A MEMS motion sensor and its manufacturing method are provided. The sensor includes a MEMS wafer including a proof mass and flexible springs suspending the proof mass and enabling the proof mass to move relative to an outer frame along mutually orthogonal x, y and z axes. The sensor includes top and bottom cap wafers including top and bottom cap electrodes forming capacitors with the proof mass, the electrodes being configured to detect a motion of the proof mass. Electrical contacts are provided on the top cap wafer, some of which are connected to the respective top cap electrodes, while others are connected to the respective bottom cap electrodes by way of insulated conducting pathways, extending along the z axis from one of the respective bottom cap electrodes and upward successively through the bottom cap wafer, the outer frame of the MEMS wafer and the top cap wafer.
G01C 19/5712 - Dispositifs sensibles à la rotation utilisant des masses vibrantes, p.ex. capteurs vibratoires de vitesse angulaire basés sur les forces de Coriolis utilisant des masses entraînées dans un mouvement de rotation alternatif autour d'un axe les dispositifs comportant une structure micromécanique
G01C 19/5755 - Dispositifs sensibles à la rotation utilisant des masses vibrantes, p.ex. capteurs vibratoires de vitesse angulaire basés sur les forces de Coriolis utilisant des masses planaires vibrantes entraînées dans une vibration de translation le long d’un axe - Details de structure ou topologie les dispositifs ayant une seule masse de détection
A MEMS and a method of manufacturing MEMS components are provided. The method includes providing a MEMS wafer stack including a top cap wafer, a MEMS wafer and optionally a bottom cap wafer. The MEMS wafer has MEMS structures patterned therein. The MEMS wafer and the cap wafers include insulated conducting channels forming insulated conducting pathways extending within the wafer stack. The wafer stack is bonded to an integrated circuit wafer having electrical contacts on its top side, such that the insulated conducting pathways extend from the integrated circuit wafer to the outer side of the top cap wafer. Electrical contacts on the outer side of the top cap wafer are formed and are electrically connected to the respective insulated conducting channels of the top cap wafer. The MEMS wafer stack and the integrated circuit wafer are then diced into components having respective sealed chambers and MEMS structures housed therein.
G01P 15/08 - Mesure de l'accélération; Mesure de la décélération; Mesure des chocs, c. à d. d'une variation brusque de l'accélération en ayant recours aux forces d'inertie avec conversion en valeurs électriques ou magnétiques
A three dimensional (3D) micro-electro-mechanical system (MEMS) device is provided. The device comprises a central MEMS wafer, and top and bottom cap wafers. The MEMS wafer includes a MEMS structure, such as an inertial sensor. The 5 top cap wafer, the bottom cap wafer and the MEMS wafers are stacked along a stacking axis and together form at least one hermetic cavity enclosing the MEMS structure. At least one of the top cap wafer and the bottom cap wafer is a silicon-on- insulator (SOI) cap wafer comprising a cap device layer, a cap handle layer and a cap insulating layer interposed between the cap device layer and the cap handle layer. At 10 least one electrically conductive path extends through the SOI cap wafer, establishing an electrical convection between an outer electrical contact provided on the SOI cap wafer and the MEMS structure.
B81C 1/00 - Fabrication ou traitement de dispositifs ou de systèmes dans ou sur un substrat
G01C 21/16 - Navigation; Instruments de navigation non prévus dans les groupes en utilisant des mesures de la vitesse ou de l'accélération exécutées à bord de l'objet navigant; Navigation à l'estime en intégrant l'accélération ou la vitesse, c. à d. navigation par inertie
G01C 19/5783 - Montages ou boîtiers non spécifiques à l'un des dispositifs couverts par les groupes
An integrated MEMS system having a MEMS chip, including a MEMS transducer, and at least one IC chip, including MEMS processing circuitry, and additional circuitry to process electrical signals. The MEMS chip can include first and second insulated conducting pathways. The first pathways conduct the MEMS-signals between the transducer and the IC chip, for processing; and the second conducting pathways can extend through the entire thickness of the MEMS chip, to conduct electrical signals to the IC chip, to be processed by additional circuitry.
G01P 15/125 - Mesure de l'accélération; Mesure de la décélération; Mesure des chocs, c. à d. d'une variation brusque de l'accélération en ayant recours aux forces d'inertie avec conversion en valeurs électriques ou magnétiques au moyen de capteurs à capacité
G01P 15/18 - Mesure de l'accélération; Mesure de la décélération; Mesure des chocs, c. à d. d'une variation brusque de l'accélération dans plusieurs dimensions
G01P 15/08 - Mesure de l'accélération; Mesure de la décélération; Mesure des chocs, c. à d. d'une variation brusque de l'accélération en ayant recours aux forces d'inertie avec conversion en valeurs électriques ou magnétiques
B81C 1/00 - Fabrication ou traitement de dispositifs ou de systèmes dans ou sur un substrat
A MEMS device is provided. The device includes a MEMS wafer, a top cap wafer and a bottom cap wafer. The top and bottom cap wafers are respectively bonded to first and second sides of the MEMS wafer, the MEMS and cap wafers being electrically conductive. The outer side of the top cap wafer is provided with electrical contacts. The MEMS wafer, the top cap wafer and the bottom cap wafer define a cavity for housing a MEMS structure. The device includes insulated conducting pathways extending from within the bottom cap wafer, through the MEMS wafer and through the top cap wafer. The pathways are connected to the respective electrical contacts on the top cap wafer, for routing electrical signals from the bottom cap wafer to the electrical contacts on the top cap wafer. A method of manufacturing the MEMS device is also provided.
H01L 27/14 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit ra
H01L 29/84 - Types de dispositifs semi-conducteurs commandés par la variation d'une force mécanique appliquée, p.ex. d'une pression
H01L 21/00 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
brevets
