiques ou pièces similaires
A lighting device includes a pixel array of light-emitting pixels arranged next to one another. The pixel array includes light-emitting pixels with different pixel shapes.
F21S 41/663 - Dispositifs d’éclairage spécialement adaptés à l’extérieur des véhicules, p.ex. phares caractérisés par une distribution lumineuse variable par action sur des sources lumineuses par commutation de sources lumineuses
F21S 41/143 - Diodes électroluminescentes [LED] la direction principale d’émission des LED étant parallèle à l’axe optique du dispositif d’éclairage
F21S 41/153 - Diodes électroluminescentes [LED] disposées sur une ou plusieurs lignes disposées dans une matrice
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
F21Y 105/10 - Sources lumineuses planes comprenant un réseau bidimensionnel d’éléments générateurs de lumière ponctuelle
B60Q 1/14 - Agencement des dispositifs de signalisation optique ou d'éclairage, leur montage, leur support ou les circuits à cet effet les dispositifs étant principalement destinés à éclairer la route en avant du véhicule ou d'autres zones de la route ou des environs les dispositifs étant des phares comportant un dispositif d'atténuation de la lumière
A laser diode chip is described, comprising:
an n-type semiconductor region (3), a p-type semiconductor region (5), and an active layer (4) arranged between the n-type semiconductor region (3) and the p-type semiconductor region (5), an n-type contact (9) and a p-type contact (8),
at least one heating element (14) arranged on a side of the laser diode chip facing the p-type semiconductor region (5), the heating element (14) functioning as a resistance heater, and
at least one metallic seed layer (7, 11), wherein the heating element comprises a part (11) of the seed layer, and wherein the p-type contact (8) is arranged on a further part (7) of the seed layer (7, 11).
H01S 5/06 - Dispositions pour commander les paramètres de sortie du laser, p.ex. en agissant sur le milieu actif
H01S 5/22 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique ayant une structure à nervures ou à bandes
H01S 5/323 - Structure ou forme de la région active; Matériaux pour la région active comprenant des jonctions PN, p.ex. hétérostructures ou doubles hétérostructures dans des composés AIIIBV, p.ex. laser AlGaAs
H01S 5/026 - Composants intégrés monolithiques, p.ex. guides d'ondes, photodétecteurs de surveillance ou dispositifs d'attaque
56.
OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING AN OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR COMPONENT
An optoelectronic semiconductor component is specified having a semiconductor body comprising an active region provided for generating electromagnetic radiation, wherein the semiconductor body comprises a main surface which runs parallel to a main extension plane of the semiconductor body. Furthermore, the optoelectronic semiconductor component comprises a contact region, which is arranged on a side of the main surface facing away from the active region and is provided for making electrical contact with the semiconductor body, and a reflection layer, which is arranged on the side of the main surface facing away from the active region and reflects the electromagnetic radiation generated in the active region at least partially back in the direction of the active region. Further, a part of the main surface forms a radiation output coupling surface which is at least partially laterally limited by the reflection layer.
H01L 33/46 - Revêtement réfléchissant, p.ex. réflecteur de Bragg en diélectriques
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des groupes principaux , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. circuit hybrides
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
H01L 33/56 - Matériaux, p.ex. résine époxy ou silicone
57.
Optoelectronic semiconductor component with contact elements and method for producing the same
An optoelectronic semiconductor component may include a first semiconductor layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer of a second conductivity type, a first contact element for making contact with the first semiconductor layer, and a second contact element for making contact with the second semiconductor layer. The first semiconductor layer may be arranged on a side facing away from a first main surface of the second semiconductor layer. Electromagnetic radiation may be output via the first main surface of the second semiconductor layer. The first contact element and the second contact element may each be arranged on a side of a first main surface of the first semiconductor layer. The first contact element may have a first section extending in a first direction, and a second section connected to the first section and extending in a second direction different from the first direction.
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 33/22 - Surfaces irrégulières ou rugueuses, p.ex. à l'interface entre les couches épitaxiales
H01L 33/38 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les électrodes ayant une forme particulière
H01L 33/44 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les revêtements, p.ex. couche de passivation ou revêtement antireflet
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
H01L 33/54 - Encapsulations ayant une forme particulière
58.
OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR CHIP AND OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR COMPONENT
The optoelectronic semiconductor chip may include a semiconductor layer sequence having an active zone for generating radiation between a first region and a second region. The second region is electrically contacted via electrical through-connections that are electrically connected via metallic contact strips. The first region is electrically contacted via a metallic contact layer. An electrical insulation layer is located between the contact strips and the contact layer. The contact layer and the contact strips are located on a back side of the first region. The through-connections extend from the contact strips through the first region and through the active zone into the second region. The contact strips lie at least predominantly between the back side and the contact layer.
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 33/38 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les électrodes ayant une forme particulière
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des groupes principaux , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. circuit hybrides
H01L 33/46 - Revêtement réfléchissant, p.ex. réflecteur de Bragg en diélectriques
59.
Optoelectronic semiconductor component having a semiconductor contact layer and method for producing the optoelectronic semiconductor component
In an embodiment, an optoelectronic semiconductor component includes a first semiconductor layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer of a second conductivity type, wherein a respective semiconductor material of the first and second semiconductor layers are each a compound semiconductor material including a first, a second and a third composition element, and a second contact region configured to electrically contact the second semiconductor layer, wherein the first semiconductor layer is patterned and arranged over the second semiconductor layer, wherein the second contact region is arranged between patterned regions of the first semiconductor layer, wherein the second contact region comprises a second metallic contact layer and a semiconductor contact layer between the second metallic contact layer and the second semiconductor layer, wherein a semiconductor material of the semiconductor contact layer includes the first, second and third composition elements, and wherein a concentration of the first and second composition elements varies from a position on a side of the second semiconductor layer to a position on a side of the second metallic contact layer.
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 33/38 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les électrodes ayant une forme particulière
H01L 33/32 - Matériaux de la région électroluminescente contenant uniquement des éléments du groupe III et du groupe V de la classification périodique contenant de l'azote
A semiconductor radiation source includes at least one semiconductor chip that generates radiation; and at least one capacitor body, wherein the semiconductor chip and the capacitor body are stacked on top of each other, the semiconductor chip directly electrically connects in a planar manner to the capacitor body, the semiconductor chip is a ridge waveguide laser, and a ridge waveguide of the semiconductor chip is arranged on a side of the semiconductor chip facing away from the capacitor body.
H01S 3/00 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet
H01S 5/026 - Composants intégrés monolithiques, p.ex. guides d'ondes, photodétecteurs de surveillance ou dispositifs d'attaque
H01S 5/0236 - Fixation des puces laser sur des supports en utilisant un adhésif
H01S 5/062 - Dispositions pour commander les paramètres de sortie du laser, p.ex. en agissant sur le milieu actif en faisant varier le potentiel des électrodes
H01S 5/0237 - Fixation des puces laser sur des supports par soudage
61.
Optoelectronic fiber, placement device, extrusion apparatus, and apparatus and method for producing an optoelectronic fiber
A placement device for placing optoelectronic components on electrical lines includes a holding device for holding at least one electric line extending in a longitudinal direction, and an application device for arranging optoelectronic components on the at least one electrical line.
F21S 4/20 - Dispositifs ou systèmes d'éclairage utilisant une guirlande ou une bande de sources lumineuses avec les sources lumineuses maintenues par ou à l'intérieur de supports allongés
F21V 9/30 - CARACTÉRISTIQUES FONCTIONNELLES OU DÉTAILS FONCTIONNELS DES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES D'ÉCLAIRAGE; COMBINAISONS STRUCTURALES DE DISPOSITIFS D'ÉCLAIRAGE AVEC D'AUTRES OBJETS, NON PRÉVUES AILLEURS Éléments modifiant les caractéristiques spectrales, la polarisation ou l’intensité de la lumière émise, p.ex. filtres Éléments contenant un matériau photoluminescent distinct de la source de lumière ou espacé de cette source
B29C 48/154 - Revêtement d’articles pleins, c. à d. d’articles non creux
B29C 48/06 - Moulage par extrusion, c. à d. en exprimant la matière à mouler dans une matrice ou une filière qui lui donne la forme désirée; Appareils à cet effet caractérisées par la forme à l’extrusion de la matière extrudée en forme de tige
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 33/54 - Encapsulations ayant une forme particulière
B29K 83/00 - Utilisation de polymères contenant dans la chaîne principale uniquement du silicium avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone comme matière de moulage
In one embodiment, the optoelectronic semiconductor device comprises a carrier having electrical connection surfaces on a carrier upper side. At least four semiconductor chips are configured to emit light of different colors from each other. The semiconductor chips are mounted close to each other on the connection surfaces so that a distance between adjacent semiconductor chips is at most 100 μm in a top view on the carrier upper side.
F21L 4/00 - Dispositifs d'éclairage électriques avec des accumulateurs ou des piles électriques incorporés
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 33/38 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les électrodes ayant une forme particulière
H01L 33/44 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les revêtements, p.ex. couche de passivation ou revêtement antireflet
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
F21V 23/00 - Agencement des éléments du circuit électrique dans ou sur les dispositifs d’éclairage
C09K 11/77 - Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances inorganiques luminescentes contenant des métaux des terres rares
F21Y 113/13 - Combinaison de sources lumineuses de couleurs différentes comprenant un ensemble de sources lumineuses ponctuelles
An electromagnetic radiation emitting device and a method for applying a converter layer to an electromagnetic radiation emitting device are disclosed. In an embodiment, a method includes applying converter elements to a surface of a carrier, applying the converter elements to an electromagnetic radiation emitting device by applying the carrier to the electromagnetic radiation emitting device such that the surface of the carrier with the applied converter elements faces the electromagnetic radiation emitting device and forming a converter layer on the electromagnetic radiation emitting device by depositing a plurality of thin layers on the converter elements using an atomic layer deposition process.
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
The invention relates to a semiconductor laser including a carrier, an edge-emitting laser diode which is arranged on the carrier and which has an active zone for generating laser radiation and a facet with a radiation exit area, an optical element which covers the facet, a connecting material which is arranged between the optical element and the facet, a molded body which covers the laser diode and the optical element at least in places, wherein the optical element is at least partially transparent to the laser radiation emitted by the laser diode during operation, and the optical element is designed to change the main propagation direction of the laser radiation entering the optical element during operation.
H01S 5/40 - Agencement de plusieurs lasers à semi-conducteurs, non prévu dans les groupes
H01S 5/02216 - Supports; Boîtiers caractérisés par la forme des boîtiers du type papillon, c.-à-d. avec les broches d’électrode s’étendant latéralement depuis le boîtier
H01S 5/185 - Lasers à émission de surface [lasers SE], p.ex. comportant à la fois des cavités horizontales et verticales comportant uniquement des cavités horizontales, p.ex. lasers à émission de surface à cavité horizontale [HCSEL]
65.
Method for Producing Conversion Elements, Conversion Elements, Method for Producing a Light-Emitting Semiconductor Device, and a Light-Emitting Semiconductor Component
A method for producing conversion elements, a conversion element, a method for producing a light-emitting semiconductor device, and a light-emitting semiconductor device are disclosed. In an embodiment a method for producing conversion elements includes providing a sapphire substrate, forming a conversion layer on a first main surface of the sapphire substrate, and separating the sapphire substrate and the conversion layer into a plurality of conversion elements.
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
In an embodiment an optoelectronic lighting device includes a carrier, exactly one light-emitting optoelectronic semiconductor component, wherein the semiconductor component has a light emission area on at least one surface side, and wherein the semiconductor component is arranged on an upper side of the carrier, at least one functional layer arranged above the light emission area and/or adjacent to the light emission area and an edging for the functional layer, wherein the edging surrounds the functional layer when viewed in a circumferential direction, the circumferential direction being parallel to the upper side of the carrier around the functional layer, and wherein the edging is formed of a transparent material.
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 33/24 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une forme particulière, p.ex. substrat incurvé ou tronqué de la région électroluminescente, p.ex. jonction du type non planaire
H01L 33/60 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique Éléments réfléchissants
67.
Optoelectronic component with a magnetic structure and method for producing same
An optoelectronic component (1) is specified, with at least one radiation-emitting semiconductor chip generating electromagnetic radiation during operation, a coating surrounding the at least one semiconductor chip in lateral directions, a magnetic structure covered by the coating, wherein the magnetic structure enables the component to be identified. Furthermore, a process for the manufacture of such an optoelectronic component is given.
H01L 33/54 - Encapsulations ayant une forme particulière
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 33/56 - Matériaux, p.ex. résine époxy ou silicone
68.
Phase-coupled laser assembly and method for producing a phase-coupled laser assembly
A laser device is provided which comprises a common waveguide layer and a plurality of laser bodies, wherein each of the laser bodies has an active region configured for generating coherent electromagnetic radiation. The laser bodies are arranged side by side on the common waveguide layer, wherein the laser bodies are directly adjacent to the common waveguide layer. In particular, the laser bodies are configured to be phase-coupled to each other via the waveguide layer during operation of the laser device.
Furthermore, a method for producing such a phase-coupled laser device is provided.
H01S 5/062 - Dispositions pour commander les paramètres de sortie du laser, p.ex. en agissant sur le milieu actif en faisant varier le potentiel des électrodes
H01S 5/42 - Réseaux de lasers à émission de surface
69.
Method of producing a laser diode bar and laser diode bar
A method of producing a laser diode bar includes producing a plurality of emitters arranged side by side, emitters each including a semiconductor layer sequence having an active layer that generates laser radiation, a p-contact on a first main surface of the laser diode bar and an n-contact on a second main surface of the laser diode bar opposite the first main surface, testing at least one optical and/or electrical property of the emitters, wherein emitters in which the optical and/or electrical property lies within a predetermined setpoint range are assigned to a group of first emitters, and emitters in which the at least one optical and/or electrical property lies outside the predetermined setpoint range are assigned to a group of second emitters, and electrically contacting first emitters, wherein second emitters are not electrically contacted so that they are not supplied with current during operation of the laser diode bar.
H01S 5/024 - Dispositions pour la gestion thermique
H01S 5/22 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique ayant une structure à nervures ou à bandes
H01S 5/323 - Structure ou forme de la région active; Matériaux pour la région active comprenant des jonctions PN, p.ex. hétérostructures ou doubles hétérostructures dans des composés AIIIBV, p.ex. laser AlGaAs
70.
RADIATION-EMITTING COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING A RADIATION-EMITTING COMPONENT
A radiation-emitting component is specified with—a carrier which has a top surface a radiation-emitting semiconductor chip arranged on the top surface of the carrier and configured to generate primary electromagnetic radiation, a first reflector layer arranged above a top surface of the semiconductor chip, and a cover body arranged between the first reflector layer and the radiation-emitting semiconductor chip, wherein a side surface of the cover body is inclined to the top surface of the carrier. Furthermore, a method for producing such a radiation-emitting component is specified.
In an embodiment, the semiconductor device is surface mountable and comprises a light emitting semiconductor chip which comprises electrical contact pads. An opaque base body laterally surrounds the semiconductor chip. An electrical fanning layer contains electrical conductor tracks. Electrical connection pads are used for external electrical contacting of the semiconductor device. The contact pads and the connection pads are located on different sides of the fanning layer. The contact pads are electrically connected to the associated connection pads by means of the fanning layer. The connection pads are expanded relative to the contact pads.
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des groupes principaux , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. circuit hybrides
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 33/44 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les revêtements, p.ex. couche de passivation ou revêtement antireflet
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
72.
µLED Chip Architecture Based on Nanostructured Perovskite Converter Materials
A method for producing an optoelectronic semiconductor component and an optoelectronic component are disclosed. In an embodiment a method includes providing an optoelectronic semiconductor chip comprising at least one light-emitting layer and at least one cavity and introducing at least one precursor of a conversion element in the at least one cavity, wherein the at least one conversion element comprises a perovskite-based ABX3 or A2BB′X6 structure.
C09K 11/66 - Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances inorganiques luminescentes contenant du germanium, de l'étain ou du plomb
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
C09K 11/02 - Emploi de substances particulières comme liants, revêtements de particules ou milieux de suspension
73.
Semiconductor component having a compressive strain layer and method for producing the semiconductor component having a compressive strain layer
A semiconductor component may include a first compressive strain layer on top of a semiconductor body. A material for the first compressive strain layer may include Ta, Mo, Nb, compounds thereof, and combinations thereof.
H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 23/50 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p.ex. fils de connexion ou bornes pour des dispositifs à circuit intégré
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 31/02 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails - Détails
H01L 31/18 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 33/44 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les revêtements, p.ex. couche de passivation ou revêtement antireflet
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
74.
Optoelectronic Component and Method for Producing an Optoelectronic Component
In an embodiment an optoelectronic component includes a semiconductor chip having an electrical contact, the semiconductor chip configured to emit primary electromagnetic radiation, a carrier having an electrically conductive coating on which the semiconductor chip with the electrical contact is arranged, a contact agent connecting the electrically conductive coating of the carrier and the electrical contact of the semiconductor chip with one another and a passivation layer arranged in places on the electrically conductive coating, wherein an outer surface of the electrically conductive coating is completely encapsulated by the passivation layer and the contact agent, wherein the passivation layer has a penetration, wherein the contact agent protrudes beyond the penetration in a lateral direction, and wherein the semiconductor chip is a flip chip.
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des groupes principaux , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. circuit hybrides
H01L 27/15 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants semi-conducteurs avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, spécialement adaptés pour l'émission de lumière
H01L 33/46 - Revêtement réfléchissant, p.ex. réflecteur de Bragg en diélectriques
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
75.
Optoelectronic Component, Organic Functional Layer, and Method for Producing an Optoelectronic Component
In an embodiment a method for producing an optoelectronic component includes providing a substrate, forming a first electrode, depositing an organic functional layer or a plurality of organic functional layers over the substrate by simultaneous vaporization from different sources of a first compound and of a second compound and of a matrix material and forming a second electrode, wherein at least one coordinate bond is formed by the first compound with the second compound and by the first compound with the matrix material and/or by the second compound with the matrix material.
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
76.
Optoelectronic semiconductor body and light-emitting diode
A light-emitting diode includes a semiconductor body and electrical connection points for contacting the semiconductor body, the semiconductor body including an active region including a quantum well that generates electromagnetic radiation, a first region and a second region that impede passage of charge carriers from the active region, wherein the semiconductor body is based on a nitride compound semiconductor material, the first region is directly adjacent to the active region on a p-side, the second region is arranged on a side of the first region facing away from the active region, the first region has an electronic band gap larger than the electronic band gap of the quantum well and less than or equal to an electronic band gap of the second region, the first region and the second region contain aluminum, and the active region emits electromagnetic radiation having a peak wavelength of less than 480 nm.
H01L 33/32 - Matériaux de la région électroluminescente contenant uniquement des éléments du groupe III et du groupe V de la classification périodique contenant de l'azote
H01L 33/06 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une structure à effet quantique ou un superréseau, p.ex. jonction tunnel au sein de la région électroluminescente, p.ex. structure de confinement quantique ou barrière tunnel
H01L 33/14 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une structure contrôlant le transport des charges, p.ex. couche semi-conductrice fortement dopée ou structure bloquant le courant
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
77.
Optoelectronic device comprising a current spreading layer
An optoelectronic device may include an optoelectronic semiconductor chip that is configured to emit electromagnetic radiation. The chip may include a first semiconductor layer, a second semiconductor layer, first and second current spreading structures, and a plurality of electrical contact elements. The first current spreading layer may be arranged on a side of the second semiconductor layer facing away from the first semiconductor layer. The plurality of electrical contact elements may electrically connect the first semiconductor layer to the first current spreading layer. The second current spreading layer may be electrically connected to the second semiconductor layer. The second current spreading layer may be arranged between the first current spreading layer and the second semiconductor layer where an insulating layer insulates a first electrical contact element and a second electrical contact element from the second current spreading layer.
H01L 33/14 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une structure contrôlant le transport des charges, p.ex. couche semi-conductrice fortement dopée ou structure bloquant le courant
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des groupes principaux , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. circuit hybrides
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 33/38 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les électrodes ayant une forme particulière
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 33/64 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments d'extraction de la chaleur ou de refroidissement
78.
Semiconductor laser and manufacturing method for a semiconductor laser
A semiconductor laser (1) is provided that includes a semiconductor layer sequence in which an active zone for generating laser radiation is located. A ridge waveguide is formed as an elevation from the semiconductor layer sequence. An electrical contact layer is located directly on the ridge waveguide. A metallic electrical connection region is located directly on the contact layer and is configured for external electrical connection of the semiconductor laser. A metallic breakage coating extends directly to facets of the semiconductor layer sequence and is arranged on the ridge waveguide. The breakage coating is electrically functionless and includes comprises a lower speed of sound for a breaking wave than the semiconductor layer sequence in the region of the ridge waveguide.
In an embodiment an apparatus includes a delimiting device and a holding device configured to hold the delimiting device at a distance above an optoelectronic light-emitting device and form a layer of a material provided in a flowable state between the delimiting device and the light-emitting device, wherein a bottom side of the delimiting device, which faces the light-emitting device, has a structuring so that a structure complementary to the structuring is producible on an upper side of the layer.
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des groupes principaux , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. circuit hybrides
H01L 33/44 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les revêtements, p.ex. couche de passivation ou revêtement antireflet
H01L 33/58 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique
The invention relates to a laser chip located between a first and a second electrically and thermally conductive component, wherein: a first lateral surface of the laser chip is connected in a planar manner to a first lateral surface of the first component; the second lateral surface of the laser chip is connected in a planar manner to a first lateral surface of the second component; the laser chip has a radiation side which is located between the components; the radiation side is arranged set back inwardly at a predefined distance from the first end faces of the components; and a radiation space, which extends from the radiation side of the laser chip to the first end faces of the components is formed between the first lateral surfaces of the two components and adjacent to the radiation side of the laser chip.
In one embodiment, an apparatus may include a light source. The apparatus also includes a measuring laser, such as a semiconductor laser. The measuring laser is configured to generate pulses with a maximum pulse duration of 10 ns. A wavelength of maximum intensity of the measuring laser radiation generated by the measuring laser ranges from 400 nm to 485 nm inclusive. The measuring laser radiation is used for distance measurement by means of LIDAR, for example in a car headlight.
An optoelectronic semiconductor component is provided that includes a primary light source and a secondary light source. The primary light source and the secondary light source are monolithically integrated in the semiconductor component so that only condensed matter is located between them. The primary light source includes a first resonator containing a semiconductor layer sequence which is electrically pumped during operation. A first resonator axis of the first resonator is oriented parallel to a growth direction (G) of the semiconductor layer sequence. The primary light source is configured to generate pump laser radiation (P). The secondary light source includes a pump medium for generating secondary radiation (S) and the pump medium is optically pumped by the pump laser radiation (P). The first resonator axis points past the pump medium.
H01S 5/183 - Lasers à émission de surface [lasers SE], p.ex. comportant à la fois des cavités horizontales et verticales comportant uniquement des cavités verticales, p.ex. lasers à émission de surface à cavité verticale [VCSEL]
H01S 5/04 - Procédés ou appareils pour l'excitation, p.ex. pompage
H01S 5/40 - Agencement de plusieurs lasers à semi-conducteurs, non prévu dans les groupes
83.
OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR COMPONENT AND METHOD OF MANUFACTURING AN OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR COMPONENT
The invention relates to an optoelectronic semiconductor component (20) comprising a carrier comprising an integrated circuit, an optoelectronic semiconductor chip (22) which is arranged on the carrier (21), a molded body which surrounds the carrier at least in places in lateral directions and which covers the carrier in places on a side facing away from the optoelectronic semiconductor chip, and at least two through-connections which extend from an underside of the semiconductor component facing away from the optoelectronic semiconductor chip through the molded body to the carrier, and which comprise an electrically conductive material, the integrated circuit being provided for actuating and/or controlling the optoelectronic semiconductor chip. The invention also relates to a method of manufacturing an optoelectronic semiconductor component.
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des groupes principaux , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. circuit hybrides
H01L 33/48 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
84.
Electronic semiconductor component and method for producing an electronic semiconductor component
An electronic semiconductor component with a housing structure and a cavity introduced into the housing structure is specified. The cavity comprises a base surface. Furthermore, the electronic semiconductor component comprises an auxiliary layer arranged on the base surface of the cavity and a marking penetrating the auxiliary layer at least as far as the base surface of the cavity. The marking comprises an optical contrast that depends on both an optical property of the housing structure and an optical property of the auxiliary layer. Furthermore, a method for producing an electronic semiconductor component is given.
In an embodiment a semiconductor laser diode includes a semiconductor layer sequence comprising an active layer having a main extension plane, the semiconductor layer sequence configured to generate light in an active region and radiate the light via a light-outcoupling surface, wherein the active region extends from a rear surface opposite the light-outcoupling surface to the light-outcoupling surface along a longitudinal direction in the main extension plane and a continuous contact structure directly disposed on a surface of the semiconductor layer sequence, wherein the contact structure comprises in at least a first contact region a first electrical contact material in direct contact with the surface region and in at least a second contact region a second electrical contact material in direct contact with the surface region, wherein the first and second contact regions adjoin one another.
A phosphor combination may include a first phosphor and a second phosphor. The second phosphor may be a red-emitting quantum dot phosphor. The phosphor combination may optionally include a third phosphor that is a red-emitting phosphor with the formula (MB) (TA)3-2x(TC)1+2xO4-4xN4x:E. A conversion element may include the phosphor combination. An optoelectronic device may include the phosphor combination and a radiation-emitting semiconductor chip.
H05B 45/24 - Commande de la couleur de la lumière à l'aide d'une rétroaction électrique provenant de LED ou de modules de LED
C09K 11/59 - Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances inorganiques luminescentes contenant du silicium
C09K 11/77 - Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances inorganiques luminescentes contenant des métaux des terres rares
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
87.
Optoelectronic semiconductor device comprising a first and a second current spreading structure
An optoelectronic semiconductor device may include a first semiconductor layer, a second semiconductor layer, first and second current spreading structures, and an insulating intermediate layer. The second semiconductor layer may be arranged over a substrate. The first semiconductor layer may be arranged between the second semiconductor layer and the substrate. The first current spreading structure may be electrically connected to the first semiconductor layer, and the second current spreading structure electrically may be connected to the second semiconductor layer. The insulating intermediate layer may include a dielectric mirror and may be arranged between the second current spreading structure and the second semiconductor layer. The current spreading structures may overlap one another in a plane perpendicular to a main surface of the substrate. The first current spreading structure may be arranged at a larger distance from the first semiconductor layer than the second current spreading structure.
H01L 33/14 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une structure contrôlant le transport des charges, p.ex. couche semi-conductrice fortement dopée ou structure bloquant le courant
H01L 33/10 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une structure réfléchissante, p.ex. réflecteur de Bragg en semi-conducteur
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
88.
OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR BODY, ARRANGEMENT OF A PLURALITY OF OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR BODIES, AND METHOD FOR PRODUCING AN OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR BODY
An optoelectronic semiconductor body (10) is provided with a layer stack (11) with an active region (13) which is configured to emit electromagnetic radiation and which comprises a main extension plane, wherein the layer stack (11) comprises side walls (15) which extend transversely to the main extension plane of the active region (13), and the side walls (15) are covered at least in places with a cover layer (16) which is formed with at least one semiconductor material. In addition, an arrangement (18) of a plurality of optoelectronic semiconductor bodies (10) and a method for producing an optoelectronic semiconductor body (10) are provided.
H01L 33/20 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une forme particulière, p.ex. substrat incurvé ou tronqué
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 27/15 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants semi-conducteurs avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, spécialement adaptés pour l'émission de lumière
H01S 5/02 - Lasers à semi-conducteurs - Détails ou composants structurels non essentiels au fonctionnement laser
An optoelectronic component includes an optoelectronic semiconductor chip configured to emit electromagnetic radiation; an optically effective element arranged such that electromagnetic radiation emitted by the optoelectronic semiconductor chip passes through the optically effective element; and a housing, wherein the optoelectronic semiconductor chip is arranged in a cavity of the housing, the optically effective element includes a carrier, a first optically effective structure arranged on a top side of the carrier, and a cover arranged above the first optically effective structure.
A method for producing a semiconductor component may include applying a semiconductor chip over a first main surface of an insulating substrate, thinning a second main surface of the insulating substrate where the second main surface has a roughness of more than 300 nm after thinning, applying a smoothing metal layer over the second main surface of the insulating substrate, and smoothing the smoothing metal layer. A semiconductor component may include a semiconductor chip, an insulating substrate where the semiconductor chip is arranged over a first main surface of the insulating substrate and a second main surface of the insulating substrate has a roughness Ra of more than 300 nm, and a smoothing metal layer over the second main surface.
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 31/02 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails - Détails
H01L 33/60 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique Éléments réfléchissants
The invention relates to an optoelectronic component having: a carrier; an optoelectronic semiconductor chip; an insulation layer, which has an electrically insulating material; and a first contact layer, which has an electrically conductive material. According to the invention, the insulation layer is arranged on the carrier and has a cavity; the semiconductor chip is arranged in the cavity; the first contact layer is arranged between the semiconductor chip and the carrier and between the insulation layer and the carrier; and the first contact layer has at least one interruption, such that the carrier is free of the first contact layer at least in some parts in the region of the cavity.
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 33/48 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des groupes principaux , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. circuit hybrides
92.
Optoelectronic Fiber as well as Apparatus and Method for Manufacturing an Optoelectronic Fiber
An optoelectronic fiber, an apparatus for manufacturing an optoelectronic fiber and a method for manufacturing an optoelectronic fiber are disclosed. In an embodiment an optoelectronic fiber includes at least one carrier extending in a longitudinal direction, optoelectronic components arranged on the at least one carrier and a sheath extending in the longitudinal direction and surrounding the at least one carrier and the optoelectronic components, wherein the sheath includes at least one thread guided around the at least one carrier and the optoelectronic components and/or at least one tape helically wound around the at least one carrier and the optoelectronic components, wherein at least one metal wire is integrated into the sheath and twisted, braided or interwoven with the at least one thread, and wherein the at least one metal wire is electrically coupled to at least one of the optoelectronic components.
D02G 3/44 - Filés ou fils caractérisés par la destination pour laquelle ils ont été conçus
F21S 4/26 - Dispositifs ou systèmes d'éclairage utilisant une guirlande ou une bande de sources lumineuses avec les sources lumineuses maintenues par ou à l'intérieur de supports allongés flexibles ou déformables, p.ex. en une forme courbée en forme de corde, p.ex. cordes d’éclairage à LED, ou de forme tubulaire
D03D 1/00 - Tissus conçus pour faire des articles particuliers
A radiation source for emitting terahertz radiation (6) is specified, comprising at least two laser light sources emitting laser radiation (11, 12) of different frequencies, and a photomixer (5) comprising a photoconductive semiconductor material (51) and an antenna structure (52), the photomixer (5) being configured to emit the laser radiation (11, 12) of the laser light sources (1, 2) and emitting terahertz radiation (6) with at least one beat frequency of the laser light sources, and wherein the at least two laser light sources are surface-emitting semiconductor lasers (1, 2) which are arranged in a one-dimensional or two-dimensional array on a common carrier (10).
H01S 5/40 - Agencement de plusieurs lasers à semi-conducteurs, non prévu dans les groupes
H01S 5/42 - Réseaux de lasers à émission de surface
94.
Printed Circuit Board and Method of Manufacturing a Printed Circuit Board with at Least One Optoelectronic Component Integrated into the Printed Circuit Board
In an embodiment a method for manufacturing a printed circuit board with at least one optoelectronic component integrated into the printed circuit board includes arranging the at least one optoelectronic component on a first metal layer, pressing a first electrically insulating layer onto the at least one optoelectronic component and creating at least one recess in the first metal layer and/or the first electrically insulating layer thereby at least partially exposing the at least one optoelectronic component, wherein the first electrically insulating layer comprises a fiber reinforced plastic or a glass fiber fabric.
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
H01L 33/54 - Encapsulations ayant une forme particulière
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 23/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
95.
METHOD FOR SERVERING AN EPITAXIALLY GROWN SEMICONDUCTOR BODY, AND SEMICONDUCTOR CHIP
A method for severing an epitaxially grown semiconductor body is given, in which
A method for severing an epitaxially grown semiconductor body is given, in which
a) a growth substrate (2) is provided;
A method for severing an epitaxially grown semiconductor body is given, in which
a) a growth substrate (2) is provided;
b) at least one trench (20) is produced in a first main surface (2a) of the growth substrate (2) by etching;
A method for severing an epitaxially grown semiconductor body is given, in which
a) a growth substrate (2) is provided;
b) at least one trench (20) is produced in a first main surface (2a) of the growth substrate (2) by etching;
c) a semiconductor material is epitaxially deposited on the first main surface (2a) and in the trench (20), wherein a semiconductor body (1) is formed, and the semiconductor body at least partially fills the trench (20); and
A method for severing an epitaxially grown semiconductor body is given, in which
a) a growth substrate (2) is provided;
b) at least one trench (20) is produced in a first main surface (2a) of the growth substrate (2) by etching;
c) a semiconductor material is epitaxially deposited on the first main surface (2a) and in the trench (20), wherein a semiconductor body (1) is formed, and the semiconductor body at least partially fills the trench (20); and
d) the semiconductor body and the growth substrate are cut along the main direction of the trench.
A method for severing an epitaxially grown semiconductor body is given, in which
a) a growth substrate (2) is provided;
b) at least one trench (20) is produced in a first main surface (2a) of the growth substrate (2) by etching;
c) a semiconductor material is epitaxially deposited on the first main surface (2a) and in the trench (20), wherein a semiconductor body (1) is formed, and the semiconductor body at least partially fills the trench (20); and
d) the semiconductor body and the growth substrate are cut along the main direction of the trench.
Furthermore, a semiconductor chip with a cover surface and side surfaces is specified, in which the side surfaces each have a beveled section that is adjacent to the cover surface and whose surface is created by epitaxy.
H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/268 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée les radiations étant électromagnétiques, p.ex. des rayons laser
96.
Method of producing optoelectronic semiconductor components and an optoelectronic semiconductor component
An optoelectronic semiconductor component includes a primary light source including a carrier and a semiconductor layer sequence mounted thereon and configured to generate primary light, and at least one conversion unit of at least one semiconductor material adapted to convert the primary light into at least one secondary light, wherein the semiconductor layer sequence and the converter unit are separate elements, the semiconductor layer sequence includes a plurality of pixels, the pixels are configured to be controlled electrically independently of each other, the carrier includes a plurality of control units configured to drive the pixels, all pixels of a first group are free of a conversion unit and are configured to emit the primary light, all pixels of a second group of pixels include exactly one conversion unit each and are configured to emit the at least one secondary light.
H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
H01L 27/15 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants semi-conducteurs avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, spécialement adaptés pour l'émission de lumière
97.
Method for producing an optoelectronic semiconductor chip and optoelectronic semiconductor chip
In an embodiment a method includes providing a growth substrate comprising a growth surface formed by a planar region having a plurality of three-dimensional surface structures on the planar region, directly applying a nucleation layer of oxygen-containing AlN to the growth surface and growing a nitride-based semiconductor layer sequence on the nucleation layer, wherein growing the semiconductor layer sequence includes selectively growing the semiconductor layer sequence upwards from the planar region such that a growth of the semiconductor layer sequence on surfaces of the three-dimensional surface structures is reduced or non-existent compared to a growth on the planar region, wherein the nucleation layer is applied onto both the planar region and the three-dimensional surface structures of the growth surface, and wherein a selectivity of the growth of the semiconductor layer sequence on the planar region is targetedly adjusted by an oxygen content of the nucleation layer.
H01L 31/18 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 33/12 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs ayant une structure de relaxation des contraintes, p.ex. couche tampon
H01L 33/22 - Surfaces irrégulières ou rugueuses, p.ex. à l'interface entre les couches épitaxiales
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 31/0304 - Matériaux inorganiques comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 33/32 - Matériaux de la région électroluminescente contenant uniquement des éléments du groupe III et du groupe V de la classification périodique contenant de l'azote
In an embodiment an arrangement includes a plurality of pixels, wherein each pixel includes at least two subpixels of each color, wherein each color is defined by a predefined target color location, wherein each subpixel comprises an optoelectronic component defined by a color location, wherein the color locations of the optoelectronic components of each color is chosen such that during operation of the optoelectronic components the predefined target color location is met for each color, wherein the optoelectronic components for each color are of identical design, and a controller configured to commonly control the optoelectronic components of a color.
G09G 3/20 - Dispositions ou circuits de commande présentant un intérêt uniquement pour l'affichage utilisant des moyens de visualisation autres que les tubes à rayons cathodiques pour la présentation d'un ensemble de plusieurs caractères, p.ex. d'une page, en composant l'ensemble par combinaison d'éléments individuels disposés en matrice
G09G 3/32 - Dispositions ou circuits de commande présentant un intérêt uniquement pour l'affichage utilisant des moyens de visualisation autres que les tubes à rayons cathodiques pour la présentation d'un ensemble de plusieurs caractères, p.ex. d'une page, en composant l'ensemble par combinaison d'éléments individuels disposés en matrice utilisant des sources lumineuses commandées utilisant des panneaux électroluminescents semi-conducteurs, p.ex. utilisant des diodes électroluminescentes [LED]
G09G 3/34 - Dispositions ou circuits de commande présentant un intérêt uniquement pour l'affichage utilisant des moyens de visualisation autres que les tubes à rayons cathodiques pour la présentation d'un ensemble de plusieurs caractères, p.ex. d'une page, en composant l'ensemble par combinaison d'éléments individuels disposés en matrice en commandant la lumière provenant d'une source indépendante
H01L 25/075 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans le même sous-groupe des groupes , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
H01L 33/62 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le corps semi-conducteur ou depuis celui-ci, p.ex. grille de connexion, fil de connexion ou billes de soudure
A light fiber and an illuminating device are disclosed. In an embodiment a light fiber includes a cladding and at least two cores configured to conduct electromagnetic radiation, wherein each core comprises an incoupling surface at one end of the light fiber, wherein the incoupling surfaces of different cores are not contiguous, wherein each of the cladding and/or the cores includes at least one outcoupling zone configured to outcouple the electromagnetic radiation from the cores, wherein the light fiber is configured to emit at least a majority of the electromagnetic radiation in a region of outcoupling zone transverse to a main extension direction of the light fiber, wherein the cores are configured to guide primary radiation, and wherein the outcoupling zone is configured to mix the primary radiation so that mixed light is emitted from the light fiber.
F21K 9/61 - Agencements optiques intégrés dans la source lumineuse, p.ex. pour améliorer l’indice de rendu des couleurs ou l’extraction de lumière en utilisant des guides de lumière
F21Y 113/13 - Combinaison de sources lumineuses de couleurs différentes comprenant un ensemble de sources lumineuses ponctuelles
A semiconductor device with at least one radiation emitting optical semiconductor chip, an integrated circuit, and exactly two connecting contacts. The semiconductor device has a variable radiation characteristic which is controlled as a function of a voltage signal both for data transmission and for supplying the semiconductor device which can be applied to the connecting contacts and varied over time.
H04B 10/00 - Systèmes de transmission utilisant des ondes électromagnétiques autres que les ondes hertziennes, p.ex. les infrarouges, la lumière visible ou ultraviolette, ou utilisant des radiations corpusculaires, p.ex. les communications quantiques
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des groupes principaux , ou dans une seule sous-classe de , , p.ex. circuit hybrides
H05B 47/185 - Commande de la source lumineuse par télécommande via une transmission par ligne électrique
H04B 10/50 - Systèmes de transmission utilisant des ondes électromagnétiques autres que les ondes hertziennes, p.ex. les infrarouges, la lumière visible ou ultraviolette, ou utilisant des radiations corpusculaires, p.ex. les communications quantiques Émetteurs
brevets
