Nissan Chemical Industries, Ltd.

Japon

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Type PI
        Brevet 1 836
        Marque 9
Juridiction
        International 1 338
        États-Unis 487
        Canada 20
Propriétaire / Filiale
[Owner] Nissan Chemical Industries, Ltd. 1 822
Nissei Corporation 20
Thin Materials AG 3
Date
2023 2
2022 4
2021 9
2020 6
2019 30
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Classe IPC
G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement 332
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage 268
H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou 230
C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides 216
C08L 79/08 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides 88
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Statut
En Instance 11
Enregistré / En vigueur 1 834
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1.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING INDOLOCARBAZOLE NOVOLAK RESIN

      
Numéro d'application 18207934
Statut En instance
Date de dépôt 2023-06-09
Date de la première publication 2023-10-12
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Tokunaga, Hikaru
  • Saito, Daigo
  • Hashimoto, Keisuke
  • Sakamoto, Rikimaru

Abrégé

A resist underlayer film for lithography does not cause intermixing with a resist layer, has high dry etching resistance and high heat resistance, and generates a low amount of sublimate. A resist underlayer film-forming composition containing a polymer having a unit structure of the following formula (1): A resist underlayer film for lithography does not cause intermixing with a resist layer, has high dry etching resistance and high heat resistance, and generates a low amount of sublimate. A resist underlayer film-forming composition containing a polymer having a unit structure of the following formula (1): A resist underlayer film for lithography does not cause intermixing with a resist layer, has high dry etching resistance and high heat resistance, and generates a low amount of sublimate. A resist underlayer film-forming composition containing a polymer having a unit structure of the following formula (1): wherein A is a divalent group having at least two amino groups, the group is derived from a compound having a condensed ring structure and an aromatic group for substituting a hydrogen atom on the condensed ring, and B1 and B2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, a benzene ring group, a condensed ring group, or a combination thereof, or B1 and B2 optionally form a ring with a carbon atom bonded to B1 and B2.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • C08G 12/26 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones obtenus uniquement avec des composés contenant de l'hydrogène fixé sur de l'azote d'aldéhydes avec des composés hétérocycliques
  • C09D 161/26 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des composés contenant de l'hydrogène lié à l'azote d'aldéhydes avec des composés hétérocycliques
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
  • C08G 16/02 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones avec des monomères non prévus dans les groupes d'aldéhydes
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou

2.

RADIATION SENSITIVE COMPOSITION

      
Numéro d'application 18080128
Statut En instance
Date de dépôt 2022-12-13
Date de la première publication 2023-04-27
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nakajima, Makoto
  • Takase, Kenji
  • Takeda, Satoshi
  • Shibayama, Wataru

Abrégé

A compound of Formula (5-1) or Formula (5-3): A compound of Formula (5-1) or Formula (5-3): A compound of Formula (5-1) or Formula (5-3): where R17 and R21 are each an ethyl group; R22 and R23 are each a methyl group; and R16 and R20 are each a methoxy group.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • C07F 7/18 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si ainsi qu'une ou plusieurs liaisons C—O—Si
  • C08G 77/50 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone dans lesquels au moins deux atomes de silicium, mais pas la totalité, sont liés autrement que par des atomes d'oxygène par des liaisons au carbone
  • C08G 77/14 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/30 - Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
  • G03F 7/36 - Dépouillement selon l'image non couvert par les groupes , p.ex. utilisant un courant gazeux, un plasma
  • C08G 77/06 - Procédés de préparation
  • C08G 77/18 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène à des groupes alcoxyle ou aryloxyle
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs
  • G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage
  • H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques

3.

Resist underlayer film-forming composition containing indolocarbazole novolak resin

      
Numéro d'application 17880761
Numéro de brevet 11720024
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-08-04
Date de la première publication 2022-12-22
Date d'octroi 2023-08-08
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Tokunaga, Hikaru
  • Saito, Daigo
  • Hashimoto, Keisuke
  • Sakamoto, Rikimaru

Abrégé

A resist underlayer film for lithography does not cause intermixing with a resist layer, has high dry etching resistance and high heat resistance, and generates a low amount of sublimate. A resist underlayer film-forming composition containing a polymer having a unit structure of the following formula (1): 2.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • C08G 12/26 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones obtenus uniquement avec des composés contenant de l'hydrogène fixé sur de l'azote d'aldéhydes avec des composés hétérocycliques
  • C08G 16/02 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones avec des monomères non prévus dans les groupes d'aldéhydes
  • C09D 161/26 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des composés contenant de l'hydrogène lié à l'azote d'aldéhydes avec des composés hétérocycliques
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou

4.

Amorphous metal oxide semiconductor layer and semiconductor device

      
Numéro d'application 17851868
Numéro de brevet 11894429
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-06-28
Date de la première publication 2022-10-13
Date d'octroi 2024-02-06
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hiroi, Yoshiomi
  • Maeda, Shinichi

Abrégé

Methods for producing the amorphous metal oxide semiconductor layer where amorphous metal oxide semiconductor layer is formed by use of a precursor composition containing a metal salt, a primary amide, and a water-based solution. The methodology for producing the amorphous metal oxide semiconductor layer includes applying the precursor composition onto a substrate to form a precursor film, and firing the film at a temperature of 150° C. or higher and lower than 300° C.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/24 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des matériaux semi-conducteurs inorganiques non couverts par les groupes , ,  ou
  • H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
  • H01L 29/786 - Transistors à couche mince
  • C04B 35/626 - Préparation ou traitement des poudres individuellement ou par fournées
  • C04B 35/01 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base d'oxydes
  • C04B 35/453 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base d'oxydes à base d'oxydes de zinc, d'étain ou de bismuth ou de leurs solutions solides avec d'autres oxydes, p.ex. zincates, stannates ou bismuthates

5.

METHOD FOR PREPARING LIQUID MEDIUM COMPOSITION, AND PREPARATION DEVICE AND KIT THEREFOR

      
Numéro d'application 17742130
Statut En instance
Date de dépôt 2022-05-11
Date de la première publication 2022-08-25
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hayashi, Hisato
  • Saruhashi, Koichiro
  • Kanaki, Tatsuro

Abrégé

The present invention provides a method capable of easily mixing any liquid containing a linking substance such as a divalent metal cation and the like with a liquid containing a particular compound at a high concentration, and capable of producing a liquid medium composition comprising fine structures dispersed therein, and a production device therefor and a kit therefor. The first liquid containing a particular compound is passed through a through-hole having a given cross-sectional area formed in a nozzle part at a given flow rate and injected into the second liquid at a given flow rate. By this simple operation, a structure in which the particular compound is bonded via the linking substance is formed, and the structure is preferably dispersed in a mixture of the both liquids.

Classes IPC  ?

  • C08B 37/00 - Préparation des polysaccharides non prévus dans les groupes ; Leurs dérivés
  • C12N 5/00 - Cellules non différenciées humaines, animales ou végétales, p.ex. lignées cellulaires; Tissus; Leur culture ou conservation; Milieux de culture à cet effet
  • A61J 1/20 - Dispositions pour le transfert des liquides, p.ex. du flacon à la seringue
  • B01J 19/24 - Réacteurs fixes sans élément interne mobile
  • C08J 3/205 - Formation de mélanges de polymères avec des additifs, p.ex. coloration en présence d'une phase liquide

6.

METAL OXIDE PARTICLES CONTAINING TITANIUM OXIDE COATED WITH SILICON DIOXIDE-STANNIC OXIDE COMPLEX OXIDE

      
Numéro d'application 17574966
Statut En instance
Date de dépôt 2022-01-13
Date de la première publication 2022-05-05
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Koyama, Yoshinari
  • Furukawa, Tomoki
  • Asada, Motoko

Abrégé

A substrate is coated with a transparent coating film using a coating liquid for forming a transparent coating film including metal oxide particles and a matrix formation component. The metal oxide particles each include a metal oxide particle containing titanium oxide coated with silicon dioxide-stannic oxide complex oxide, including a titanium oxide-containing core particle; and a coating layer with which the titanium oxide-containing core particle is coated and that is made of silicon dioxide-stannic oxide complex oxide colloidal particles having a mass ratio of silicon dioxide/stannic oxide of 0.1 to 5.0, where one or more intermediate thin film layers that are made of any one of an oxide; a complex oxide of at least one element selected from Si, Al, Sn, Zr, Zn, Sb, Nb, Ta, and W; and a mixture of the oxide and the complex oxide are interposed between the core particle and the coating layer.

Classes IPC  ?

  • C09D 7/62 - Adjuvants non macromoléculaires inorganiques modifiés par traitement avec d’autres composés
  • C09D 175/04 - Polyuréthanes
  • C09D 5/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produits; Apprêts en pâte
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p.ex. nanocomposites
  • C01G 23/047 - Dioxyde de titane
  • C09D 7/40 - Adjuvants
  • C08G 18/08 - Procédés de préparation
  • C09C 1/36 - Composés du titane
  • C01G 23/053 - Obtention par voie humide, p.ex. par hydrolyse de sels de titane

7.

Transdermally absorbable base material containing lipid peptide compound

      
Numéro d'application 17469958
Numéro de brevet 11771645
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-09-09
Date de la première publication 2021-12-30
Date d'octroi 2023-10-03
Propriétaire
  • KYUSHU UNIVERSITY (Japon)
  • NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Goto, Masahiro
  • Miyachi, Nobuhide
  • Iwama, Takehisa
  • Imoto, Takayuki

Abrégé

A transdermally absorbable base material including: a lipid peptide compound including at least one of compound of Formula (1) below and the similar compounds or pharmaceutically usable salts thereof; a surfactant; a specific polyhydric alcohol; a fatty acid; and water, 2 group, or a 5-membered cyclic group optionally having 1 to 3 nitrogen atoms, a 6-membered cyclic group optionally having 1 to 3 nitrogen atoms, or a condensed heterocyclic group constituted by a 5-membered cyclic group and a 6-membered cyclic group which optionally have 1 to 3 nitrogen atoms.

Classes IPC  ?

  • A61K 9/00 - Préparations médicinales caractérisées par un aspect particulier
  • A61K 47/10 - Alcools; Phénols; Leurs sels, p.ex. glycérol; Polyéthylène glycols [PEG]; Poloxamères; Alkyléthers de PEG/POE
  • A61K 47/12 - Acides carboxyliques; Leurs sels ou anhydrides
  • A61K 47/42 - Protéines; Polypeptides; Leurs produits de dégradation; Leurs dérivés p.ex. albumine, gélatine ou zéine
  • A61K 9/06 - Onguents; Excipients pour ceux-ci
  • A61K 38/28 - Insulines
  • A61K 47/18 - Amines; Amides; Urées; Composés d’ammonium quaternaire; Acides aminés; Oligopeptides ayant jusqu’à cinq acides aminés
  • A61K 31/728 - Acide hyaluronique
  • A61K 8/02 - Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette caractérisés par une forme physique particulière
  • A61K 8/34 - Alcools
  • A61K 8/36 - Acides carboxyliques; Leurs sels ou anhydrides
  • A61K 8/60 - Sucres; Leurs dérivés
  • A61K 8/64 - Protéines; Peptides; Leurs dérivés ou produits de dégradation
  • A61K 47/26 - Hydrates de carbone, p.ex. polyols ou sucres alcoolisés, sucres aminés, acides nucléiques, mono-, di- ou oligosaccharides; Leurs dérivés, p.ex. polysorbates, esters d’acide gras de sorbitan ou glycyrrhizine
  • A61Q 19/00 - Préparations pour les soins de la peau

8.

nissei

      
Numéro d'application 1623895
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2021-09-14
Date d'enregistrement 2021-09-14
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Classes de Nice  ? 07 - Machines et machines-outils

Produits et services

Motors, electric, other than for land vehicles; reduction gears other than for land vehicles; gear boxes other than for land vehicles.

9.

UXIMO

      
Numéro d'application 1620408
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2021-08-23
Date d'enregistrement 2021-08-23
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Classes de Nice  ? 07 - Machines et machines-outils

Produits et services

Motors and engines other than for land vehicles; reduction gears other than for land vehicles; transmissions other than for land vehicles.

10.

NISSEI

      
Numéro de série 79324748
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2021-09-14
Date d'enregistrement 2023-04-11
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Classes de Nice  ? 07 - Machines et machines-outils

Produits et services

Motors, electric, other than for land vehicles; reduction gears other than for land vehicles; gear boxes other than for land vehicles

11.

nissei

      
Numéro d'application 1623895B
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2021-09-14
Date d'enregistrement 2021-09-14
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Classes de Nice  ? 07 - Machines et machines-outils

Produits et services

Motors, electric, other than for land vehicles; reduction gears other than for land vehicles; gear boxes other than for land vehicles.

12.

UXIMO

      
Numéro d'application 214164500
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2021-08-23
Date d'enregistrement 2024-04-04
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Classes de Nice  ? 07 - Machines et machines-outils

Produits et services

(1) Motors and engines used in industrial applications; reduction gears being parts of machines; transmissions for machines

13.

UXIMO

      
Numéro de série 79323340
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2021-08-23
Date d'enregistrement 2022-12-13
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Classes de Nice  ? 07 - Machines et machines-outils

Produits et services

Motors and engines other than for land vehicles; reduction gears other than for land vehicles; transmissions other than for land vehicles

14.

Film forming composition containing fluorine-containing surfactant

      
Numéro d'application 17126280
Numéro de brevet 11459414
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-12-18
Date de la première publication 2021-04-08
Date d'octroi 2022-10-04
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Umezaki, Makiko
  • Karasawa, Ryo
  • Shigaki, Shuhei
  • Mizuochi, Ryuta

Abrégé

3-5 perfluoroalkyl partial structure. The perfluoroalkyl partial structure may further include an alkyl partial structure. The surfactant is contained in an amount of 0.0001% by mass to 1.5% by mass based on the total solid content of the film forming composition. The film forming composition further includes a coating film resin, the coating film resin is a novolac resin, a condensation epoxy resin, a (meth)acrylic resin, a polyether-based resin, or a silicon-containing resin, etc. The formed film can be used as a resist underlayer film or a resist overlayer film.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
  • C09D 133/12 - Homopolymères ou copolymères du méthacrylate de méthyle
  • C08F 220/14 - Esters méthyliques
  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • C08L 33/14 - Homopolymères ou copolymères des esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
  • G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/30 - Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
  • C08L 101/04 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par la présence de groupes déterminés contenant des atomes d'halogènes
  • C08L 101/00 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés

15.

Composition for forming resist underlayer film and method for forming resist pattern using same

      
Numéro d'application 17070645
Numéro de brevet 11542366
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-10-14
Date de la première publication 2021-01-28
Date d'octroi 2023-01-03
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ogata, Hiroto
  • Usui, Yuki
  • Tamura, Mamoru
  • Kishioka, Takahiro

Abrégé

A method includes applying a composition for forming a resist underlayer film to a substrate having a recess in a surface, and baking the composition for forming a resist underlayer film to form a resist underlayer film for filling at least the recess. The composition for forming a resist underlayer film has a copolymer having a structural unit of following formula (1), a cross-linkable compound, a cross-linking catalyst, and a solvent: 1-3 alkylene group or a single bond, Z is an —O— group, a —S— group, or a —S—S— group, and Ar is an arylene group.

Classes IPC  ?

  • C08G 63/688 - Polyesters contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène contenant du soufre
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
  • C08G 63/42 - Ethers cycliques; Carbonates cycliques; Sulfites cycliques; Orthoesters cycliques
  • C08G 63/58 - Ethers cycliques; Carbonates cycliques; Sulfites cycliques
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet

16.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING SUBSTITUTED CROSSLINKABLE COMPOUND

      
Numéro d'application 16986921
Statut En instance
Date de dépôt 2020-08-06
Date de la première publication 2020-12-03
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hashimoto, Keisuke
  • Takase, Kenji
  • Shinjo, Tetsuya
  • Sakamoto, Rikimaru
  • Endo, Takafumi
  • Nishimaki, Hirokazu

Abrégé

A resist underlayer film-forming composition includes a resin; and a crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2): A resist underlayer film-forming composition includes a resin; and a crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2): A resist underlayer film-forming composition includes a resin; and a crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2): wherein the crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2) is a compound obtained by reacting a compound of Formula (3) or Formula (4): A resist underlayer film-forming composition includes a resin; and a crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2): wherein the crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2) is a compound obtained by reacting a compound of Formula (3) or Formula (4): A resist underlayer film-forming composition includes a resin; and a crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2): wherein the crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2) is a compound obtained by reacting a compound of Formula (3) or Formula (4): with an ether compound comprising a hydroxy group or a C2-10 alcohol.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • C09D 161/22 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des composés contenant de l'hydrogène lié à l'azote d'aldéhydes avec des composés acycliques ou carbocycliques
  • C09D 161/06 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols d'aldéhydes avec des phénols
  • C08G 12/08 - Amines aromatiques
  • G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
  • C07C 39/10 - Polyhydroxybenzènes; Leurs dérivés alkylés
  • C07C 43/178 - Ethers non saturés contenant des groupes hydroxyle ou O-métal
  • H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes

17.

Photoreactive liquid crystal composition, display element, optical element, method for manufacturing display element, and method for manufacturing optical element

      
Numéro d'application 16922479
Numéro de brevet 11560517
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-07-07
Date de la première publication 2020-10-22
Date d'octroi 2023-01-24
Propriétaire
  • UNIVERSITY OF HYOGO (Japon)
  • NAGAOKA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY (Japon)
  • NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Sasaki, Tomoyuki
  • Ono, Hiroshi
  • Kawatsuki, Nobuhiro
  • Goto, Kohei

Abrégé

A photoreactive liquid crystal composition containing (A) a photoreactive polymer liquid crystal which includes a photoreactive side chain in which at least one type of reaction selected from (A-1) photocrosslinking and (A-2) photoisomerization occurs, and (B) a low molecular weight liquid crystal. An optical element or display element is formed having a liquid crystal cell including the photoreactive liquid crystal composition.

Classes IPC  ?

  • C09K 19/38 - Polymères, p.ex. polyamides
  • C09K 19/32 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant des systèmes cycliques condensés, c. à d. systèmes cycliques condensés en ortho ou en péri, pontés ou condensés en spiro
  • C09K 19/06 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides
  • C09K 19/20 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques liés par une chaîne contenant des atomes de carbone et d'oxygène comme chaînons, p.ex. esters
  • C09K 19/14 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques liés par une chaîne carbonée
  • C09K 19/30 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant des cycles non aromatiques saturés ou insaturés, p.ex. cycle cyclohexanique
  • C09K 19/12 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques au moins deux cycles benzéniques directement liés, p.ex. biphényles
  • C09K 19/44 - Mélanges de composés formant des cristaux liquides couverts par plus d'un groupe précédent contenant des composés à noyaux benzéniques directement liés
  • C09K 19/04 - Substances formant des cristaux liquides caractérisées par la structure chimique des constituants formant des cristaux liquides
  • G03H 1/02 - Procédés ou appareils holographiques utilisant la lumière, les infrarouges ou les ultraviolets pour obtenir des hologrammes ou pour en obtenir une image; Leurs détails spécifiques - Détails

18.

Electroconductive film and method for manufacturing electroconductive pattern

      
Numéro d'application 16895704
Numéro de brevet 11450445
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-06-08
Date de la première publication 2020-09-24
Date d'octroi 2022-09-20
Propriétaire
  • TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION (Japon)
  • NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Arimitsu, Koji
  • Wakabayashi, Makoto

Abrégé

A method for manufacturing an electroconductive pattern 40, provided with: a lamination step for laminating an acid generation film 10 containing an acid proliferation agent and a photoacid generator on a polymer film 20 containing an electroconductive polymer formed on a substrate 21; a masking step for masking the top of the acid generation film 10; a light irradiation step for irradiating the laminate from the acid-generation-film 10 side; a doping step for doping the electroconductive polymer with an acid generated and proliferated in the acid generation film 10 by the light irradiation; and a releasing step for releasing the acid generation film 10 from the polymer film 20. This method makes it possible to provide an electroconductive film and a method for manufacturing an electroconductive pattern in which photoacid generation and acid proliferation effects are utilized.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/34 - Dépouillement selon l'image par transfert sélectif, p.ex. par arrachement
  • H01B 1/12 - Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisés; Emploi de matériaux spécifiés comme conducteurs composés principalement d'autres substances non métalliques substances organiques
  • H01B 13/00 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de conducteurs ou câbles
  • H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
  • C03C 17/28 - Traitement de surface du verre, p.ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement par des matières organiques
  • H01B 5/14 - Conducteurs ou corps conducteurs non isolés caractérisés par la forme comprenant des couches ou pellicules conductrices sur supports isolants

19.

Culture medium composition and method of culturing cell or tissue using thereof

      
Numéro d'application 16801785
Numéro de brevet 11371013
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-02-26
Date de la première publication 2020-07-02
Date d'octroi 2022-06-28
Propriétaire
  • Nissan Chemical Industries, Ltd. (Japon)
  • Kyoto University (Japon)
Inventeur(s)
  • Nishino, Taito
  • Kanaki, Tatsuro
  • Otani, Ayako
  • Saruhashi, Koichiro
  • Tomura, Misayo
  • Iwama, Takehisa
  • Horikawa, Masato
  • Nakatsuji, Norio
  • Otsuji, Tomomi

Abrégé

The present invention provides a culture method of cells and/or tissues including culturing cells and/or tissues in a suspended state by using a medium composition wherein indeterminate structures are formed in a liquid medium, the structures are uniformly dispersed in the solution and substantially retain the cells and/or tissues without substantially increasing the viscosity of the solution, thus affording an effect of preventing sedimentation thereof, and the like.

Classes IPC  ?

  • C12N 5/00 - Cellules non différenciées humaines, animales ou végétales, p.ex. lignées cellulaires; Tissus; Leur culture ou conservation; Milieux de culture à cet effet
  • G01N 33/50 - Analyse chimique de matériau biologique, p.ex. de sang ou d'urine; Test par des méthodes faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques par ligands; Test immunologique
  • C12N 5/071 - Cellules ou tissus de vertébrés, p.ex. cellules humaines ou tissus humains
  • C12N 5/09 - Cellules tumorales

20.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition having phenyl group-containing chromophore

      
Numéro d'application 16307056
Numéro de brevet 11175583
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-12-04
Date de la première publication 2020-01-23
Date d'octroi 2021-11-16
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nakajima, Makoto
  • Shibayama, Wataru
  • Takeda, Satoshi
  • Takase, Kenji

Abrégé

1 is an organic group of Formula (2): 3 is an alkoxy group, an acyloxy group, or a halogen group; a is an integer of 1; b is an integer of 0 to 2; and a+b is an integer of 1 to 3], and a ratio of sulfur atoms to silicon atoms is 7% by mole or more in the whole of the silane. A resist underlayer film obtained by applying the resist underlayer film-forming composition onto a semiconductor substrate and baking it.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • C08G 77/28 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène groupes contenant du soufre
  • G03F 7/26 - Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
  • H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
  • C09D 183/08 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/30 - Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
  • H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes

21.

Method for manufacturing carbonaceous luminescent material

      
Numéro d'application 16573801
Numéro de brevet 11041120
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-09-17
Date de la première publication 2020-01-23
Date d'octroi 2021-06-22
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Isaji, Tadayuki
  • Otani, Naoki
  • Ueda, Masahiro
  • Kawasaki, Takayoshi

Abrégé

Provided is a method for manufacturing a carbonaceous luminescent material in which a polycarboxylic-acid-containing starting material, an acid catalyst, and a solvent are mixed together and heated.

Classes IPC  ?

  • C09K 11/65 - Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances inorganiques luminescentes contenant du carbone
  • C09K 11/08 - Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances inorganiques luminescentes
  • C01B 32/184 - Préparation

22.

Transdermally absorbable base material containing lipid peptide compound

      
Numéro d'application 16554015
Numéro de brevet 11452688
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-08-28
Date de la première publication 2019-12-19
Date d'octroi 2022-09-27
Propriétaire
  • KYUSHU UNIVERSITY (Japon)
  • NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Goto, Masahiro
  • Miyachi, Nobuhide
  • Iwama, Takehisa
  • Imoto, Takayuki

Abrégé

A transdermally absorbable base material including: a lipid peptide compound including at least one of compound of Formula (1) below and the similar compounds or pharmaceutically usable salts thereof; a surfactant; a specific polyhydric alcohol; a fatty acid; and water, 2 group, or a 5-membered cyclic group optionally having 1 to 3 nitrogen atoms, a 6-membered cyclic group optionally having 1 to 3 nitrogen atoms, or a condensed heterocyclic group constituted by a 5-membered cyclic group and a 6-membered cyclic group which optionally have 1 to 3 nitrogen atoms.

Classes IPC  ?

  • A61K 9/00 - Préparations médicinales caractérisées par un aspect particulier
  • A61K 47/10 - Alcools; Phénols; Leurs sels, p.ex. glycérol; Polyéthylène glycols [PEG]; Poloxamères; Alkyléthers de PEG/POE
  • A61K 47/12 - Acides carboxyliques; Leurs sels ou anhydrides
  • A61K 47/42 - Protéines; Polypeptides; Leurs produits de dégradation; Leurs dérivés p.ex. albumine, gélatine ou zéine
  • A61K 47/18 - Amines; Amides; Urées; Composés d’ammonium quaternaire; Acides aminés; Oligopeptides ayant jusqu’à cinq acides aminés
  • A61K 47/26 - Hydrates de carbone, p.ex. polyols ou sucres alcoolisés, sucres aminés, acides nucléiques, mono-, di- ou oligosaccharides; Leurs dérivés, p.ex. polysorbates, esters d’acide gras de sorbitan ou glycyrrhizine
  • A61Q 19/00 - Préparations pour les soins de la peau
  • A61K 9/06 - Onguents; Excipients pour ceux-ci
  • A61K 38/28 - Insulines
  • A61K 31/728 - Acide hyaluronique
  • A61K 8/02 - Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette caractérisés par une forme physique particulière
  • A61K 8/34 - Alcools
  • A61K 8/36 - Acides carboxyliques; Leurs sels ou anhydrides
  • A61K 8/60 - Sucres; Leurs dérivés
  • A61K 8/64 - Protéines; Peptides; Leurs dérivés ou produits de dégradation

23.

Production method for GI optical waveguide

      
Numéro d'application 15770294
Numéro de brevet 10465054
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-10-21
Date de la première publication 2019-11-05
Date d'octroi 2019-11-05
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ishigure, Takaaki
  • Yoshida, Sho
  • Saito, Yuki
  • Yasuhara, Kazuki
  • Nagasawa, Takehiro
  • Ohmori, Kentaro

Abrégé

A production method for an optical waveguide including: a first step of inserting a needle-like portion at a tip end of an ejection unit into uncured cladding; a second step of moving the needle-like portion in the uncured cladding while ejecting an uncured material from the needle-like portion to form an uncured core surrounded and covered with the uncured cladding; a third step of removing the needle-like portion from the uncured cladding; and a fourth step of curing the uncured cladding and core, wherein the uncured cladding is composed of a composition including a reactive silicone compound composed of a polycondensate of a diarylsilicic acid compound of Formula [1] and a di(meth)acrylate compound of Formula [3] and the uncured core is composed of a composition including a reactive silicone compound and an aromatic vinyl compound of Formula [4]

Classes IPC  ?

  • B29D 11/00 - Fabrication d'éléments optiques, p.ex. lentilles ou prismes
  • C08J 7/04 - Revêtement
  • G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
  • B29K 83/00 - Utilisation de polymères contenant dans la chaîne principale uniquement du silicium avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone comme matière de moulage
  • G02B 6/12 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES - Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré

24.

Additive for resist underlayer film-forming composition and resist underlayer film-forming composition containing the same

      
Numéro d'application 15774321
Numéro de brevet 10795261
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-11-08
Date de la première publication 2019-10-17
Date d'octroi 2020-10-06
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nishita, Tokio
  • Sakamoto, Rikimaru

Abrégé

An additive for a resist underlayer film-forming composition, including a copolymer having structural units of the following Formulae (1) to (3): 4 is a linear, branched, or cyclic organic group having a carbon atom number of 1 to 12, wherein at least one hydrogen atom is substituted with a fluoro group and that optionally has at least one hydroxy group as a substituent. A resist underlayer film-forming composition for lithography including additive, a resin that is different from copolymer, organic acid, crosslinker, and solvent, wherein the copolymer's content is 3 parts by mass to 40 parts by mass relative to 100 parts by mass of the resin.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • C08F 220/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
  • G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs

25.

Saccharification reaction mixture, saccharification enzyme composition, sugar production method, and ethanol production method

      
Numéro d'application 16307086
Numéro de brevet 11001867
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-06-12
Date de la première publication 2019-10-03
Date d'octroi 2021-05-11
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Odaka, Kazutoshi
  • Sekiguchi, Kazutoshi

Abrégé

A saccharification reaction mixture, a saccharification enzyme composition, and a saccharide production method are aimed to enhance saccharization rate by use of an enzyme in a simple step as well as a method for producing ethanol from a saccharide. The saccharification reaction mixture can saccharify at least one of cellulose and hemicellulose and contains at least one of cellulose and hemicellulose, a saccharification enzyme, silica or a silica-containing substance, and at least one compound (A) selected from the group made of thiourea, a thiourea derivative, an isothiourea derivative, and a salt of any of these.

Classes IPC  ?

  • C12P 19/14 - Préparation de composés contenant des radicaux saccharide préparés par action d'une carbohydrase, p.ex. par action de l'alpha-amylase
  • C12P 7/06 - Ethanol en tant que produit chimique et non en tant que boisson alcoolique
  • C12P 19/02 - Monosaccharides
  • C13K 1/02 - Glucose; Sirops glucosés obtenus par saccharification de matières cellulosiques

26.

ORTHOGONAL AXIS SPEED REDUCER, AND ROBOT EMPLOYING ORTHOGONAL AXIS SPEED REDUCER

      
Numéro d'application JP2019011547
Numéro de publication 2019/181964
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-03-19
Date de publication 2019-09-26
Propriétaire
  • NISSEI CORPORATION (Japon)
  • BROTHER KOGYO KABUSHIKI KAISHA (Japon)
Inventeur(s)
  • Haraguchi Kunihiro
  • Watanabe Masateru
  • Kawamura Hiroshi

Abrégé

[Problem] To provide an orthogonal axis speed reducer and a robot employing an orthogonal axis speed reducer, with which it is possible for an internal diameter of a tubular member to be increased. [Solution] An orthogonal axis speed reducer 100 comprises a first speed reducing unit 1 having a hollow input shaft 14a, a second speed reducing unit 2 comprising a bevel gear 41 fixed to the input shaft 14a and a bevel pinion 42 which meshes with the bevel gear 41 and rotates about an axis O3 orthogonal to an axis O1 of the input shaft 14a, a casing 3 equipped internally with the second speed reducing unit 2, and a tubular member 4 which is fixed to the casing 3 and which penetrates coaxially through the input shaft 14a and the bevel gear 41, wherein the tubular member 4 is fixed to the casing 3 in a cantilevered state, without axially supporting the first speed reducing unit 1 or the bevel gear 41.

Classes IPC  ?

  • F16H 1/14 - Transmissions à engrenages pour transmettre un mouvement rotatif sans engrenages à mouvement orbital comportant uniquement deux organes engrenés dont les axes ne sont pas parallèles comportant uniquement des engrenages coniques
  • B25J 17/00 - Joints
  • F16H 57/038 - Boîtes de vitesses pour engrenages coniques

27.

Polymerizable composition comprising reactive silsesquioxane compound and aromatic vinyl compound

      
Numéro d'application 15753689
Numéro de brevet 10450418
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-08-12
Date de la première publication 2019-09-26
Date d'octroi 2019-10-22
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nagasawa, Takehiro
  • Kato, Taku
  • Ohmori, Kentaro
  • Shuto, Keisuke
  • Takase, Kenji

Abrégé

A polymerizable composition suitable for producing a molded article that can maintain a high refractive index and a low Abbe's number and can be restrained from dimensional changes due to a high-temperature thermal history has (a) 100 parts by mass of a specific reactive silsesquioxane compound, (b) 10 to 500 parts by mass of a specific fluorene compound and (c) 1 to 100 parts by mass of a specific aromatic vinyl compound. A cured product can be obtained by curing the polymerizable composition.

Classes IPC  ?

  • C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
  • C08F 230/08 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et contenant du phosphore, du sélénium, du tellure ou un métal contenant un métal contenant du silicium
  • C08F 212/36 - Divinylbenzène
  • C08G 77/442 - Polymères séquencés ou greffés contenant des segments de polysiloxanes contenant des segments de polymères vinyliques
  • B29D 11/00 - Fabrication d'éléments optiques, p.ex. lentilles ou prismes
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
  • B29K 83/00 - Utilisation de polymères contenant dans la chaîne principale uniquement du silicium avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone comme matière de moulage
  • C08G 77/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone

28.

REDUCTION GEAR AND METHOD FOR MANUFACTURING REDUCTION GEAR SERIES

      
Numéro d'application JP2019011548
Numéro de publication 2019/181965
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-03-19
Date de publication 2019-09-26
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Inventeur(s) Haraguchi Kunihiro

Abrégé

[Problem] To obtain a reducer and a method for manufacturing a reducer series with which the increase in the number of components can be minimized and the size in an axial direction can be reduced. [Solution] A method for manufacturing a reduction gear series configured including: an orthogonal-shaft reduction gear 100 having a first reducer 1 that has a hollow input shaft 14a, a second reducer 2 composed of a bevel gear 41 provided to the input shaft 14a and a bevel pinion 42 that meshes with the bevel gear 41 and rotates about an axis O3 orthogonal to an axis O1 of the input shaft 14a, a casing 3 that houses the second reducer 2, and a tubular member 4 that is secured to the casing 3 and that coaxially passes through the input shaft 14a and the bevel gear 41; and a parallel-shaft reduction gear configured using members having the same shapes as an internally toothed gear 11, an externally toothed gear 10, and a carrier 13 used in the first reducer 1; said manufacturing method characterized in that the parallel-shaft reduction gear is configured using an input shaft of which the shape of an eccentric part is the same as that of the input shaft 14a used in the orthogonal-shaft reduction gear 100, and which has greater axial length than the input shaft 14a.

Classes IPC  ?

  • F16H 57/033 - Séries de boîtes de vitesses, p.ex. boîtes de vitesses basées sur le même modèle de dimensions différentes ou boîtes de vitesses utilisant une combinaison de plusieurs unités standardisées
  • F16H 1/32 - Transmissions à engrenages pour transmettre un mouvement rotatif avec engrenages à mouvement orbital dans lesquels l'axe central de la transmission est situé à l'intérieur de la périphérie d'un engrenage orbital

29.

DNA aptamers binding to molecular targeted agents and detection method of molecular targeted medicine using the same

      
Numéro d'application 15779753
Numéro de brevet 10640772
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-11-29
Date de la première publication 2019-09-19
Date d'octroi 2020-05-05
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s) Furusho, Hitoshi

Abrégé

The objective of the present invention is to provide a DNA aptamer that can specifically binding to a molecular targeted medicine, a composition comprising the DNA aptamer, and a method for detecting a molecular targeted medicine using the DNA aptamer. A DNA aptamer comprising specifically binding to a molecular targeted medicine, a composition for detecting a molecular targeted medicine comprising the DNA aptamer, a kid for detecting a molecular targeted medicine, and a method for detecting a molecular targeted medicine comprising using the DNA aptamer.

Classes IPC  ?

  • A61K 48/00 - Préparations médicinales contenant du matériel génétique qui est introduit dans des cellules du corps vivant pour traiter des maladies génétiques; Thérapie génique
  • C07H 21/04 - Composés contenant au moins deux unités mononucléotide comportant chacune des groupes phosphate ou polyphosphate distincts liés aux radicaux saccharide des groupes nucléoside, p.ex. acides nucléiques avec le désoxyribosyle comme radical saccharide
  • C12N 15/115 - Aptamères, c. à d. acides nucléiques liant spécifiquement une molécule cible avec une haute affinité sans s'y hybrider
  • B82Y 5/00 - Nanobiotechnologie ou nanomédecine, p.ex. génie protéique ou administration de médicaments
  • B82Y 15/00 - Nanotechnologie pour l’interaction, la détection ou l'actionnement, p.ex. points quantiques comme marqueurs en dosages protéiques ou moteurs moléculaires
  • B82Y 25/00 - Nanomagnétisme, p.ex. magnéto-impédance, magnétorésistance anisotropique, magnétorésistance géante ou magnétorésistance à effet tunnel
  • C07K 16/22 - Immunoglobulines, p.ex. anticorps monoclonaux ou polyclonaux contre du matériel provenant d'animaux ou d'humains contre des facteurs de croissance
  • G01N 33/52 - Utilisation de composés ou de compositions pour des recherches colorimétriques, spectrophotométriques ou fluorométriques, p.ex. utilisation de bandes de papier indicateur
  • G01N 33/577 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet faisant intervenir des anticorps monoclonaux
  • G01N 33/53 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet
  • G01N 33/50 - Analyse chimique de matériau biologique, p.ex. de sang ou d'urine; Test par des méthodes faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques par ligands; Test immunologique

30.

BRAKE-EQUIPPED MOTOR AND METHOD FOR MANUFACTURING MOTORS IN SERIES

      
Numéro d'application JP2019002099
Numéro de publication 2019/146649
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-01-23
Date de publication 2019-08-01
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Inventeur(s)
  • Yamaguchi Takaharu
  • Hamawaki Yoshiaki
  • Iijima Masato
  • Tanaka Yoshimasa
  • Miura Yousuke
  • Kobayashi Akito
  • Sanji Yoshihiro

Abrégé

[Problem] To make it possible, even when components are commonized, to prevent noise and vibration by maintaining the rotational balance of a rotor, and enable selection of a brake-including type and a brake-less type by using a configuration having a large cost-reduction effect. [Solution] A brake-equipped motor 1B comprises: a motor shaft 8 that is rotatably supported by two bearings 9, 9; a brake 20 for braking the motor shaft 8; and a brake hub 28 that has one end thereof fitted to an end 11 of the motor shaft 8 in order to mount the brake 20. The end 11 of the motor shaft 8 has a shape enabling the mounting of a fan 16 if the brake 20 and the brake hub 28 have been removed.

Classes IPC  ?

  • H02K 7/14 - Association structurelle à des charges mécaniques, p.ex. à des machines-outils portatives ou des ventilateurs
  • H02K 7/106 - Association structurelle avec des embrayages, des freins, des engrenages, des poulies ou des démarreurs mécaniques avec des freins dynamo-électriques

31.

Agent for dispersing electrically conductive carbon material, and dispersion of electrically conductive carbon material

      
Numéro d'application 16359621
Numéro de brevet 11326010
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-03-20
Date de la première publication 2019-07-18
Date d'octroi 2022-05-10
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hatanaka, Tatsuya
  • Shibano, Yuki
  • Yoshimoto, Takuji

Abrégé

Provided is an agent for dispersing an electrically conductive carbon material, in which the agent consists of a polymer which has an oxazoline group in a side chain and which is obtained by using an oxazoline group-containing monomer such as that represented by formula (1) for example, and in which the agent exhibits excellent dispersion of an electrically conductive carbon material and produces a thin film that exhibits excellent adhesion to a current collection substrate when formed into a thin film together with the electrically conductive carbon material. 4 each independently denote a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group optionally having a branched structure having 1-5 carbon atoms, an aryl group having 6-20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7-20 carbon atoms.)

Classes IPC  ?

  • C08F 226/06 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison simple ou double à l'azote ou par un hétérocyc par un hétérocycle contenant de l'azote
  • C08K 7/24 - Particules expansibles, poreuses ou creuses inorganiques
  • C08L 33/02 - Homopolymères ou copolymères des acides; Leurs sels métalliques ou d'ammonium
  • C08L 101/02 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par la présence de groupes déterminés
  • C08L 101/06 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par la présence de groupes déterminés contenant des atomes d'oxygène
  • C08L 101/14 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par des propriétés physiques, p.ex. anisotropie, viscosité ou conductivité électrique les composés macromoléculaires étant solubles dans l'eau ou gonflables dans l'eau, p.ex. gels aqueux
  • C09D 5/24 - Peintures électriquement conductrices
  • C09D 105/04 - Acide alginique; Ses dérivés
  • C09D 133/02 - Homopolymères ou copolymères d'acides; Leurs sels métalliques ou d'ammonium
  • C09D 139/04 - Homopolymères ou copolymères de monomères contenant des hétérocycles possédant de l'azote dans le cycle
  • H01B 1/24 - Matériau conducteur dispersé dans un matériau organique non conducteur le matériau conducteur comportant des compositions à base de carbone-silicium, du carbone ou du silicium
  • H01G 11/32 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur matériau à base de carbone
  • H01G 11/68 - Collecteurs de courant caractérisés par leur matériau
  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p.ex. liants, charges
  • H01M 4/66 - Emploi de matériaux spécifiés

32.

Inorganic oxide microparticles having amphiphilic organic silane compound bonded thereto, organic solvent dispersion thereof, and composition for film formation

      
Numéro d'application 16090081
Numéro de brevet 10669426
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-03-24
Date de la première publication 2019-06-20
Date d'octroi 2020-06-02
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Murakami, Natsumi
  • Furukawa, Tomoki
  • Koyama, Yoshinari

Abrégé

1-18 alkylene group or a vinylene group as a hydrophobic group bonded to a surface of modified metal oxide colloidal particles (C) having a primary particle diameter of 2 to 100 nm, the modified metal oxide colloidal particles wherein a surface of metal oxide colloidal particles (A) having a primary particle diameter of 2 to 60 nm as a nucleus is coated with a coating material (B) including metal oxide colloidal particles having a primary particle diameter of 1 to 4 nm.

Classes IPC  ?

  • C09C 3/12 - Traitement par des composés organiques du silicium
  • C01G 23/04 - Oxydes; Hydroxydes
  • C09D 201/00 - Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires non spécifiés
  • C09D 183/04 - Polysiloxanes
  • C09D 7/40 - Adjuvants
  • C09C 1/00 - Traitement de substances inorganiques particulières, autres que des charges fibreuses ; Préparation du noir de carbone
  • C09C 3/00 - Traitement, en général, de substances inorganiques, autres que des charges fibreuses, pour améliorer leurs propriétés de pigmentation ou de charge
  • C09D 7/62 - Adjuvants non macromoléculaires inorganiques modifiés par traitement avec d’autres composés
  • C09C 1/36 - Composés du titane
  • C09C 3/06 - Traitement par des composés inorganiques
  • C09D 5/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produits; Apprêts en pâte
  • C09D 17/00 - Pigments en pâtes, p.ex. pour pigmenter les peintures
  • C09D 135/02 - Homopolymères ou copolymères d'esters
  • C09D 183/06 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
  • C09C 1/30 - Acide silicique

33.

Composition for forming resist underlayer film and method for forming resist pattern using same

      
Numéro d'application 16081668
Numéro de brevet 10844167
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-02-23
Date de la première publication 2019-06-13
Date d'octroi 2020-11-24
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ogata, Hiroto
  • Usui, Yuki
  • Tamura, Mamoru
  • Kishioka, Takahiro

Abrégé

A composition for forming a resist underlayer film that has a high dry etching rate, functions as an anti-reflective coating during exposure, and fills a recess having a narrow space and a high aspect ratio. A composition for forming a resist underlayer film has a copolymer having a structural unit of following formula (1), a cross-linkable compound, a cross-linking catalyst, and a solvent: 1-3 alkylene group or a single bond, Z is an —O— group, a —S— group, or a —S—S— group, and Ar is an arylene group. The copolymer is synthesized by a reaction of a carboxyl group of a dicarboxylic acid compound having an —O— group, a —S— group, or a —S—S— group with an epoxy group of a diglycidyl ether compound having an arylene group.

Classes IPC  ?

  • C08G 63/688 - Polyesters contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène contenant du soufre
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
  • C08G 63/42 - Ethers cycliques; Carbonates cycliques; Sulfites cycliques; Orthoesters cycliques
  • C08G 63/58 - Ethers cycliques; Carbonates cycliques; Sulfites cycliques
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet

34.

Silica sol containing phenylphosphonic acid and applications thereof

      
Numéro d'application 16082000
Numéro de brevet 10662339
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-02-24
Date de la première publication 2019-05-23
Date d'octroi 2020-05-26
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kashima, Yoshiyuki
  • Takakuma, Noriyuki
  • Shimizu, Daisuke

Abrégé

A coating-forming composition for an electrical steel sheet that maintains excellent insulating properties, corrosion resistance, adhesion, and the like required in a coating for an electrical steel sheet, and exhibits excellent viscosity stability, with an increase in viscosity over time being kept gradual. A coating-forming composition for an electrical steel sheet comprises colloidal silica, a phosphate, phenylphosphonic acid or a salt thereof, and an aqueous medium.

Classes IPC  ?

  • C09D 5/08 - Peintures anti-corrosion
  • C09D 1/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de substances inorganiques
  • C09D 7/40 - Adjuvants
  • C23C 22/00 - Traitement chimique de surface de matériaux métalliques par réaction de la surface avec un milieu réactif laissant des produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, p.ex. revêtement par conversion, passivation des métaux

35.

Coating film-forming composition and process for producing the same

      
Numéro d'application 16089562
Numéro de brevet 10676643
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-03-27
Date de la première publication 2019-05-16
Date d'octroi 2020-06-09
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kato, Taku
  • Suzuki, Masayoshi
  • Murakami, Natsumi
  • Iijima, Daiki
  • Furukawa, Tomoki
  • Koyama, Yoshinari

Abrégé

A coating film-forming composition includes a hydrolysis-condensation product of a hydrolyzable silane and fine inorganic particles subjected to a special dispersion treatment, that can be formed into a highly heat-resistant, highly transparent coating film capable of exhibiting a high refractive index and having a large thickness and excellent storage stability as a coating composition; and a process for producing the coating film-forming composition.

Classes IPC  ?

  • C09D 183/04 - Polysiloxanes
  • C09C 3/12 - Traitement par des composés organiques du silicium
  • G02B 3/00 - Lentilles simples ou composées
  • C09D 183/02 - Polysilicates
  • G02B 1/10 - Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci
  • C09D 185/00 - Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant des atomes autres que le silicium, le soufre, l'azote, l'oxygène et le carbone; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
  • C09C 1/36 - Composés du titane
  • C09C 3/00 - Traitement, en général, de substances inorganiques, autres que des charges fibreuses, pour améliorer leurs propriétés de pigmentation ou de charge
  • C09C 1/00 - Traitement de substances inorganiques particulières, autres que des charges fibreuses ; Préparation du noir de carbone
  • G02B 1/14 - Revêtements protecteurs, p.ex. revêtements durs
  • C09D 7/40 - Adjuvants
  • C09D 7/62 - Adjuvants non macromoléculaires inorganiques modifiés par traitement avec d’autres composés
  • C08K 3/22 - Oxydes; Hydroxydes de métaux
  • C08K 3/36 - Silice
  • C08K 9/02 - Ingrédients traités par des substances inorganiques
  • C08K 9/06 - Ingrédients traités par des substances organiques par des composés contenant du silicium
  • H01L 27/146 - Structures de capteurs d'images

36.

Method for roughening surface using wet treatment

      
Numéro d'application 15760597
Numéro de brevet 10804111
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-09-15
Date de la première publication 2019-03-28
Date d'octroi 2020-10-13
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hashimoto, Keisuke
  • Someya, Yasunobu
  • Kishioka, Takahiro
  • Sakamoto, Rikimaru

Abrégé

A method for roughening a surface of a substrate, including: applying a composition containing inorganic particles and organic resin to the surface of the substrate and drying and curing the composition to form an organic resin layer; and etching the substrate by a solution containing hydrogen fluoride, hydrogen peroxide, or an acid, to roughen the surface. Preferably, the solution contains hydrogen fluoride and ammonium fluoride or hydrogen peroxide and ammonia, the resin layer contains a ratio of the particles to the resin of 5 to 50 parts by mass to 100 parts by mass, and the composition is a mixture of silica sol wherein silica is dispersed as the inorganic particles in organic solvent or titanium oxide sol wherein titanium oxide is dispersed, with a solution of the organic resin.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique
  • H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
  • H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
  • H01L 33/22 - Surfaces irrégulières ou rugueuses, p.ex. à l'interface entre les couches épitaxiales
  • H01L 31/0236 - Textures de surface particulières
  • H01L 51/52 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED) - Détails des dispositifs
  • C09D 161/34 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones avec des monomères couverts par au moins deux des groupes , et
  • C03C 17/34 - Traitement de surface du verre, p.ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement avec au moins deux revêtements ayant des compositions différentes
  • C09K 13/06 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage contenant un acide inorganique avec une substance organique
  • C08F 212/32 - Monomères contenant un seul radical aliphatique non saturé contenant plusieurs cycles
  • C09K 13/08 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage contenant un acide inorganique contenant un composé du fluor
  • C03C 17/00 - Traitement de surface du verre, p.ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement
  • C08G 14/06 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones et de plusieurs autres monomères couverts par au moins deux des groupes d'aldéhydes avec des phénols et des monomères contenant de l'hydrogène fixé sur l'azote
  • C03C 15/00 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique
  • C09D 7/40 - Adjuvants
  • C09D 125/02 - Homopolymères ou copolymères d'hydrocarbures
  • C09D 161/18 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des hydrocarbures aromatiques ou leurs dérivés halogénés
  • C08K 3/22 - Oxydes; Hydroxydes de métaux
  • H01L 31/0216 - Revêtements

37.

TERMINAL BOX

      
Numéro d'application JP2018034831
Numéro de publication 2019/059282
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-09-20
Date de publication 2019-03-28
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Inventeur(s)
  • Iijima Masato
  • Tanaka Yoshimasa
  • Yamaguchi Takaharu
  • Hamawaki Yoshiaki
  • Yanagawa Taisei

Abrégé

[Problem] To provide a terminal box with which installation in an electrical device in a state in which waterproofness and dustproofness are exhibited, and position changing (reinstallation) are easily performed. [Solution] This terminal box 11 is attached to a frame 4 of an electric motor 1, i.e. an electrical device. The terminal box 11 is provided with a terminal box main body 12, and a rubber sheet 14 which is capable of being in contact with the frame 4. The terminal box main body 12 is provided with a cutout 12b. The rubber sheet 14 is provided with a protrusion 14b. The rubber sheet 14 is fixed to the terminal box main body 12 by fitting the protrusion 14b into the cutout 12b.

Classes IPC  ?

  • H02K 5/22 - Parties auxiliaires des enveloppes non couvertes par les groupes , p.ex. façonnées pour former des boîtes à connexions ou à bornes
  • H01R 9/00 - Association structurelle de plusieurs éléments de connexion électrique isolés les uns des autres, p.ex. barrettes de raccordement ou blocs de connexion; Bornes ou plots de raccordement montés sur un socle ou dans un coffret; Leurs socles
  • H05K 5/06 - Enveloppes scellées hermétiquement

38.

TERMINAL STRIP AND ELECTRIC MOTOR

      
Numéro d'application JP2018034830
Numéro de publication 2019/059281
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-09-20
Date de publication 2019-03-28
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Inventeur(s)
  • Iijima Masato
  • Tanaka Yoshimasa
  • Yamaguchi Takaharu
  • Hamawaki Yoshiaki

Abrégé

[Problem] To provide: a terminal strip which exhibits excellent attachment work properties, is capable of being attached in a prescribed orientation, and with which the number of attachment places and the amount of attachment space are reduced; and an electric motor provided with said terminal strip. [Solution] A terminal strip 2c in an electric motor 1 is installed on a frame 4, and is provided with three terminal strip blocks 30 which are attached in a state in which the lower surfaces are in contact with the frame 4. First attachment parts 32b are formed on front surfaces of the terminal strip blocks 30. Second attachment parts 32e are formed on rear surfaces of the terminal strip blocks 30, said rear surfaces being on the opposite side to the front surfaces. When a plurality of the terminal strip blocks 30 are installed adjacent to each other, the first attachment parts 32b of the rear terminal strip blocks among the sets of adjacent terminal strip blocks 30 and the second attachment parts 32e of the front terminal strip blocks thereamong overlap vertically, and the terminal strip blocks are attached to the frame via the first attachment parts 32b and the second attachment parts 32e which overlap each other.

Classes IPC  ?

  • H01R 9/24 - Blocs de connexion
  • H02K 5/22 - Parties auxiliaires des enveloppes non couvertes par les groupes , p.ex. façonnées pour former des boîtes à connexions ou à bornes

39.

Nonlinear optically active copolymer into which alicyclic group has been introduced

      
Numéro d'application 16084921
Numéro de brevet 11061297
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-03-16
Date de la première publication 2019-03-21
Date d'octroi 2021-07-13
Propriétaire
  • KYUSHU UNIVERSITY (Japon)
  • NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Yokoyama, Shiyoshi
  • Miura, Hiroki
  • Maeda, Daisuke
  • Yasui, Kei
  • Kashino, Tsubasa
  • Ozawa, Masaaki

Abrégé

A nonlinear optically active copolymer having satisfactory orientation characteristics and able to allow for reduction in heat-induced orientation relaxation of a nonlinear optical material, and a nonlinear optical material obtained using the copolymer. The copolymer including at least a repeating unit A having adamantyl group and a repeating unit B having a nonlinear optically active moiety in one molecule, and an organic nonlinear optical material including the copolymer as a component.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/361 - Matériaux organiques
  • C08F 8/30 - Introduction d'atomes d'azote ou de groupes contenant de l'azote
  • C08F 8/34 - Introduction d'atomes de soufre ou de groupes contenant du soufre
  • C08F 220/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
  • C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
  • C09D 5/24 - Peintures électriquement conductrices
  • C09D 133/10 - Homopolymères ou copolymères d'esters de l'acide méthacrylique
  • G02F 1/365 - Optique non linéaire dans une structure de guide d'ondes optique

40.

Highly soluble modified epoxy resin composition

      
Numéro d'application 16176251
Numéro de brevet 10899872
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-10-31
Date de la première publication 2019-02-28
Date d'octroi 2021-01-26
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Endo, Yuki
  • Hidaka, Motohiko
  • Kasai, Mikio
  • Oda, Takashi
  • Kakiuchi, Nobuyuki

Abrégé

An epoxy resin composition in a liquid or solid state having excellent solubility and having high preservation stability. A modified epoxy resin composition including: Compound A containing tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate having 1 to 3 glycidyl group(s) in a molecule substituted with a functional group(s) of Formula (1): 2 are each independently an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group, a heterocyclic group; or a halogenated derivative, an aminated derivative, or a nitrated derivative of these groups; and Compound B containing tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate, wherein tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate of Compound A before the substitution and tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate of Compound B comprise 2% by mass to 15% by mass of β-type tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate and a remaining percentage of α-type tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate based on a total mass of Compound A before the substitution and Compound B.

Classes IPC  ?

  • C08G 59/42 - Acides polycarboxyliques; Leurs anhydrides, halogénures ou esters à bas poids moléculaire
  • C08G 59/32 - Composés époxydés contenant au moins trois groupes époxyde
  • C08G 59/16 - Polycondensats modifiés par post-traitement chimique par des acides monocarboxyliques ou par leurs anhydrides, halogénures ou esters à bas poids moléculaire

41.

Polymer and resin composition containing the same

      
Numéro d'application 15771280
Numéro de brevet 10793677
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-10-04
Date de la première publication 2019-02-21
Date d'octroi 2020-10-06
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Sugawara, Yuki
  • Sakaguchi, Takahiro
  • Adachi, Isao

Abrégé

A resin composition capable of forming a cured film having a high refractive index, high transparency and high heat resistance, and a polymer which is used for the resin composition. A polymer having a structural unit of Formula (1): 2 are each independently an —O— group or a —C(═O)O— group; X is a divalent organic group having at least one aromatic ring or heterocyclic ring, wherein, when the X has two or more aromatic rings or heterocyclic rings, the rings are optionally bonded to each other via a single bond, are optionally bonded to each other via a heteroatom, or optionally form a condensed ring; and Y is a divalent organic group having at least one aromatic ring or condensed ring. A resin composition, includes: the polymer; a cross-linking agent; and a solvent.

Classes IPC  ?

  • C08G 75/04 - Polythioéthers à partir de composés mercapto ou de leurs dérivés métalliques
  • C08G 75/12 - Polythioéther-éthers
  • G02B 3/00 - Lentilles simples ou composées
  • C08G 59/66 - Mercaptans
  • C09D 181/02 - Polythioéthers; Polythioéther-éthers
  • C08J 3/24 - Réticulation, p.ex. vulcanisation, de macromolécules
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques

42.

Production method for carbon-based light-emitting material

      
Numéro d'application 16072579
Numéro de brevet 11066599
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-01-25
Date de la première publication 2019-02-21
Date d'octroi 2021-07-20
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Isaji, Tadayuki
  • Otani, Naoki
  • Maeda, Shinichi
  • Ueda, Masahiro
  • Kawasaki, Takayoshi

Abrégé

Provided is a production method for a carbon-based light-emitting material that generates light having a wavelength of 500 to 700 nm when exposed to excitation light having a wavelength of 300 to 600 nm. The production method comprises a step for mixing and heating a starting material containing ascorbic acid, an acid catalyst containing an inorganic acid, and a solvent.

Classes IPC  ?

  • C09K 11/65 - Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances inorganiques luminescentes contenant du carbone
  • C01B 32/184 - Préparation

43.

Polyester resin composition containing amino-triazine derivative

      
Numéro d'application 16169469
Numéro de brevet 10899720
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-10-24
Date de la première publication 2019-02-21
Date d'octroi 2021-01-26
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nagahama, Takuma
  • Suwa, Takeshi

Abrégé

A polyester resin composition containing 100 parts by mass of a polyester resin and 0.01 to 10 parts by mass of a 2-amino-1,3,5-triazine derivative of Formula [1]: a polyester resin molded body obtained by the composition, and a crystal nucleating agent including the triazine derivative. A polyester resin composition containing a crystal nucleating agent that makes it possible to produce, with high productivity, a polyester resin molded product that promotes polyester resin crystallization and maintains high transparency after crystallization and is applicable for a wide variety of uses can be provided.

Classes IPC  ?

  • C07D 251/70 - Autres mélamines substituées
  • C08K 5/00 - Emploi d'ingrédients organiques
  • C08L 67/00 - Compositions contenant des polyesters obtenus par des réactions créant une liaison ester carboxylique dans la chaîne principale; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
  • C08K 5/3492 - Triazines

44.

Method for producing purified aqueous solution of silicic acid

      
Numéro d'application 15768846
Numéro de brevet 10865113
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-10-14
Date de la première publication 2019-02-21
Date d'octroi 2020-12-15
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Sakaida, Hiroaki
  • Ishimizu, Eiichiro

Abrégé

(b) passing the aqueous solution passed in the step (a) through a column filled with a hydrogen-type cation exchange resin.

Classes IPC  ?

  • C01B 33/12 - Silice; Ses hydrates, p.ex. acide silicique lépidoïque
  • C01B 33/141 - Préparation d'hydrosols ou de dispersions aqueuses
  • C01B 33/148 - Concentration; Séchage; Déshydratation; Stabilisation; Purification
  • C01B 33/143 - Préparation d'hydrosols ou de dispersions aqueuses par traitement acide de silicates de solutions aqueuses de silicates
  • B01D 15/38 - Adsorption sélective, p.ex. chromatographie caractérisée par le mécanisme de séparation impliquant une interaction spécifique non couverte par un ou plusieurs des groupes , p.ex. chromatographie d'affinité, chromatographie d'échange par ligand ou chromatographie chirale
  • B01J 39/07 - Procédés utilisant des échangeurs organiques sous forme faiblement acide
  • B01D 15/36 - Adsorption sélective, p.ex. chromatographie caractérisée par le mécanisme de séparation impliquant une interaction ionique, p.ex. échange d'ions, paire d'ions, suppression d'ions ou exclusion d'ions
  • B01J 39/04 - Procédés utilisant des échangeurs organiques
  • B01J 39/18 - Composés macromoléculaires
  • B01J 45/00 - Echange d'ions dans lequel se forme un complexe ou un chélate; Utilisation d'une substance comme échangeur d'ions formant des complexes ou des chélates; Traitement d'une substance en vue d'améliorer ses propriétés d'échange d'ions formant des complexes ou des chélates
  • B01J 47/026 - Procédés sur colonne ou sur lit utilisant des colonnes ou des lits en séries de substances échangeur d’ions différentes
  • C09K 3/14 - Substances antidérapantes; Abrasifs

45.

Silicon-containing coating agent for reversing planarization pattern

      
Numéro d'application 15758965
Numéro de brevet 10508174
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-08-26
Date de la première publication 2019-02-07
Date d'octroi 2019-12-17
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Shigaki, Shuhei
  • Yaguchi, Hiroaki
  • Nakajima, Makoto

Abrégé

A composition applied over a resist pattern includes a modified polysiloxane in which some of silanol groups of a polysiloxane containing a hydrolysis condensate of a hydrolyzable silane are capped, and a solvent, wherein a ratio of silanol groups to all Si atoms contained in the modified polysiloxane is 40 mol % or less. The modified polysiloxane ratio of the silanol groups is adjusted to a desired ratio by reacting the silanol groups of the polysiloxane with an alcohol. A method for producing a semiconductor device having the steps of forming a resist film on a substrate, forming a resist pattern by exposing and developing the resist film, applying the composition over the resist pattern during or after development, and reversing a pattern by removing the resist pattern by etching.

Classes IPC  ?

  • C08G 77/38 - Polysiloxanes modifiés par post-traitement chimique
  • C09D 183/04 - Polysiloxanes
  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
  • C09D 7/40 - Adjuvants
  • C09D 7/65 - Adjuvants macromoléculaires

46.

Electrode for energy storage devices

      
Numéro d'application 16068537
Numéro de brevet 10749172
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-12-21
Date de la première publication 2019-02-07
Date d'octroi 2020-08-18
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Shibano, Yuki
  • Hatanaka, Tatsuya
  • Yoshimoto, Takuji

Abrégé

Provided is an electrode for energy storage devices, which is provided with a collector substrate, an undercoat layer that is formed on at least one surface of the collector substrate and contains carbon nanotubes, and an active material layer that is formed on the surface of the undercoat layer, and wherein the active material layer does not contain a conductive assistant.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
  • H01G 11/28 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur structure, p.ex. multicouches, selon la porosité ou les caractéristiques de surface agencées ou disposées sur un collecteur de courant; Couches ou phases entre les électrodes et les collecteurs de courant, p.ex. adhésifs
  • H01G 11/36 - Nanostructures, p.ex. nanofibres, nanotubes ou fullerènes
  • H01M 4/66 - Emploi de matériaux spécifiés
  • H01M 4/505 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques de manganèse d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes contenant du manganèse pour insérer ou intercaler des métaux légers, p.ex. LiMn2O4 ou LiMn2OxFy
  • H01M 4/13 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication
  • H01M 4/58 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs de structures polyanioniques, p.ex. phosphates, silicates ou borates
  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p.ex. liants, charges
  • H01M 4/48 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques
  • H01G 11/46 - Oxydes métalliques
  • H01G 11/48 - Polymères conducteurs
  • H01G 11/50 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur matériau spécialement adaptées aux condensateurs lithium-ion, p.ex. pour doper le lithium ou pour intercalation
  • H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p.ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodes; Batteries à l'ion lithium

47.

Non-aqueous ink compositions containing transition metal complexes, and uses thereof in organic electronics

      
Numéro d'application 16070038
Numéro de brevet 10870771
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-01-20
Date de la première publication 2019-01-24
Date d'octroi 2020-12-22
Propriétaire Nissan Chemical industries, Ltd. (Japon)
Inventeur(s)
  • Swisher, Robert
  • Sheina, Elena
  • Li, Sergey B.
  • Sims, Marc

Abrégé

Described herein are non-aqueous ink compositions containing a polythiophene having a repeating unit complying with formula (I) described herein, a transition metal complex having at least one β-diketonate ligand, and a liquid carrier having one or more organic solvents. The present disclosure also concerns the uses of such non-aqueous ink compositions, for example, in organic electronic devices.

Classes IPC  ?

  • C09D 11/52 - Encres conductrices de l’électricité
  • C09D 11/102 - Encres d’imprimerie à base de résines artificielles contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions autres que celles faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
  • C09D 11/033 - Encres d’imprimerie caractérisées par des particularités autres que la nature chimique du liant caractérisées par le solvant
  • C09D 11/36 - Encres pour l'impression à jet d'encre à base de solvants non aqueux
  • C09D 11/38 - Encres pour l'impression à jet d'encre caractérisées par des additifs non macromoléculaires autres que les solvants, les pigments ou les colorants
  • H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
  • H01L 51/50 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
  • C07F 11/00 - Composés contenant des éléments des groupes 6 ou 16 de la classification périodique

48.

Liquid crystal aligning agent containing crosslinking agent and polymer that has site having isocyanate group and/or blocked isocyanate group and site having photoreactivity, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element

      
Numéro d'application 16066438
Numéro de brevet 11028323
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-12-27
Date de la première publication 2019-01-24
Date d'octroi 2021-06-08
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Suzuki, Kanako
  • Moriuchi, Masato
  • Ashizawa, Ryoichi
  • Goto, Kohei

Abrégé

Provided is a liquid crystal display element that can be baked at a low temperature when forming a liquid crystal alignment film capable of imparting an alignment regulating property and a pretilt angle developing property via a photoalignment method. Further provided is a liquid crystal display element in which the liquid crystal pretilt angles are highly stable, and display burn-in hardly occurs even due to long usage. Further provided are a vertical liquid crystal alignment film to be used in the liquid crystal display element, and a liquid crystal aligning agent with which it is possible to provide the vertical liquid crystal alignment film. A liquid crystal aligning agent of the present invention contains: component (A), which is a polymer including (A-1) a site having an isocyanate group and/or a blocked isocyanate group and (A-2) a site having photoreactivity; component (B), which is a compound having, in a molecule, at least two functional groups of at least one type selected from the group consisting of an amino group and a hydroxyl group; and an organic solvent.

Classes IPC  ?

  • C08G 18/81 - Isocyanates ou isothiocyanates non saturés
  • C08L 75/14 - Polyuréthanes comportant des liaisons non saturées carbone-carbone
  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C08F 120/20 - Esters des alcools polyhydriques ou des phénols polyhydriques
  • C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
  • C08F 220/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
  • C08L 75/04 - Polyuréthanes
  • C08G 18/08 - Procédés de préparation
  • C08G 18/32 - Composés polyhydroxylés; Polyamines; Hydroxyamines
  • C08G 18/67 - Composés non saturés contenant un hydrogène actif
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement

49.

Liquid mixing container

      
Numéro d'application 29541477
Numéro de brevet D0838863
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-10-05
Date de la première publication 2019-01-22
Date d'octroi 2019-01-22
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hayashi, Hisato
  • Okubo, Haruo

50.

Liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal display element

      
Numéro d'application 16066472
Numéro de brevet 10921650
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-12-27
Date de la première publication 2019-01-17
Date d'octroi 2021-02-16
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ashizawa, Ryoichi
  • Moriuchi, Masato
  • Suzuki, Kanako
  • Goto, Kohei

Abrégé

The present invention relates to a liquid crystal aligning agent which contains a polymer that has a site having an isocyanate group and/or a blocked isocyanate group, a site having a photoreactive group having photoalignment, and a site having at least one functional group selected from an amino group and a hydroxyl group in each molecule. The present invention provides a liquid crystal display element which enables baking at low temperatures during the formation of a liquid crystal alignment film by a photoalignment method, the liquid crystal alignment film being able to be imparted with alignment regulating property and pretilt angle developing property.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
  • C08G 18/81 - Isocyanates ou isothiocyanates non saturés
  • C09K 19/20 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques liés par une chaîne contenant des atomes de carbone et d'oxygène comme chaînons, p.ex. esters
  • C08F 220/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
  • C08F 220/20 - Esters des alcools polyhydriques ou des phénols polyhydriques
  • C09K 19/54 - Additifs n'ayant pas de mésophase spécifique
  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C09K 19/30 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant des cycles non aromatiques saturés ou insaturés, p.ex. cycle cyclohexanique
  • C09K 19/04 - Substances formant des cristaux liquides caractérisées par la structure chimique des constituants formant des cristaux liquides

51.

Electrode for energy storage devices

      
Numéro d'application 16068544
Numéro de brevet 10749183
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-12-21
Date de la première publication 2019-01-17
Date d'octroi 2020-08-18
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Shibano, Yuki
  • Hatanaka, Tatsuya
  • Yoshimoto, Takuji

Abrégé

Provided is an electrode for energy storage devices, which is provided with: a collector substrate; an undercoat layer that is formed on at least one surface of the collector substrate and contains carbon nanotubes; and an active material layer that is formed on the surface of the undercoat layer and contains an active material which contains a titanium-containing oxide.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/66 - Emploi de matériaux spécifiés
  • H01G 11/28 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur structure, p.ex. multicouches, selon la porosité ou les caractéristiques de surface agencées ou disposées sur un collecteur de courant; Couches ou phases entre les électrodes et les collecteurs de courant, p.ex. adhésifs
  • H01G 11/36 - Nanostructures, p.ex. nanofibres, nanotubes ou fullerènes
  • H01G 11/46 - Oxydes métalliques
  • H01G 11/86 - Procédés de fabrication de condensateurs hybrides ou EDL ou de leurs composants spécialement adaptés pour les électrodes
  • H01G 11/70 - Collecteurs de courant caractérisés par leur structure
  • H01M 4/48 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques
  • H01M 4/131 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication Électrodes à base d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes, ou de mélanges d'oxydes ou d'hydroxydes, p.ex. LiCoOx
  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p.ex. liants, charges
  • H01M 4/1391 - Procédés de fabrication d'électrodes à base d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes, ou de mélanges d'oxydes ou d'hydroxydes, p.ex. LiCoOx
  • H01G 11/68 - Collecteurs de courant caractérisés par leur matériau
  • H01G 11/38 - Pâtes ou mélanges de carbone; Liants ou additifs
  • H01M 4/13 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication
  • H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
  • H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p.ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodes; Batteries à l'ion lithium

52.

Photocurable resin composition

      
Numéro d'application 15739808
Numéro de brevet 10866513
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-06-15
Date de la première publication 2018-12-20
Date d'octroi 2020-12-15
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ohashi, Takuya
  • Enomoto, Tomoyuki

Abrégé

1 is a hydrogen atom or methyl group; a radical photopolymerization initiator; and a solvent.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • C08L 67/07 - Polyesters non saturés comportant des liaisons non saturées carbone-carbone terminales
  • C08J 3/24 - Réticulation, p.ex. vulcanisation, de macromolécules
  • C08F 299/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des interréactions de polymères impliquant uniquement des réactions entre des liaisons non saturées carbone-carbone, en l'absence de monomères non macromoléculaires
  • C09D 4/06 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
  • C08F 290/04 - Polymères prévus par les sous-classes ou
  • C08F 290/06 - Polymères prévus par la sous-classe
  • C09D 151/08 - Compositions de revêtement à base de polymères greffés dans lesquels le composant greffé est obtenu par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères greffés sur des composés macromoléculaires obtenus autrement que par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
  • C09J 151/08 - Adhésifs à base de polymères greffés dans lesquels le composant greffé est obtenu par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone; Adhésifs à base de dérivés de tels polymères greffés sur des composés macromoléculaires obtenus autrement que par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs
  • G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage

53.

Resin composition

      
Numéro d'application 15781404
Numéro de brevet 10752714
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-11-30
Date de la première publication 2018-12-20
Date d'octroi 2020-08-25
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Adachi, Isao
  • Sakaguchi, Takahiro
  • Sugawara, Yuki

Abrégé

(B) component: a compound of Formula (3) below 6 is a single bond or an alkylene group, Y is a single bond or an ester bond, A is a mono- to tetra-valent organic group which optionally contain at least one hetero atom, or a hetero atom, and h is an integer of 1 to 4.

Classes IPC  ?

  • B05D 1/38 - Applications successives de liquides ou d'autres matériaux fluides, p.ex. sans traitement intermédiaire avec traitement intermédiaire
  • B05D 3/02 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides par cuisson
  • C08L 25/08 - Copolymères du styrène
  • C08L 33/06 - Homopolymères ou copolymères des esters d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'oxygène, faisant uniquement partie du radical carboxyle
  • C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxy; Compositions contenant des dérivés des résines époxy
  • C08F 212/08 - Styrène
  • G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
  • C08K 5/134 - Phénols contenant des groupes ester
  • G02B 3/00 - Lentilles simples ou composées
  • C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
  • C08F 220/32 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des radicaux époxyde
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • C09D 133/06 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'atome d'oxygène faisant uniquement partie du radical carboxyle
  • C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
  • C08G 59/18 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
  • G02B 1/18 - Revêtements pour garder des surfaces optiques propres, p.ex. films hydrophobes ou photocatalytiques
  • C08J 3/24 - Réticulation, p.ex. vulcanisation, de macromolécules
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • C08K 5/13 - Phénols; Phénolates
  • C08K 5/1575 - Cycles à six chaînons

54.

Method for adjusting hardness of stick-shaped base material comprising lipid peptide compound

      
Numéro d'application 15739957
Numéro de brevet 10639263
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-06-14
Date de la première publication 2018-12-13
Date d'octroi 2020-05-05
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s) Kashino, Tsubasa

Abrégé

A method for adjusting hardness of a stick-shaped base material including a lipid peptide compound. A method for adjusting hardness of a gelled solid base material for skin external application including a surfactant, water, and lipid peptide compound including compounds of formulae (1) or similar, 2)n-X group, n is a number from 1 to 4, and X is amino group, the method including adding a pH adjuster to a solution in which the material is dissolved, or a solution including a surfactant, water, and lipid peptide compound including at least one of compounds of formulae (1) to (3) or pharmaceutically usable salts thereof, to adjust the pH of the solution to a weak acidic to neutral range, causing gelation of the solution to form a solid base material for skin external application.

Classes IPC  ?

  • A61K 8/64 - Protéines; Peptides; Leurs dérivés ou produits de dégradation
  • A61K 8/39 - Dérivés contenant 2 à 10 groupes oxyalkylène
  • A61K 8/02 - Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette caractérisés par une forme physique particulière
  • A61K 8/04 - Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette caractérisés par une forme physique particulière Émulsions
  • A61Q 19/00 - Préparations pour les soins de la peau
  • A61K 8/43 - Guanidines

55.

Aminosilane-modified colloidal silica dispersion and method of manufacturing same

      
Numéro d'application 15569652
Numéro de brevet 10899893
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-05-11
Date de la première publication 2018-12-13
Date d'octroi 2021-01-26
Propriétaire
  • NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
  • NIIGATA UNIVERSITY (Japon)
Inventeur(s)
  • Murakami, Natsumi
  • Hida, Masahiro
  • Tsubokawa, Norio
  • Yamauchi, Takeshi
  • Maeta, Tomoya

Abrégé

3-bO— and, as a dispersion medium, a mixed solvent formed of a polar solvent S1 having a dielectric constant at 20° C. of 15 or higher and lower than 60 and a non-polar solvent S2 having a dielectric constant at 20° C. of 1 or higher and lower than 15, at a mass ratio (S1/S2) of 0.3 to 6.

Classes IPC  ?

  • C01B 33/14 - Silice colloïdale, p.ex. sous forme de dispersions, gels, sols
  • C08G 81/02 - Composés macromoléculaires obtenus par l'interréaction de polymères en l'absence de monomères, p.ex. polymères séquencés au moins un des polymères étant obtenu par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone
  • C01B 33/145 - Préparation d'hydro-organosols, d'organosols ou de dispersions dans un milieu organique
  • C08F 292/00 - Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des substances inorganiques
  • C09C 1/30 - Acide silicique

56.

Retardation material-forming resin composition, orientation material, and retardation material

      
Numéro d'application 16104644
Numéro de brevet 10590219
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-08-17
Date de la première publication 2018-12-13
Date d'octroi 2020-03-17
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Yukawa, Shojiro
  • Ito, Jun
  • Goto, Kohei
  • Kanno, Yuta
  • Omura, Hiroyuki
  • Hatanaka, Tadashi

Abrégé

A retardation material-forming resin composition for providing an orientation material that has high photoreaction efficiency and with which a polymerizable crystal can be aligned in a highly sensitive manner. A retardation material-forming resin composition being thermally curable wherein including a resin (component (A)) having a photo-aligning group to which a thermally reactive moiety is bonded directly or connected via a linking group; an orientation material obtained by use of the composition, and a retardation material formed by use of a cured film obtained from the composition.

Classes IPC  ?

  • C08L 33/08 - Homopolymères ou copolymères des esters de l'acide acrylique
  • C08F 220/64 - Acides; Leurs sels métalliques ou leurs sels d'ammonium
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
  • C08F 2/38 - Polymérisation utilisant des régulateurs, p.ex. des agents d'arrêt de chaîne
  • C08F 220/20 - Esters des alcools polyhydriques ou des phénols polyhydriques
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
  • G02B 5/30 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques autres que les lentilles Éléments polarisants
  • C08F 120/58 - Amides contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carbonamide
  • C08F 212/08 - Styrène
  • C08F 220/14 - Esters méthyliques
  • C08F 220/58 - Amides contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carbonamide
  • C08L 25/14 - Copolymères du styrène avec des esters non saturés
  • C08L 33/02 - Homopolymères ou copolymères des acides; Leurs sels métalliques ou d'ammonium
  • G02F 1/13363 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p.ex. des polariseurs ou des réflecteurs Éléments à biréfringence, p.ex. pour la compensation optique
  • C08F 220/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
  • C08F 222/10 - Esters
  • G02B 1/08 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances polarisantes

57.

Long-chain alkylene group-containing epoxy resin composition

      
Numéro d'application 15775132
Numéro de brevet 10669369
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-11-10
Date de la première publication 2018-11-29
Date d'octroi 2020-06-02
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Suwa, Takeshi
  • Endo, Yuki
  • Tadokoro, Sayoko

Abrégé

There is provided an epoxy resin composition containing an epoxy compound, which has a low viscosity and a low dielectric constant, and when added to a general-purpose epoxy resin composition, can lower a viscosity of the composition and can sufficiently lower a dielectric constant of an epoxy resin cured product obtained from the composition. An epoxy resin composition comprising: (a) an epoxy component containing at least an epoxy compound of formula [1]; and (b) a curing agent: 3 each independently are pentamethylene group, hexamethylene group or heptamethylene group.

Classes IPC  ?

  • C08G 59/32 - Composés époxydés contenant au moins trois groupes époxyde
  • H05K 1/03 - Emploi de matériaux pour réaliser le substrat
  • C08L 63/06 - Triglycidylisocyanurates
  • C08G 59/02 - Polycondensats contenant plusieurs groupes époxyde par molécule
  • C08G 59/40 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde caractérisées par les agents de durcissement utilisés
  • C08G 59/42 - Acides polycarboxyliques; Leurs anhydrides, halogénures ou esters à bas poids moléculaire
  • C08G 59/44 - Amides
  • C08G 59/66 - Mercaptans
  • C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxy; Compositions contenant des dérivés des résines époxy

58.

Film-forming composition containing silicone having crosslinking reactivity

      
Numéro d'application 15528037
Numéro de brevet 10845703
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-11-09
Date de la première publication 2018-11-22
Date d'octroi 2020-11-24
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nakajima, Makoto
  • Takase, Kenji
  • Endo, Masahisa
  • Wakayama, Hiroyuki

Abrégé

1 is organic group of Formula (2) and is bonded to silicon atom through Si—C bond: Resist underlayer film, obtained by applying the resist underlayer film-forming composition on semiconductor substrate and baking.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • C07F 7/18 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si ainsi qu'une ou plusieurs liaisons C—O—Si
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
  • C09D 183/00 - Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
  • C08G 77/14 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
  • C08G 77/18 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène à des groupes alcoxyle ou aryloxyle
  • C09D 183/06 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs
  • G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage

59.

Nonaqueous secondary battery

      
Numéro d'application 15777969
Numéro de brevet 10658696
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-11-25
Date de la première publication 2018-11-22
Date d'octroi 2020-05-19
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hatanaka, Tatsuya
  • Shibano, Yuki
  • Yoshimoto, Takuji

Abrégé

A nonaqueous secondary cell provided with: a positive electrode provided with a positive-electrode current-collecting substrate and a positive-electrode active material layer formed thereon, the positive-electrode active material layer being able to absorb or discharge lithium; a negative electrode provided with a negative-electrode current-collecting substrate and a negative-electrode active material layer formed thereon, the negative-electrode active material layer being able to absorb or discharge lithium; a separator interposed between the positive and negative electrodes; and a nonaqueous electrolyte solution. The nonaqueous electrolyte solution contains a sulfonyl imide electrolyte and a nonaqueous organic solvent. An electroconductive protective layer obtained by dispersing an electroconductive carbon material in a binder resin is formed on one or both surfaces of the positive-electrode current-collecting substrate and/or the negative-electrode current-collecting substrate. Regardless of whether the nonaqueous electrolyte solution including the sulfonyl imide electrolyte is used, the nonaqueous secondary cell has good cycle characteristics and high output characteristics.

Classes IPC  ?

  • H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p.ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodes; Batteries à l'ion lithium
  • H01M 4/136 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication Électrodes à base de composés inorganiques autres que les oxydes ou les hydroxydes, p.ex. sulfures, séléniures, tellurures, halogénures ou LiCoFy
  • H01M 10/0568 - Matériaux liquides caracterisés par les solutés
  • H01M 10/0569 - Matériaux liquides caracterisés par les solvants
  • H01M 4/58 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs de structures polyanioniques, p.ex. phosphates, silicates ou borates
  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p.ex. liants, charges
  • H01M 4/66 - Emploi de matériaux spécifiés
  • H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
  • H01B 1/24 - Matériau conducteur dispersé dans un matériau organique non conducteur le matériau conducteur comportant des compositions à base de carbone-silicium, du carbone ou du silicium
  • H01M 4/02 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif

60.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING LONG CHAIN ALKYL GROUP-CONTAINING NOVOLAC

      
Numéro d'application 15769525
Statut En instance
Date de dépôt 2016-10-14
Date de la première publication 2018-11-01
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Saito, Daigo
  • Endo, Takafumi
  • Karasawa, Ryo
  • Sakamoto, Rikimaru

Abrégé

A resist underlayer film-forming composition comprising a novolac resin obtained by reacting an aromatic compound (A) with an aldehyde (B) having formyl group bonded to a secondary carbon atom or tertiary carbon atom of a C2-26 alkyl group. A resist underlayer film-forming composition according to the first aspect, in which the novolac resin comprises a unit structure of Formula (1): A resist underlayer film-forming composition comprising a novolac resin obtained by reacting an aromatic compound (A) with an aldehyde (B) having formyl group bonded to a secondary carbon atom or tertiary carbon atom of a C2-26 alkyl group. A resist underlayer film-forming composition according to the first aspect, in which the novolac resin comprises a unit structure of Formula (1): A resist underlayer film-forming composition comprising a novolac resin obtained by reacting an aromatic compound (A) with an aldehyde (B) having formyl group bonded to a secondary carbon atom or tertiary carbon atom of a C2-26 alkyl group. A resist underlayer film-forming composition according to the first aspect, in which the novolac resin comprises a unit structure of Formula (1): (in Formula (1), A is a bivalence group derived from a C6-40 aromatic compound; b1 is a C1-16 alkyl group; and b2 is a hydrogen atom or a C1-9 alkyl group). A is the bivalent group derived from an aromatic compound comprising an amino group, a hydroxy group, or both an amino group and a hydroxy group.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • C08G 12/08 - Amines aromatiques
  • C09D 161/22 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des composés contenant de l'hydrogène lié à l'azote d'aldéhydes avec des composés acycliques ou carbocycliques
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
  • G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • C08G 8/10 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols d'aldéhydes de formaldéhyde, p.ex. de formaldéhyde formé in situ avec du phénol
  • C09D 161/06 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols d'aldéhydes avec des phénols
  • H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques

61.

Composition for hole trapping layer of organic photoelectric conversion element

      
Numéro d'application 15770305
Numéro de brevet 10770659
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-10-21
Date de la première publication 2018-11-01
Date d'octroi 2020-09-08
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Yoshimoto, Takuji
  • Oshima, Juro
  • Sugawara, Shun

Abrégé

Provided is a composition for a hole trapping layer of an organic photoelectric conversion element, such composition: containing a solvent and a charge-transporting substance comprising a polyaniline derivative represented by formula (1); and providing a thin film that is suitable as a hole trapping layer of an organic photoelectric conversion element and can also be used to produce an inverse lamination type organic photoelectric conversion element. 4 groups is an alkoxy group having 1-20 carbon atoms, a thioalkoxy group having 1-20 carbon atoms, an alkyl group having 1-20 carbon atoms, an alkenyl group having 2-20 carbon atoms, an alkynyl group having 2-20 carbon atoms, a haloalkyl group having 1-20 carbon atoms, an aryl group having 6-20 carbon atoms or an aralkyl group having 7-20 carbon atoms, and m and n are numbers that satisfy the relationships 0≤m≤1, 0≤n≤1 and m+n=1.}

Classes IPC  ?

  • H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
  • C08G 73/02 - Polyamines
  • H01L 51/42 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement
  • H01L 51/44 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement - Détails des dispositifs
  • H01B 1/12 - Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisés; Emploi de matériaux spécifiés comme conducteurs composés principalement d'autres substances non métalliques substances organiques

62.

Thermosetting resin composition

      
Numéro d'application 15767707
Numéro de brevet 10774237
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-09-23
Date de la première publication 2018-10-25
Date d'octroi 2020-09-15
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Sakaguchi, Takahiro
  • Sugawara, Yuki
  • Adachi, Isao

Abrégé

A thermosetting resin composition, a thermosetting resin composition for protective films, a thermosetting resin composition for planarizing films, and a method for producing a cured film, a protective film, or a planarizing film by using the resin composition. A thermosetting resin composition has a polymer having a structural unit of Formula (1) below, a curing agent in an amount of 0% by mass to 30% by mass with respect to the polymer, and a solvent. When the thermosetting resin composition includes the curing agent, the curing agent is at least one compound selected from polyfunctional (meth)acrylate compounds and polyfunctional blocked isocyanate compounds: 2 alkenylene group or alkynylene group).

Classes IPC  ?

  • C09D 163/10 - Résines époxy modifiées par des composés non saturés
  • C08F 283/01 - Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères prévus par la sous-classe sur des polyesters non saturés
  • C08F 220/14 - Esters méthyliques
  • C09D 167/06 - Polyesters non saturés comportant des insaturations carbone-carbone
  • C08F 120/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
  • C08G 59/14 - Polycondensats modifiés par post-traitement chimique
  • C08F 299/04 - Composés macromoléculaires obtenus par des interréactions de polymères impliquant uniquement des réactions entre des liaisons non saturées carbone-carbone, en l'absence de monomères non macromoléculaires à partir de polycondensats non saturés à partir de polyesters
  • C08G 63/685 - Polyesters contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène contenant de l'azote
  • C08F 212/08 - Styrène
  • C09D 7/63 - Adjuvants non macromoléculaires organiques
  • B05D 3/02 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides par cuisson
  • C08G 59/17 - Polycondensats modifiés par post-traitement chimique par des acides monocarboxyliques ou par leurs anhydrides, halogénures ou esters à bas poids moléculaire par l'acide acrylique ou méthacrylique

63.

Optical waveguide-forming composition

      
Numéro d'application 15770391
Numéro de brevet 10253126
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-10-21
Date de la première publication 2018-10-25
Date d'octroi 2019-04-09
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nagasawa, Takehiro
  • Ohmori, Kentaro

Abrégé

An optical waveguide-forming composition: 100 parts by mass of a reactive silicone compound (a) composed of a polycondensate of a diarylsilicic acid compound A of Formula [1] 2 is methyl, ethyl, or vinylphenyl group, and a is 2 or 3, and 1 part by mass to 200 parts by mass of a di(meth)acrylate compound (b) of Formula [3]. 2 are an alkylene group, and m and n are 0 or a positive integer, wherein m+n is 0 to 20.

Classes IPC  ?

  • C08F 230/08 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et contenant du phosphore, du sélénium, du tellure ou un métal contenant un métal contenant du silicium
  • C08F 290/14 - Polymères prévus par la sous-classe
  • G02B 6/12 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES - Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques

64.

Saccharification reaction mixture, saccharification enzyme composition, sugar production method, and ethanol production method

      
Numéro d'application 15777469
Numéro de brevet 11359220
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-10-12
Date de la première publication 2018-10-18
Date d'octroi 2022-06-14
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Odaka, Kazutoshi
  • Sekiguchi, Kazutoshi

Abrégé

A saccharification reaction mixture wherein the reaction mixture can saccharify at least one of cellulose and hemicellulose and contains at least one of cellulose and hemicellulose, a saccharification enzyme, silica or a silica-containing substance, and at least one compound (A) selected from the group including a polyhydric alcohol compound represented by the following formula (1) or a derivative thereof and an acetylene glycol represented by formula (2) or an alkylene oxide adduct thereof. The symbols in the chemical formulas are defined in the specification.

Classes IPC  ?

  • C12P 19/14 - Préparation de composés contenant des radicaux saccharide préparés par action d'une carbohydrase, p.ex. par action de l'alpha-amylase
  • C13K 1/02 - Glucose; Sirops glucosés obtenus par saccharification de matières cellulosiques
  • C12P 19/02 - Monosaccharides
  • C12P 7/10 - Ethanol en tant que produit chimique et non en tant que boisson alcoolique préparé comme sous-produit, ou préparé à partir d'un substrat constitué par des déchets ou par des matières cellulosiques d'un substrat constitué par des matières cellulosiques
  • C12N 9/42 - Hydrolases (3.) agissant sur les composés glycosyliques (3.2) agissant sur les liaisons bêta-glucosidiques-1, 4, p.ex. cellulase
  • C12N 9/26 - Hydrolases (3.) agissant sur les composés glycosyliques (3.2) agissant sur les liaisons alpha-glucosidiques-1, 4, p.ex. hyaluronidase, invertase, amylase

65.

METHOD FOR IMMOBILIZING LECTIN

      
Numéro d'application JP2018015163
Numéro de publication 2018/190357
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-04-11
Date de publication 2018-10-18
Propriétaire
  • NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY (Japon)
  • NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
  • NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION KYOTO INSTITUTE OF TECHNOLOGY (Japon)
Inventeur(s)
  • Tateno, Hiroaki
  • Katayama, Junko
  • Matoba, Kazutaka
  • Kumada, Yoichi

Abrégé

A purpose of the present invention is to provide a highly sensitive and less expensive lectin-immobilized base material (for example, a lectin plate), said lectin-immobilized base material having stable qualities and being able to be sufficiently washed after a target sugar chain-containing antigen binds thereto. Another purpose of the present invention is to provide a method for immobilizing lectin to a base material therefor. Provided are: a method whereby a lectin-peptide fusion, in which a peptide capable of adsorbing to a base material surface such as a PS tag is fused with the N-terminal side or C-terminal side of lectin capable of recognizing a target sugar chain, is immobilized on the peptide side to a base material; and a lectin-immobilized base material produced by this method. By using the lectin-immobilized base material, a target sugar chain-containing antigen can be highly sensitively and evenly measured and, moreover, target sugar chain-containing cells, etc. can be separated (concentrated and harvested).

Classes IPC  ?

  • C12N 15/09 - Technologie d'ADN recombinant
  • C07K 7/06 - Peptides linéaires ne contenant que des liaisons peptidiques normales ayant de 5 à 11 amino-acides
  • C07K 14/00 - Peptides ayant plus de 20 amino-acides; Gastrines; Somatostatines; Mélanotropines; Leurs dérivés
  • C07K 17/00 - Peptides fixés sur un support ou immobilisés; Leur préparation
  • C07K 19/00 - Peptides hybrides
  • G01N 33/53 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet
  • G01N 33/543 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet avec un support insoluble pour l'immobilisation de composés immunochimiques

66.

Liquid crystal display device

      
Numéro d'application 15764459
Numéro de brevet 11112654
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-09-28
Date de la première publication 2018-10-04
Date d'octroi 2021-09-07
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Mandai, Atsuhiko
  • Sakumoto, Naoki

Abrégé

A liquid crystal display device, which includes a first substrate and a second substrate disposed to face each other with a liquid crystal sandwiched therebetween. The first substrate is an electrode-provided substrate having a first electrode and a plurality of second electrodes overlaid on the first electrode via an insulating film, formed on a pixel region on a surface on the liquid crystal side, where one of the first electrode and the second electrodes is a pixel electrode and the other is a counter electrode, having a first liquid crystal alignment film formed on the surface on the liquid crystal side of the first substrate covered with the second electrodes. The second substrate is a substrate having a second liquid crystal alignment film formed on a surface on the liquid crystal side, the second liquid crystal alignment film containing a photosensitive side chain type polymer which develops liquid crystallinity.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08F 20/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
  • C09D 179/08 - Polyimides; Polyesterimides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08F 283/04 - Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères prévus par la sous-classe sur des polycarbonamides, des polyesteramides ou des polyimides
  • C08G 73/12 - Précurseurs de polyimides non saturés
  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • G02F 1/1343 - Electrodes

67.

Undercoat foil for energy storage device electrode

      
Numéro d'application 15542600
Numéro de brevet 11251435
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-05-26
Date de la première publication 2018-09-20
Date d'octroi 2022-02-15
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Shibano, Yuki
  • Hatanaka, Tatsuya
  • Yoshimoto, Takuji

Abrégé

2 or less. Since this undercoat foil can be effectively welded by ultrasound, the use thereof allows a low-resistance energy storage device and a simple and effective production method therefor to be provided.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/66 - Emploi de matériaux spécifiés
  • H01G 11/68 - Collecteurs de courant caractérisés par leur matériau
  • H01G 11/28 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur structure, p.ex. multicouches, selon la porosité ou les caractéristiques de surface agencées ou disposées sur un collecteur de courant; Couches ou phases entre les électrodes et les collecteurs de courant, p.ex. adhésifs
  • H01G 11/36 - Nanostructures, p.ex. nanofibres, nanotubes ou fullerènes
  • H01G 11/70 - Collecteurs de courant caractérisés par leur structure
  • H01G 11/74 - Bornes, p.ex. extensions des collecteurs de courant
  • H01M 10/058 - Structure ou fabrication
  • H01M 4/13 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication
  • H01M 50/531 - Connexions d’électrodes dans un boîtier de batterie
  • H01G 11/48 - Polymères conducteurs
  • H01G 11/86 - Procédés de fabrication de condensateurs hybrides ou EDL ou de leurs composants spécialement adaptés pour les électrodes
  • H01M 4/131 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication Électrodes à base d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes, ou de mélanges d'oxydes ou d'hydroxydes, p.ex. LiCoOx
  • H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p.ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodes; Batteries à l'ion lithium
  • H01G 11/38 - Pâtes ou mélanges de carbone; Liants ou additifs
  • H01G 11/84 - Procédés de fabrication de condensateurs hybrides ou EDL ou de leurs composants
  • H01G 11/50 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur matériau spécialement adaptées aux condensateurs lithium-ion, p.ex. pour doper le lithium ou pour intercalation
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p.ex. nanocomposites

68.

SERIES FOR DIFFERENTIAL REDUCTION GEAR AND METHOD FOR MANUFACTURING SERIES FOR DIFFERENTIAL REDUCTION GEAR

      
Numéro d'application JP2018009491
Numéro de publication 2018/168762
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-03-12
Date de publication 2018-09-20
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Inventeur(s) Haraguchi Kunihiro

Abrégé

[Problem] To share components and minimize manufacturing costs without reducing the strength of an externally toothed gear. [Solution] A series S having a plurality of differential reduction gears 1A-1C prepared at different reduction ratios, the differential reduction gears comprising: an internally toothed gear 4; an input shaft 12 that coaxially passes through the internally toothed gear 4; externally toothed gears 17A-17C that are externally fitted on eccentric parts 14A-14C provided to the input shaft 12, that mesh with the inner side of the internally toothed gear 4, and that have a plurality of pin holes 21A-21C in concentric circles; and an output shaft in which a plurality of pins 22, 22… loosely inserted into the pin holes 21A-21C are provided in concentric circles, the output shaft being rotated via the pins 22 at a prescribed reduction ratio due to the rotation of the input shaft 12 causing the externally toothed gears 17A-17C to move eccentrically; wherein the pin holes 21A-21C of the externally toothed gears 17A-17C are formed at different diameters for each externally toothed gear 17A-17C in accordance with the number of external teeth, and the internally toothed gear 4 and the pins 22 are shared.

Classes IPC  ?

  • F16H 1/32 - Transmissions à engrenages pour transmettre un mouvement rotatif avec engrenages à mouvement orbital dans lesquels l'axe central de la transmission est situé à l'intérieur de la périphérie d'un engrenage orbital
  • F16H 57/033 - Séries de boîtes de vitesses, p.ex. boîtes de vitesses basées sur le même modèle de dimensions différentes ou boîtes de vitesses utilisant une combinaison de plusieurs unités standardisées

69.

Liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal display element

      
Numéro d'application 15758380
Numéro de brevet 10761375
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-09-13
Date de la première publication 2018-09-20
Date d'octroi 2020-09-01
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Suzuki, Kanako
  • Kawano, Yuta
  • Goto, Kohei
  • Katayama, Masaaki

Abrégé

1 and n are as set forth in the present specification).

Classes IPC  ?

  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C09K 19/20 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques liés par une chaîne contenant des atomes de carbone et d'oxygène comme chaînons, p.ex. esters
  • C09K 19/14 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques liés par une chaîne carbonée
  • C09K 19/58 - Agents de dopage ou de transfert de charge
  • C08G 73/12 - Précurseurs de polyimides non saturés
  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C09K 19/04 - Substances formant des cristaux liquides caractérisées par la structure chimique des constituants formant des cristaux liquides
  • C09K 19/54 - Additifs n'ayant pas de mésophase spécifique

70.

Water absorbing and releasing body for engine oil, automotive parts including water absorbing and releasing body, and method for producing water absorbing and releasing body for engine oil

      
Numéro d'application 15886294
Numéro de brevet 11173420
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-02-01
Date de la première publication 2018-09-20
Date d'octroi 2021-11-16
Propriétaire
  • NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
  • TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA (Japon)
  • TOYOTA BOSHOKU KABUSHIKI KAISHA (Japon)
Inventeur(s)
  • Kudo, Yoshihiro
  • Fukutomi, Ippei
  • Shimakura, Yasuhiro
  • Horiuchi, Yoji

Abrégé

A water absorbing and releasing body that absorbs water in engine oil and releases water when the temperature of the engine oil is high in order to maintain the performance of the engine oil, automotive parts including the water absorbing and releasing body, and a method for producing the water absorbing and releasing body for engine oil.

Classes IPC  ?

  • B01D 17/02 - Séparation de liquides non miscibles
  • C02F 1/68 - Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout par addition de substances spécifiées, pour améliorer l'eau potable, p.ex. par addition d'oligo-éléments
  • B01D 35/00 - Dispositifs filtrants ayant des particularités non couvertes spécifiquement par les groupes , applications non couvertes spécifiquement par les groupes ; Dispositifs auxiliaires pour la filtration; Structure du carter de filtre
  • B01J 20/22 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance organique
  • B01J 20/26 - Composés macromoléculaires synthétiques
  • C08L 101/14 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par des propriétés physiques, p.ex. anisotropie, viscosité ou conductivité électrique les composés macromoléculaires étant solubles dans l'eau ou gonflables dans l'eau, p.ex. gels aqueux
  • B01J 20/10 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance inorganique contenant de la silice ou un silicate
  • B01J 20/12 - Argiles d'origine naturelle ou terres décolorantes
  • C08L 33/02 - Homopolymères ou copolymères des acides; Leurs sels métalliques ou d'ammonium

71.

DIFFERENTIAL REDUCTION GEAR

      
Numéro d'application JP2018009492
Numéro de publication 2018/168763
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-03-12
Date de publication 2018-09-20
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Inventeur(s) Haraguchi Kunihiro

Abrégé

[Problem] To enlarge the outside diameter of a roller and increase strength even when a roller bearing is used in the journaling of an externally toothed gear. [Solution] A differential reduction gear 1A-1C comprising an internally toothed gear 4 provided within a casing 2, an input shaft 12 that coaxially passes through the internally toothed gear 4, an externally toothed gear 17A-17C that is externally fitted via an eccentric-part bearing on an eccentric part 14A-14C provided to the input shaft 12 and that meshes with the inner side of the internally toothed gear 4, and an output shaft 9 provided with pins 22, 22… loosely inserted into the externally toothed gear 17A-17C, ball bearings 10, 11 being placed between the input shaft 12 and the output shaft 9, and the output shaft 9 being rotated via the pin 22 at a prescribed reduction ratio due to the rotation of the input shaft 12 causing the externally toothed gear 17A-17C to move eccentrically relative to the internally toothed gear 4; wherein the eccentric-part bearing is a cageless roller needle bearing 15, and the diameter D2 of the eccentric part 14A-14C in the input shaft 12 is less than the diameter D1 of a journaling part 13 to which the ball bearings 10, 11 are provided.

Classes IPC  ?

  • F16H 1/32 - Transmissions à engrenages pour transmettre un mouvement rotatif avec engrenages à mouvement orbital dans lesquels l'axe central de la transmission est situé à l'intérieur de la périphérie d'un engrenage orbital
  • F16C 19/46 - Roulements à aiguilles avec une rangée d'aiguilles

72.

DIFFERENTIAL REDUCTION GEAR

      
Numéro d'application JP2018009493
Numéro de publication 2018/168764
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-03-12
Date de publication 2018-09-20
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Inventeur(s) Haraguchi Kunihiro

Abrégé

[Problem] To increase the coaxiality between an input shaft and a casing and assemble the input shaft with precision. [Solution] A differential reduction gear 1A-1C comprising an output shaft 9 supported within a casing 2 via a cross-roller bearing 8, an internally toothed gear 4 provided within the casing 2, an input shaft 12 that coaxially passes through the output shaft 9 and the internally toothed gear 4 and that is supported via ball bearings 10, 11, an externally toothed gear 17A-17C that is externally fitted via a needle bearing 15 on an eccentric part 14A-14C provided to the input shaft 12 and that meshes with the inner side of the internally toothed gear 4, and a carrier 24 that is linked to the output shaft 9 via pins 22, 2… loosely inserted into the externally toothed gear 17A-17C, the output shaft 9 being rotated via the pin 22 at a prescribed reduction ratio due to the rotation of the input shaft 12 causing the externally toothed gear 17A-17C to move eccentrically relative to the internally toothed gear 4; wherein an outer race 10a of the ball bearing 10 is supported by the casing 2 and the carrier 24.

Classes IPC  ?

  • F16H 1/32 - Transmissions à engrenages pour transmettre un mouvement rotatif avec engrenages à mouvement orbital dans lesquels l'axe central de la transmission est situé à l'intérieur de la périphérie d'un engrenage orbital
  • F16C 35/067 - Leur fixation dans la carcasse d'enveloppe
  • F16H 57/021 - Structures de support d'arbres, p.ex. parois de séparation, orifices de logement de paliers, parois de carter ou couvercles avec paliers
  • F16H 57/04 - Caractéristiques relatives à la lubrification ou au refroidissement
  • F16J 15/3204 - Joints d'étanchéité entre deux surfaces mobiles l'une par rapport à l'autre par joints élastiques, p.ex. joints toriques avec au moins une lèvre

73.

SPEED REDUCTION DEVICE

      
Numéro d'application JP2018009494
Numéro de publication 2018/168765
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-03-12
Date de publication 2018-09-20
Propriétaire NISSEI CORPORATION (Japon)
Inventeur(s) Kohamada Suguru

Abrégé

[Problem] To provide a speed reduction device with which the entire speed reducer can be prevented from falling out of a securing section. [Solution] A speed reduction device equipped with: a casing main member 28 having cylindrical internal tooth sections 60A, 60B, and a casing guide member 30; planetary gears 22A, 22B having external tooth sections 38A, 38B for meshing with the internal tooth sections 60A, 60B of the casing main member 28; a first carrier member 24 and a second carrier member 26 for supporting the planetary gears 22A, 22B and rotatably supporting the casing main member 28 and the casing guide member 30; a securing section 2 to which the first carrier member 24 is secured; and bolts 84 arranged on the securing section 2. A groove 80 is formed in the first carrier member 24, and the bolts 84 extend to the interior of the groove 80.

Classes IPC  ?

  • F16H 1/32 - Transmissions à engrenages pour transmettre un mouvement rotatif avec engrenages à mouvement orbital dans lesquels l'axe central de la transmission est situé à l'intérieur de la périphérie d'un engrenage orbital

74.

Polymerizable composition comprising silsesquioxane compound having acrylic group

      
Numéro d'application 15757628
Numéro de brevet 10703863
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-09-01
Date de la première publication 2018-08-30
Date d'octroi 2020-07-07
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Yasui, Kei
  • Nagasawa, Takehiro
  • Kato, Taku
  • Shuto, Keisuke

Abrégé

There is provided a polymerizable composition suitable to produce a molded product in which high refractive index is maintained, and dimensional change and a transmittance change further caused by a high-temperature heat history can be suppressed. A polymerizable composition comprising (a) 100 parts by mass of a specific reactive silsesquioxane compound and (b) 10 to 2,000 parts by mass of a specific fluorene compound, and a cured product obtained by curing the polymerizable composition, and a resin lens manufactured from the polymerizable composition.

Classes IPC  ?

  • C08G 77/20 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes aliphatiques non saturés
  • C08F 230/08 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et contenant du phosphore, du sélénium, du tellure ou un métal contenant un métal contenant du silicium
  • C08F 290/06 - Polymères prévus par la sous-classe
  • C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
  • G02B 3/00 - Lentilles simples ou composées
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
  • C08G 77/04 - Polysiloxanes
  • C08G 77/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone
  • B29D 11/00 - Fabrication d'éléments optiques, p.ex. lentilles ou prismes
  • H01L 27/146 - Structures de capteurs d'images
  • C08F 222/10 - Esters
  • C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
  • B29K 83/00 - Utilisation de polymères contenant dans la chaîne principale uniquement du silicium avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone comme matière de moulage

75.

Production method for forsterite fine particles

      
Numéro d'application 15962381
Numéro de brevet 11279624
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-04-25
Date de la première publication 2018-08-30
Date d'octroi 2022-03-22
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Isaji, Tadayuki
  • Ogihara, Takashi
  • Kodera, Takayuki

Abrégé

A method for producing forsterite microparticles having a primary particle size of 1, to 50 nm, as determined through electron microscopy. The method includes spray-drying, in an atmosphere of 50° C. or higher and lower than 300° C., a solution containing a water-soluble magnesium salt and colloidal silica at a mole ratio of magnesium atoms to silicon atoms (Mg/Si) of 2; and subsequently, firing the spray-dried product in air at 800 to 1,000° C.

Classes IPC  ?

  • C01B 33/24 - Silicates alcalino-terreux
  • C01B 33/22 - Silicates de magnésium
  • C04B 35/20 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base d'oxydes à base de silicates autres que l'argile riches en oxyde de magnésium
  • C09C 1/30 - Acide silicique
  • C09C 1/02 - Composés du magnésium ou des métaux alcalino-terreux
  • C04B 35/64 - Procédés de cuisson ou de frittage

76.

Liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element

      
Numéro d'application 15748461
Numéro de brevet 11111387
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-07-29
Date de la première publication 2018-08-30
Date d'octroi 2021-09-07
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s) Nagi, Tatsuya

Abrégé

The present invention relates to a polymer composition which contains (A) a photosensitive side-chain polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range and has a repeating unit comprising a vertically aligning group, and (B) an organic solvent. The present invention provides: a liquid crystal alignment film which has excellent tilt angle characteristics, while being provided with alignment controllability with high efficiency; a polymer composition which enables the achievement of this liquid crystal alignment film; a twisted nematic liquid crystal display element; and a vertical field switching mode liquid crystal display element.

Classes IPC  ?

  • C08L 101/02 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par la présence de groupes déterminés
  • C08F 238/00 - Copolymères de composés contenant une ou plusieurs liaisons triples carbone-carbone
  • C08F 232/08 - Copolymères de composés cycliques ne contenant pas de radicaux aliphatiques non saturés dans une chaîne latérale et contenant une ou plusieurs liaisons doubles carbone-carbone dans un système carbocyclique contenant des cycles condensés
  • C09K 19/02 - Substances formant des cristaux liquides caractérisées par les propriétés optiques, électriques ou physiques des constituants, en général
  • C09K 19/38 - Polymères, p.ex. polyamides
  • C08F 220/34 - Esters contenant de l'azote
  • C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
  • C08F 20/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
  • C08F 216/36 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un radical alcool, éther, aldéhyde, cétone, acétal ou céta par un radical cétone
  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C08L 101/12 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par des propriétés physiques, p.ex. anisotropie, viscosité ou conductivité électrique
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement

77.

Method of manufacturing luminescent nanocarbon

      
Numéro d'application 15755359
Numéro de brevet 10858580
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-08-24
Date de la première publication 2018-08-30
Date d'octroi 2020-12-08
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hiejima, Yusuke
  • Hayashi, Hiromichi
  • Kanakubo, Mitsuhiro

Abrégé

An object is to provide a method of manufacturing luminescent nanocarbon with which the luminescent nanocarbon can be efficiently manufactured in large amounts. This method is to manufacture luminescent nanocarbon (Product) from a raw material aqueous solution that contains a carbon source compound and a nitrogen source compound. This method includes a reaction step of heating the raw material aqueous solution from a storage container (Reservoir) in a heating section (Furnace) to react the raw material aqueous solution at a reaction temperature of 100° C. or higher and 500° C. or lower and a cooling step of cooling a reaction solution that contains a reaction product generated in the reaction step. The cooling step is carried out in a bath (Ice bath).

Classes IPC  ?

  • C09K 11/65 - Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances inorganiques luminescentes contenant du carbone
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p.ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures
  • C09K 11/08 - Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances inorganiques luminescentes

78.

Resist underlayer film forming composition for lithography containing hydrolyzable silane having carbonate skeleton

      
Numéro d'application 15542605
Numéro de brevet 10838303
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-01-25
Date de la première publication 2018-08-23
Date d'octroi 2020-11-17
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Shibayama, Wataru
  • Nakajima, Makoto
  • Goto, Yuichi
  • Sakamoto, Rikimaru

Abrégé

A resist underlayer film forming composition for lithography for forming a resist underlayer film that can be used as a hard mask, including: a hydrolyzable silane, a hydrolysis product thereof, a hydrolysis condensate thereof, or a combination thereof as a silane, wherein the hydrolyzable silane includes at least one hydrolyzable silane selected from the group made of hydrolyzable silanes of Formula (1), Formula (2), and Formula (3): A method for producing a semiconductor device including: forming an organic underlayer film on a semiconductor substrate; applying the resist underlayer film forming composition onto the organic underlayer film and baking the composition to form a resist underlayer film; applying a resist film forming composition onto the resist underlayer film to form a resist film; exposing the resist film to light; developing the resist film after exposure to obtain a resist pattern; and etching in this order.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • C08G 77/18 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène à des groupes alcoxyle ou aryloxyle
  • C08G 77/28 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène groupes contenant du soufre
  • G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
  • C08G 77/14 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
  • H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
  • C08G 77/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone
  • C09D 183/08 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène
  • C08G 77/44 - Polymères séquencés ou greffés contenant des segments de polysiloxanes ne contenant que des segments de polysiloxanes
  • C08G 77/08 - Procédés de préparation caractérisés par les catalyseurs utilisés
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou

79.

Fungicidal or bactericidal composition, and method for controlling diseases

      
Numéro d'application 15945786
Numéro de brevet 10231454
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-04-05
Date de la première publication 2018-08-09
Date d'octroi 2019-03-19
Propriétaire Nissan Chemical Industries, Ltd. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kuwahara, Hidehito
  • Hasunuma, Nakako
  • Fukami, Yasuhiro

Abrégé

To provide a novel pesticidal composition, particularly a composition for a fungicide. A fungicidal or bactericidal composition comprising one or more compounds selected from oxime-substituted amide compounds represented by the formula (I), or their N-oxides or salts, and one or more compounds selected from known fungicidal or bactericidal compounds: 5 represents methyl, etc.

Classes IPC  ?

  • A01N 43/60 - Diazines-1,4; Diazines-1,4 hydrogénées
  • A01N 43/36 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés hétérocycliques comportant des cycles avec un atome d'azote comme unique hétéro-atome du cycle des cycles à cinq chaînons
  • A01N 43/78 - Thiazoles-1,3; Thiazoles-1,3 hydrogénés
  • A01N 37/18 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés organiques comportant un atome de carbone possédant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus deux liaisons à un contenant le groupe —CO—N, p.ex. amides ou imides d'acide carboxylique; Leurs thio-analogues
  • A01N 43/74 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés hétérocycliques comportant des cycles avec des atomes d'azote et des atomes d'oxygène ou de soufre, comme hétéro-atomes du cycle des cycles à cinq chaînons avec un atome d'azote et soit un atome d'oxygène, soit un atome de soufre, en positions 1,3
  • A01N 43/56 - Diazoles-1,2; Diazoles-1,2 hydrogénées
  • A01N 43/40 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés hétérocycliques comportant des cycles avec un atome d'azote comme unique hétéro-atome du cycle des cycles à six chaînons

80.

Polymer containing triazine ring and composition containing same

      
Numéro d'application 15503330
Numéro de brevet 10717818
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-08-12
Date de la première publication 2018-08-02
Date d'octroi 2020-07-21
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nishimura, Naoya
  • Kaseyama, Takahiro
  • Yasui, Kei
  • Maeda, Daisuke

Abrégé

It is possible to obtain a thin film that can form a minute pattern and that has a high index of refraction by using a polymer containing a triazine ring and containing a repeating unit structure represented for example by formula (22) or (26).

Classes IPC  ?

  • C08G 73/06 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromolécule; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage
  • G03F 7/022 - Quinonediazides
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/30 - Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs

81.

Sugar derivative gelators

      
Numéro d'application 15755393
Numéro de brevet 10544181
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-08-25
Date de la première publication 2018-07-26
Date d'octroi 2020-01-28
Propriétaire
  • KYUSHU UNIVERSITY (Japon)
  • INSTITUTE OF SYSTEMS, INFORMATION TECHNOLOGIES AND NANOTECHNOLOGIES (Japon)
  • NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ono, Fumiyasu
  • Saruhashi, Koichiro
  • Hirata, Osamu
  • Shinkai, Seiji
  • Yamamoto, Tatsuhiro

Abrégé

A novel gelator including a sugar derivative; a gelator including a compound of Formula (1) or Formula (2): 4 are hydroxy groups.

Classes IPC  ?

  • C07H 9/04 - Acétals cycliques
  • A61K 8/60 - Sucres; Leurs dérivés
  • C09K 3/00 - Substances non couvertes ailleurs
  • A61K 47/26 - Hydrates de carbone, p.ex. polyols ou sucres alcoolisés, sucres aminés, acides nucléiques, mono-, di- ou oligosaccharides; Leurs dérivés, p.ex. polysorbates, esters d’acide gras de sorbitan ou glycyrrhizine
  • A61Q 1/02 - Préparations contenant des colorants cutanés, p.ex. pigments
  • A61K 8/04 - Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette caractérisés par une forme physique particulière Émulsions
  • C07B 37/04 - Substitution
  • C07C 43/32 - Composés comportant des groupes ou des groupes
  • C07C 233/03 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone acycliques ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués avec des atomes de carbone de groupes carboxamides liés à des atomes d'hydrogène

82.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION COMPRISING EPOXY ADDUCT HAVING LONG-CHAIN ALKYL GROUP

      
Numéro d'application 15736262
Statut En instance
Date de dépôt 2016-06-20
Date de la première publication 2018-06-28
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Endo, Takafumi
  • Saito, Daigo
  • Karasawa, Ryo
  • Sakamoto, Rikimaru

Abrégé

A resist underlayer film-forming composition in which a coating film having high flattening properties is formed on a substrate. A resist underlayer film-forming composition including an epoxy adduct (C) obtained by reacting an epoxy group-containing compound (A) with an epoxy adduct-forming compound (B), wherein one or both of the epoxy group-containing compound (A) and the epoxy adduct-forming compound (B) contain an optionally branched alkyl group having a carbon atom number of three or more. The epoxy adduct-forming compound (B) is at least one compound selected from the group consisting of carboxylic acid (B1), carboxylic anhydride (B2), a phenol compound (B3), a hydroxyl group-containing compound (B4), a thiol compound (B5), an amino compound (B6), and an imide compound (B7). The optionally branched alkyl group having a carbon atom number of three or more is contained in the epoxy adduct-forming compound (B). The optionally branched alkyl group has a C3-19 alkyl group.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • C09D 163/00 - Compositions de revêtement à base de résines époxy; Compositions de revêtement à base de dérivés des résines époxy
  • C09D 5/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produits; Apprêts en pâte
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/26 - Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet

83.

Radiation sensitive composition

      
Numéro d'application 15735498
Numéro de brevet 11561472
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-06-07
Date de la première publication 2018-06-28
Date d'octroi 2023-01-24
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nakajima, Makoto
  • Takase, Kenji
  • Takeda, Satoshi
  • Shibayama, Wataru

Abrégé

1 is an organic group of Formula (1-2) 7 is an organic group of Formula (2-1) 9 is a hydrolyzable group.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/30 - Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
  • G03F 7/36 - Dépouillement selon l'image non couvert par les groupes , p.ex. utilisant un courant gazeux, un plasma
  • C07F 7/18 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si ainsi qu'une ou plusieurs liaisons C—O—Si
  • C08G 77/50 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone dans lesquels au moins deux atomes de silicium, mais pas la totalité, sont liés autrement que par des atomes d'oxygène par des liaisons au carbone
  • C08G 77/14 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
  • C08G 77/06 - Procédés de préparation
  • C08G 77/18 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène à des groupes alcoxyle ou aryloxyle
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs
  • G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage
  • H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques

84.

Solvent-free light-curable adhesive composition

      
Numéro d'application 15579062
Numéro de brevet 10604681
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-06-01
Date de la première publication 2018-06-14
Date d'octroi 2020-03-31
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Maeda, Daisuke
  • Nishimura, Naoya

Abrégé

A solvent-free light-curable adhesive composition includes: for example, a triazine ring-containing polymer including a repeating unit structure represented by formula [3] and having a weight-average molecular weight of 500-5000; and a reactive diluent such as N-vinylformamide, the composition not including a solvent. The solvent-free light-curable adhesive composition has good compatibility with acrylic materials and the like, which are adhesive components, even without including a solvent.

Classes IPC  ?

  • C09J 11/08 - Additifs macromoléculaires
  • C09J 4/00 - Adhésifs à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable
  • C09J 11/06 - Additifs non macromoléculaires organiques
  • C09J 179/04 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
  • C08F 226/02 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison simple ou double à l'azote ou par un hétérocyc par une simple ou une double liaison à l'azote
  • C09J 7/10 - Adhésifs sous forme de films ou de pellicules sans support
  • C09J 133/04 - Homopolymères ou copolymères d'esters
  • C08G 73/02 - Polyamines
  • C09J 133/14 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
  • C09J 7/30 - Adhésifs sous forme de films ou de pellicules caractérisés par la composition de l’adhésif
  • C08G 69/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison amide carboxylique dans la chaîne principale de la macromolécule
  • C08G 73/06 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromolécule; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C09J 133/08 - Homopolymères ou copolymères d'esters de l'acide acrylique
  • C09J 133/10 - Homopolymères ou copolymères d'esters de l'acide méthacrylique
  • G02B 1/111 - Revêtements antiréfléchissants utilisant des couches comportant des matériaux organiques
  • H01L 31/0216 - Revêtements
  • C08K 5/3492 - Triazines
  • C08F 220/14 - Esters méthyliques
  • C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
  • C08F 220/10 - Esters

85.

Charge-transporting varnish and organic electroluminescent element

      
Numéro d'application 15736370
Numéro de brevet 10590287
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-06-10
Date de la première publication 2018-06-14
Date d'octroi 2020-03-17
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nakazawa, Taichi
  • Endo, Toshiyuki
  • Takayama, Yuki

Abrégé

Provided is a charge-transporting varnish which comprises an amide compound containing fluorine atoms and represented by formula (1) and a charge-transporting substance. 3 each represent a given fluorinated aryl or aralkyl group.]

Classes IPC  ?

  • H01B 1/00 - Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisés; Emploi de matériaux spécifiés comme conducteurs
  • C09D 5/24 - Peintures électriquement conductrices
  • C07C 233/00 - Amides d'acides carboxyliques
  • C07C 233/75 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples avec le radical hydrocarboné substitué lié à l'atome d'azote du groupe carboxamide par un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons
  • C07D 209/88 - Carbazoles; Carbazoles hydrogénés avec des hétéro-atomes ou des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène, p.ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
  • C07C 233/80 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino avec le radical hydrocarboné substitué lié à l'atome d'azote du groupe carboxamide par un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons
  • H01L 51/50 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
  • H01B 1/12 - Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisés; Emploi de matériaux spécifiés comme conducteurs composés principalement d'autres substances non métalliques substances organiques
  • C07B 43/06 - Formation ou introduction de groupes fonctionnels contenant de l'azote de groupes amide
  • C07C 13/567 - Fluorènes; Fluorènes complètement ou partiellement hydrogénés
  • C07C 25/13 - Hydrocarbures halogénés aromatiques monocycliques contenant du fluor

86.

Method for preparing branched alcohol

      
Numéro d'application 15577651
Numéro de brevet 10179755
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-05-27
Date de la première publication 2018-06-14
Date d'octroi 2019-01-15
Propriétaire
  • NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY (Japon)
  • NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kawanami, Hajime
  • Ishizaka, Takayuki
  • Fujiyama, Hitomi
  • Kakiuchi, Nobuyuki
  • Shiga, Norihito

Abrégé

A method for preparing a branched alcohol by dimerizing an aliphatic monoalcohol having three or more carbon atoms in the presence of a base and a catalyst. The dimerization reaction is performed under atmospheric pressure while injecting a hydrogen gas. With this method, it is possible to obtain a dimerized alcohol with excellent yield even when using a branched aliphatic monoalcohol as the starting material.

Classes IPC  ?

  • C07C 29/34 - Préparation de composés comportant des groupes hydroxyle ou O-métal liés à un atome de carbone ne faisant pas partie d'un cycle aromatique à six chaînons par des réactions augmentant le nombre d'atomes de carbone sans formation de groupes hydroxyle par condensation impliquant des groupes hydroxyle, ou leurs esters d'acides minéraux, p.ex. réaction de Guerbet
  • C07C 31/125 - Alcools monohydroxyliques acycliques contenant de cinq à vingt-deux atomes de carbone
  • B01J 31/02 - Catalyseurs contenant des hydrures, des complexes de coordination ou des composés organiques contenant des composés organiques ou des hydrures métalliques 

87.

Coating composition and optical member

      
Numéro d'application 15570534
Numéro de brevet 11634589
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-04-27
Date de la première publication 2018-05-31
Date d'octroi 2023-04-25
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Koyama, Yoshinari
  • Furukawa, Tomoki
  • Asada, Motoko

Abrégé

There are provided a coating composition being possible to form a cured film which has excellent transparency and weather resistance, and especially hardness. A coating composition obtained by which a silicon-containing substance as a component (M) and a silica colloidal particle having a primary particle diameter of 2 to 80 nm as a component (S) are mixed, and then the component (M) is hydrolyzed, and the resulting aqueous solution is subsequently mixed with a colloidal particle (C) wherein a component (F) is a modified metal oxide colloidal particle (C) having a primary particle diameter of 2 to 100 nm, which includes a metal oxide colloidal particle (A) having a primary particle diameter of 2 to 60 nm as a core, whose surface is coated with a coating (B) formed of an acidic oxide colloidal particle.

Classes IPC  ?

  • C09D 5/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produits; Apprêts en pâte
  • C09D 183/04 - Polysiloxanes
  • G02B 1/11 - Revêtements antiréfléchissants
  • G02B 1/14 - Revêtements protecteurs, p.ex. revêtements durs
  • C09C 3/06 - Traitement par des composés inorganiques
  • C09C 1/00 - Traitement de substances inorganiques particulières, autres que des charges fibreuses ; Préparation du noir de carbone
  • C09C 1/24 - Oxydes de fer
  • C09C 1/04 - Composés du zinc
  • C09D 7/40 - Adjuvants
  • C01B 33/14 - Silice colloïdale, p.ex. sous forme de dispersions, gels, sols
  • C09C 1/36 - Composés du titane
  • C09C 1/14 - Composés du plomb
  • B05D 1/18 - Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces par immersion
  • B05D 3/02 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides par cuisson
  • C08K 3/36 - Silice
  • C08K 9/10 - Ingrédients encapsulés
  • C08K 3/22 - Oxydes; Hydroxydes de métaux

88.

Charge-transporting varnish, and organic electroluminescent element

      
Numéro d'application 15576588
Numéro de brevet 10720584
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-05-25
Date de la première publication 2018-05-31
Date d'octroi 2020-07-21
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Endo, Toshiyuki
  • Nakazawa, Taichi

Abrégé

Provided are: a charge-transporting varnish that contains a charge-transporting substance comprising an oligoaniline derivative represented by formula (1), a charge transporting substance that does not contain fluorine atoms, and an organic solvent; and an organic electroluminescent element including a thin film obtained from the varnish. 10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, or an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group or heteroaryl group that may be substituted; A represents a prescribed fluorine atom-containing substituent; and k represents an integer from 1 to 20.)

Classes IPC  ?

  • H01B 1/12 - Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisés; Emploi de matériaux spécifiés comme conducteurs composés principalement d'autres substances non métalliques substances organiques
  • H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
  • C07C 231/12 - Préparation d'amides d'acides carboxyliques par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes carboxamide
  • C07C 233/80 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino avec le radical hydrocarboné substitué lié à l'atome d'azote du groupe carboxamide par un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons
  • C09K 11/06 - Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances organiques luminescentes
  • C07C 209/10 - Préparation de composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné par substitution de groupes fonctionnels par des groupes amino par substitution d'atomes d'halogène avec formation de groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ou à partir d'amines ayant des atomes d'azote liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons
  • C07C 211/55 - Diphénylamines
  • C07C 231/02 - Préparation d'amides d'acides carboxyliques à partir d'acides carboxyliques ou à partir de leurs esters, anhydrides ou halogénures par réaction avec de l'ammoniac ou des amines
  • C07C 231/14 - Préparation d'amides d'acides carboxyliques par formation de groupes carboxamide combinée avec des réactions n'impliquant pas les groupes carboxamide
  • C08G 73/02 - Polyamines
  • C09D 5/24 - Peintures électriquement conductrices
  • C09D 179/02 - Polyamines
  • C07B 61/00 - Autres procédés généraux
  • H01L 51/50 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)

89.

PHOTOSENSITIVE FIBERS AND METHOD FOR FORMING FIBER PATTERN

      
Numéro d'application 15568482
Statut En instance
Date de dépôt 2016-04-22
Date de la première publication 2018-05-31
Propriétaire
  • Nissan Chemical Industries, Ltd. (Japon)
  • Toyama Prefecture (Japon)
Inventeur(s)
  • Kishioka, Takahiro
  • Yokoyama, Yoshiyuki

Abrégé

The invention provides a method capable of conveniently producing an intricate and fine resist pattern. The invention also provides a fiber containing a positive-type or negative-type photosensitive material.

Classes IPC  ?

  • D01D 5/00 - Formation des filaments, fils ou similaires
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/022 - Quinonediazides
  • D01F 6/50 - Filaments, ou similaires, faits par l’homme, à un seul composant, formés de polymères synthétiques; Leur fabrication à partir de mélanges de polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone comme constituant majeur avec d'autres polymères ou des composés de bas poids moléculaire de polyalcools, polyacétals ou polycétals
  • D01F 1/10 - Autres agents modifiant les propriétés de ces filaments

90.

Composition for coating resist pattern

      
Numéro d'application 15577015
Numéro de brevet 10558119
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-05-20
Date de la première publication 2018-05-31
Date d'octroi 2020-02-11
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Shibayama, Wataru
  • Nakajima, Makoto
  • Shigaki, Shuhei
  • Yaguchi, Hiroaki
  • Sakamoto, Rikimaru

Abrégé

The invention provides a composition for coating a resist pattern and reversing the pattern by utilizing a difference in etching rates. A composition for applying to a resist pattern includes a component (A) which is at least one compound selected from the group consisting of a metal oxide (a1), a polyacid (a2), a polyacid salt (a3), a hydrolyzable silane (a4), a hydrolysis product (a5) of the hydrolyzable silane, and a hydrolysis condensate (a6) of the hydrolyzable silane; and a component (B), which is an aqueous solvent, in which the hydrolyzable silane (a4) is (i) a hydrolyzable silane containing an organic group having an amino group, (ii) a hydrolyzable silane containing an organic group having an ionic functional group, (iii) a hydrolyzable silane containing an organic group having hydroxy group, or (iv) a hydrolyzable silane containing an organic group having a functional group convertible to hydroxy group.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
  • C09D 183/04 - Polysiloxanes
  • C08G 77/04 - Polysiloxanes
  • H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
  • G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet
  • G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage
  • G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs
  • C08G 77/26 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène groupes contenant de l'azote
  • C09D 183/08 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
  • C08G 77/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone

91.

Triazine ring-containing polymer, and composition for film formation use containing same

      
Numéro d'application 15578993
Numéro de brevet 10829593
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-06-01
Date de la première publication 2018-05-24
Date d'octroi 2020-11-10
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nishimura, Naoya
  • Kaseyama, Takahiro

Abrégé

A triazine ring-containing polymer which contains a repeating unit structure represented by, for example, formula [4] has a high refractive index and also has excellent solubility in various organic solvents including low-polarity solvents, hydrophobic solvents and low-boiling point solvents. A thin film having a high refractive index and excellent transparency can be formed using a composition for film formation use which contains the polymer.

Classes IPC  ?

  • C08G 73/06 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromolécule; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C09D 179/04 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08G 73/02 - Polyamines

92.

Culture medium additive, culture medium composition, and method for culturing cells or tissue using same

      
Numéro d'application 15566981
Numéro de brevet 10914725
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-04-15
Date de la première publication 2018-05-17
Date d'octroi 2021-02-09
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Abe, Natsuki
  • Nishino, Taito
  • Otani, Ayako

Abrégé

The invention provides a medium additive, medium composition and a culture method and the like, capable of efficiently culturing cells or tissues in a well dispersed state, and further, permitting cell image analysis of the cells or tissues. The medium additive or medium composition contains agar, which preferably is a low molecular weight agar having a weight average molecular weight of 10,000-60,000. Using same, cells or tissues can be cultured in a well-dispersed state in a medium, and a proliferation promoting effect for the cells or tissues can also be obtained. In addition, the cells can be cultured in any of a floating state and a precipitated state by adjusting the concentration of the aforementioned agar.

Classes IPC  ?

  • C08L 5/12 - Agar-agar; Ses dérivés
  • C12N 5/00 - Cellules non différenciées humaines, animales ou végétales, p.ex. lignées cellulaires; Tissus; Leur culture ou conservation; Milieux de culture à cet effet
  • G01N 33/50 - Analyse chimique de matériau biologique, p.ex. de sang ou d'urine; Test par des méthodes faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques par ligands; Test immunologique
  • C12Q 1/02 - Procédés de mesure ou de test faisant intervenir des enzymes, des acides nucléiques ou des micro-organismes; Compositions à cet effet; Procédés pour préparer ces compositions faisant intervenir des micro-organismes viables
  • C08B 37/12 - Agar-agar; Ses dérivés

93.

Film-forming composition for ink-jet coating

      
Numéro d'application 15580179
Numéro de brevet 10619073
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-06-01
Date de la première publication 2018-05-17
Date d'octroi 2020-04-14
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s) Nishimura, Naoya

Abrégé

A film-forming composition for ink-jet coating which comprises: a triazine-ring-containing polymer including, for example, the repeating unit structure represented by the following formula [3]; and an organic solvent comprising more than 50 mass % solvent based on a glycol dialkyl ether. The composition is less apt to corrode the heads of ink-jet coating devices, and droplets thereof are satisfactorily ejected in ink-jet coating. Therefore, with the composition, it is possible to easily produce a high-refractive-index film according to a desired pattern through pattern printing by an ink-jet coating device.

Classes IPC  ?

  • C09D 179/04 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • G02B 5/00 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques autres que les lentilles
  • C08G 73/02 - Polyamines
  • C08G 73/06 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromolécule; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C09D 7/20 - Diluants ou solvants
  • B41M 5/00 - Procédés de reproduction ou méthodes de reproduction ou de marquage; Matériaux en feuilles utilisés à cet effet

94.

Liquid crystal alignment agent for photo-alignment, aligning member, and retardation member

      
Numéro d'application 15578792
Numéro de brevet 10428274
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-05-27
Date de la première publication 2018-05-03
Date d'octroi 2019-10-01
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ito, Jun
  • Kanno, Yuta
  • Hatanaka, Tadashi

Abrégé

1-6 haloalkyl, etc., and n is an integer of 0 or 1.

Classes IPC  ?

  • C08L 33/06 - Homopolymères ou copolymères des esters d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'oxygène, faisant uniquement partie du radical carboxyle
  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C08F 20/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
  • G02F 1/13363 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p.ex. des polariseurs ou des réflecteurs Éléments à biréfringence, p.ex. pour la compensation optique
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
  • C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
  • C08F 267/06 - Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères d'acides polycarboxyliques non saturés ou de leurs dérivés tels que définis dans le groupe sur des polymères d'esters
  • G02B 27/26 - Autres systèmes optiques; Autres appareils optiques pour produire des effets stéréoscopiques ou autres effets de relief comprenant des moyens de polarisation

95.

Cured film formation composition, orientation material, and retardation material

      
Numéro d'application 15558172
Numéro de brevet 10570248
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-03-09
Date de la première publication 2018-04-26
Date d'octroi 2020-02-25
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Ito, Jun
  • Kanno, Yuta
  • Hatanaka, Tadashi

Abrégé

A cured-film formation composition that forms a cured film exhibiting excellent liquid-crystal orientation properties and excellent light transmission properties when the cured-film formation composition is used as an orientation material and a layer of a polymerizable liquid crystal is arranged thereon. A cured-film formation composition including a component (A) that is a compound obtained by reacting a cinnamic acid compound of Formula (1) below with a compound having at least one epoxy group in one molecule, 1-6 haloalkoxy, cyano, and nitro; and a component (B) that is a cross-linking agent, an orientation material which is obtained from the composition, and a retardation material which is obtained from the composition.

Classes IPC  ?

  • C08G 59/16 - Polycondensats modifiés par post-traitement chimique par des acides monocarboxyliques ou par leurs anhydrides, halogénures ou esters à bas poids moléculaire
  • C09D 163/10 - Résines époxy modifiées par des composés non saturés
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
  • C08G 59/62 - Alcools ou phénols
  • G02F 1/13363 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p.ex. des polariseurs ou des réflecteurs Éléments à biréfringence, p.ex. pour la compensation optique
  • C09D 7/40 - Adjuvants
  • C08G 59/40 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde caractérisées par les agents de durcissement utilisés
  • C09D 201/00 - Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires non spécifiés
  • C08G 59/50 - Amines
  • C08G 81/02 - Composés macromoléculaires obtenus par l'interréaction de polymères en l'absence de monomères, p.ex. polymères séquencés au moins un des polymères étant obtenu par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone
  • C09D 163/00 - Compositions de revêtement à base de résines époxy; Compositions de revêtement à base de dérivés des résines époxy
  • C09D 187/00 - Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires non spécifiés, obtenus autrement que par des réactions de polymérisation ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone
  • G02B 5/30 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques autres que les lentilles Éléments polarisants
  • C07C 67/26 - Préparation d'esters d'acides carboxyliques par réaction d'acides carboxyliques ou de leurs dérivés avec une liaison éther carbone-oxygène, p.ex. acétal, tétrahydrofuranne avec un cycle oxirane
  • C07C 69/65 - Esters contenant des atomes d'halogène d'acides non saturés
  • C07C 69/618 - Esters d'acides carboxyliques avec un groupe carboxyle lié à un atome de carbone acyclique et comportant un cycle aromatique à six chaînons dans la partie acide avec insaturation autre que celle du cycle aromatique à six chaînons
  • C07C 69/734 - Ethers

96.

Composition for forming hole collecting layer of photosensor element, and photosensor element

      
Numéro d'application 15558676
Numéro de brevet 10340461
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-03-16
Date de la première publication 2018-04-26
Date d'octroi 2019-07-02
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Oshima, Juro
  • Yoshimoto, Takuji

Abrégé

A photosensor element that is capable of achieving a good balance between high photoelectric conversion efficiency and low dark current is able to be obtained by using a composition for forming a hole collecting layer of a photosensor element, which contains an organic solvent and a charge-transporting material that is composed, for example, of an aniline derivative or thiophene derivative represented by one of formulae (AA)-(DD) and having a molecular weight of 200-2,000.

Classes IPC  ?

  • H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
  • C08G 73/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant de l'azote, avec ou sans oxygène ou carbone, non prévus dans les groupes
  • C08G 61/12 - Composés macromoléculaires contenant d'autres atomes que le carbone dans la chaîne principale de la macromolécule
  • H01L 27/146 - Structures de capteurs d'images
  • H01L 51/42 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement

97.

Method for preparing liquid medium composition, and preparation device and kit therefor

      
Numéro d'application 15565022
Numéro de brevet 11345762
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-04-07
Date de la première publication 2018-04-26
Date d'octroi 2022-05-31
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Hayashi, Hisato
  • Saruhashi, Koichiro
  • Kanaki, Tatsuro

Abrégé

The present invention provides a method capable of easily mixing any liquid containing a linking substance such as a divalent metal cation and the like with a liquid containing a particular compound at a high concentration, and capable of producing a liquid medium composition comprising fine structures dispersed therein, and a production device therefor and a kit therefor. The first liquid containing a particular compound is passed through a through-hole having a given cross-sectional area formed in a nozzle part at a given flow rate and injected into the second liquid at a given flow rate. By this simple operation, a structure in which the particular compound is bonded via the linking substance is formed, and the structure is preferably dispersed in a mixture of the both liquids.

Classes IPC  ?

  • C08B 37/00 - Préparation des polysaccharides non prévus dans les groupes ; Leurs dérivés
  • C12N 5/00 - Cellules non différenciées humaines, animales ou végétales, p.ex. lignées cellulaires; Tissus; Leur culture ou conservation; Milieux de culture à cet effet
  • A61J 1/20 - Dispositions pour le transfert des liquides, p.ex. du flacon à la seringue
  • B01J 19/24 - Réacteurs fixes sans élément interne mobile
  • C08J 3/205 - Formation de mélanges de polymères avec des additifs, p.ex. coloration en présence d'une phase liquide

98.

SACCHARIFICATION REACTION LIQUID, SACCHARIFICATION ENZYME COMPOSITION, PRODUCTION METHOD FOR SUGAR, AND PRODUCTION METHOD FOR ETHANOL

      
Numéro d'application JP2017037014
Numéro de publication 2018/070478
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-10-12
Date de publication 2018-04-19
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Odaka, Kazutoshi
  • Sekiguchi, Kazutoshi

Abrégé

A saccharification reaction liquid for saccharification of cellulose and/or hemicellulose, the reaction liquid comprising cellulose and/or hemicellulose, a saccharification enzyme, silica or a silica-containing substance, and at least one compound (A) selected from the group consisting of polyhydric alcohol compounds represented by general formula (1) and derivatives thereof, and acetylene glycols represented by general formula (2) and alkylene oxide adducts thereof. The symbols in the chemical formulas are as defined in the description.

Classes IPC  ?

  • C13K 1/02 - Glucose; Sirops glucosés obtenus par saccharification de matières cellulosiques
  • C12P 7/10 - Ethanol en tant que produit chimique et non en tant que boisson alcoolique préparé comme sous-produit, ou préparé à partir d'un substrat constitué par des déchets ou par des matières cellulosiques d'un substrat constitué par des matières cellulosiques
  • C12P 19/14 - Préparation de composés contenant des radicaux saccharide préparés par action d'une carbohydrase, p.ex. par action de l'alpha-amylase

99.

Coating solution for resist pattern coating and method for forming pattern

      
Numéro d'application 15562817
Numéro de brevet 10613435
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-03-18
Date de la première publication 2018-04-19
Date d'octroi 2020-04-07
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nishita, Tokio
  • Sakamoto, Rikimaru

Abrégé

A coating solution has a polymer having a formula (1) structural unit, a formula (2) primary, secondary, or tertiary amine, and a formula (3) ester capable of dissolving the polymer and amine: 6 are each independently a linear or branched organic group having a 1-16 carbon atom number.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
  • H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
  • C09D 133/06 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'atome d'oxygène faisant uniquement partie du radical carboxyle
  • G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs
  • G03F 7/42 - Elimination des réserves ou agents à cet effet
  • H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques

100.

LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT AGENT, LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT FILM, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

      
Numéro d'application JP2017035120
Numéro de publication 2018/062353
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-09-28
Date de publication 2018-04-05
Propriétaire NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Mandai, Atsuhiko
  • Miyamoto, Yasuhiro
  • Ishikawa, Kazunori
  • Lee, Ju Young

Abrégé

The present invention provides: a liquid crystal alignment agent which is capable of suppressing coating defects that occur in an alignment film due to the effects of a wiring structure or C/H, and suppressing a defect in which the display of a liquid crystal display device becomes non-uniform, and which has a reduced viscosity and an increased proportion of resin components; and a liquid crystal alignment film using the liquid crystal alignment agent. The present invention pertains to a liquid crystal alignment agent characterized by containing: at least one polymer selected from the group consisting of a polyimide precursor and polyimide, which is an imidized product thereof, and containing a protecting group that is removed by heat; and a solvent component containing a solvent from Group A below, a solvent from Group B below, and isobutyl ketone. The solvent from Group A is at least one solvent selected from the group consisting of N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, and 1,3-dimethylimidazolidinone, and the solvent from Group B is at least one solvent selected from the group consisting of butyl cellosolve, 1-butoxy-2-propanol, 2-butoxy-1-propanol, and dipropylene glycol dimethyl ether.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
  • C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
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